JP2006210961A - 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1上にそれぞれ窒化ガリウム系化合物半導体からなるバッファ層2とn型コンタクト層3と発光層4とp型クラッド層5とp型コンタクト層6とが順に積層され、さらにp型コンタクト層6上に光透過性電極7が形成され、光透過性電極7上にはp側電極8が、n型コンタクト層3上にはn側電極9がそれぞれ形成された窒化ガリウム系化合物半導体発光素子に対し、p型コンタクト層6に光透過性電極7側から窪む凹部11を複数個形成することにより、発光層4から発せられ、発光素子内部を横方向に伝播する光が凹部11より発光素子外部へ取り出されやすくなり、全体として発光効率が改善される。
【選択図】図1
Description
前記第二導電型コンタクト層にp側電極を形成する領域を除いて前記光透過性電極側から窪む凹部が複数個形成されることを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子としたものである。これにより、発光層から発せられ、発光素子内部を横方向に伝播する光が、凹部より発光素子外部へ取り出されやすくなる。すなわち、発光素子外部への光の取り出し効率を改善することができる。
まず、表面が鏡面に仕上げられたサファイアの基板1を反応管内の基板ホルダーに載置した後、基板1の表面温度を1000℃に10分間保ち、水素ガスを流しながら基板を加熱することにより、基板1の表面に付着している有機物等の汚れや水分を取り除いた。
上記実施例との比較のために、凹部11を形成しない窒化ガリウム系化合物半導体発光素子を作製した。
2 バッファ層
3 n型コンタクト層
4 発光層
5 p型クラッド層
6 p型コンタクト層
7 光透過性電極
8 p側電極
9 n側電極
10 絶縁性膜
11 凹部
Claims (3)
- 窒化ガリウム系化合物半導体からなる第一導電型コンタクト層と発光層と第二導電型コンタクト層とが積層され、前記第二導電型コンタクト層上に光透過性電極を形成し、さらに前記光透過性電極上の一部にp側電極が形成される窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、
前記第二導電型コンタクト層にp側電極を形成する領域を除いて前記光透過性電極側から窪む凹部が複数個形成されることを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。 - 前記凹部は、前記発光層に達する深さまで形成されることを特徴とする請求項1記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
- 前記凹部の内面が、絶縁性膜により覆われることを特徴とする請求項1または2記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006131366A JP2006210961A (ja) | 2006-05-10 | 2006-05-10 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19145299A Division JP3973799B2 (ja) | 1999-07-06 | 1999-07-06 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006210961A true JP2006210961A (ja) | 2006-08-10 |
Family
ID=36967363
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JP2006131366A Pending JP2006210961A (ja) | 2006-05-10 | 2006-05-10 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
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JP (1) | JP2006210961A (ja) |
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