JP2006210506A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006210506A JP2006210506A JP2005018357A JP2005018357A JP2006210506A JP 2006210506 A JP2006210506 A JP 2006210506A JP 2005018357 A JP2005018357 A JP 2005018357A JP 2005018357 A JP2005018357 A JP 2005018357A JP 2006210506 A JP2006210506 A JP 2006210506A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resist
- substrate surface
- coating
- coating method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】回転塗布装置のコータカップ18内の湿度を40〜50%に維持し、基板10を保持部12に保持させ、有機溶剤を基板上に所定量吐出させてから回転数2000rpmで回転させる。このとき有機溶剤の蒸発により基板表面の温度が低下し、結露水が生成される。有機溶剤を均一に塗布させていたため基板面に均一に付着し、この状態でレジストをノズル20から滴下させる。
【選択図】 図1
Description
基板表面に均一に水分を付着する工程と、
スピンコート法を用いて前記水分が付着した前記基板表面に樹脂を塗布する工程と、
を有するものである。
膜厚分布(%)=((Max−Min)/Ave)×100
膜厚再現性(%)=((Max−Min)/Ave)×100
12 保持部
14 回転駆動部
15、35 配管
16、36 吐出部
18 コータカップ
20、30 ノズル
42 湿度センサ
44 加湿部
46 湿度制御部
48 ファン
50 信号線
Claims (6)
- 基板表面に均一に水分を付着する工程と、
スピンコート法を用いて前記水分が付着した前記基板表面に樹脂を塗布する工程と、
を有する塗布方法。 - 前記基板表面に均一に水分を付着する工程は、結露現象により水を該基板表面に生成させることによるものである請求項1記載の塗布方法。
- 前記結露現象により水分を生成させる方法が前記基板表面の温度を下げることによるものである請求項2記載の塗布方法。
- 前記基板表面の温度を下げる方法が気化熱を利用するものである請求項3記載の塗布方法。
- 前記気化熱を生成する方法が前記基板表面に揮発性の有機溶剤をスピンコート法で塗布するものである請求項4記載の塗布方法。
- 前記基板表面の湿度を30%から60%の間に維持する請求項2から5のいずれか1項記載の塗布方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005018357A JP4203026B2 (ja) | 2005-01-26 | 2005-01-26 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005018357A JP4203026B2 (ja) | 2005-01-26 | 2005-01-26 | 塗布方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006210506A true JP2006210506A (ja) | 2006-08-10 |
JP4203026B2 JP4203026B2 (ja) | 2008-12-24 |
Family
ID=36967029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005018357A Expired - Fee Related JP4203026B2 (ja) | 2005-01-26 | 2005-01-26 | 塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4203026B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008053355A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Tokyo Electron Ltd | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体及び塗布処理装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01226156A (ja) * | 1988-03-07 | 1989-09-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 基板の清浄化処理方法およびその装置 |
JPH0497526A (ja) * | 1990-08-15 | 1992-03-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の表面処理方法 |
JPH08186072A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Sony Corp | 基板の回転塗布方法及び基板の回転塗布装置 |
JPH0957176A (ja) * | 1995-08-28 | 1997-03-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転塗布装置 |
JP2000150335A (ja) * | 1998-11-12 | 2000-05-30 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2001170546A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-06-26 | Toshiba Corp | 成膜方法及び成膜装置 |
JP2001332475A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-11-30 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2004039828A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法およびプリウェット剤 |
-
2005
- 2005-01-26 JP JP2005018357A patent/JP4203026B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01226156A (ja) * | 1988-03-07 | 1989-09-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 基板の清浄化処理方法およびその装置 |
JPH0497526A (ja) * | 1990-08-15 | 1992-03-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の表面処理方法 |
JPH08186072A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Sony Corp | 基板の回転塗布方法及び基板の回転塗布装置 |
JPH0957176A (ja) * | 1995-08-28 | 1997-03-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転塗布装置 |
JP2000150335A (ja) * | 1998-11-12 | 2000-05-30 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2001170546A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-06-26 | Toshiba Corp | 成膜方法及び成膜装置 |
JP2001332475A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-11-30 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2004039828A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法およびプリウェット剤 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008053355A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Tokyo Electron Ltd | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体及び塗布処理装置 |
JP4680149B2 (ja) * | 2006-08-23 | 2011-05-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体及び塗布処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4203026B2 (ja) | 2008-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3276449B2 (ja) | 回転塗布方法 | |
US8652571B2 (en) | Spin coating method and spin coating apparatus | |
TWI747792B (zh) | 基板處理方法及基板處理裝置 | |
KR102426393B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
JPS5819350B2 (ja) | スピンコ−テイング方法 | |
US7803720B2 (en) | Coating process and equipment for reduced resist consumption | |
JP3654771B2 (ja) | 半導体装置製造用ウェーハのリワーク方法及び半導体装置の製造方法 | |
CN110556314A (zh) | 衬底处理方法及衬底处理装置 | |
JP2009207984A (ja) | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 | |
TWI619143B (zh) | 遮罩基底之製造方法及轉印用遮罩之製造方法(二) | |
JPH05243140A (ja) | 回転塗布装置及び回転塗布方法 | |
JP4203026B2 (ja) | 塗布方法 | |
KR20110096076A (ko) | 캐리어 용매 조성물, 코팅 조성물, 및 두꺼운 중합체 코팅의 제조 방법 | |
US20100247770A1 (en) | Method for applying coating liquid, method for forming coated film, method for forming a pattern by using the same, and method for manufacturing semiconductor device | |
JP6779701B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体 | |
US8927058B2 (en) | Photoresist coating process | |
JPH0629204A (ja) | レジスト現像方法及び装置 | |
JP2007511897A (ja) | マイクロリトグラフィ用のフォトレジストコーティングプロセス | |
JPH0435768A (ja) | スピンコーティング方法 | |
JP7136543B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
US20080131599A1 (en) | Method and apparatus for making coating film | |
CN221079972U (en) | Semiconductor wafer processing apparatus | |
JP6888120B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体 | |
JPH09134909A (ja) | 薄膜形成用回転塗布装置、半導体装置、及び薄膜の形成方法 | |
JPH01200623A (ja) | 半導体製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071205 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080312 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080415 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081001 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081009 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111017 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121017 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121017 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131017 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |