JP2006203055A - 配線基板 - Google Patents
配線基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006203055A JP2006203055A JP2005014235A JP2005014235A JP2006203055A JP 2006203055 A JP2006203055 A JP 2006203055A JP 2005014235 A JP2005014235 A JP 2005014235A JP 2005014235 A JP2005014235 A JP 2005014235A JP 2006203055 A JP2006203055 A JP 2006203055A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive fine
- fine particle
- substrate
- wiring
- surfactant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
導電性微粒子分散液を用いて配線を形成する際に、基板に対する配線の密着性および配線の細線化を両立した配線基板を提供する。
【解決手段】
基板上に導電性微粒子分散液(1)を吐出して配線パターンを形成する配線基板において、前記基板と前記導電性微粒子分散液(1)との間に中間層(4)を設け、該中間層(4)に、前記導電性微粒子分散液(1)に含まれる界面活性剤(3)と対のイオン性を持つ官能基を備えた界面活性剤(6)を含有させ、さらに前記中間層(4)表面に含フッ素化合物を有する撥液層(8)を設けた。
【選択図】 図1
Description
[1]基板7
基板7は、用いられる電子機器の要求を満たしていればリジッドでもフレキシブルでも特に限定はないが、導電性微粒子分散液1に含有される導電性微粒子2が融着するときの加熱温度に耐えることが必要であるため、200〜300℃程度の耐熱性を有することが望ましい。このため、基板7の材料としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ガラス、セラミックス、シリコンウェハまたは金属等が望ましい。
[2]中間層4に用いられる材料
中間層4における塗料の基本組成は、バインダー樹脂、無機微粒子5および無機微粒子界面活性剤6を有してなる。それぞれの組成については後述するが、中間層4を塗布する方法としては、塗料の粘度を適宜調整することにより、スピンコート、バーコートまたはギャップコート等、各種塗布方法を採用することができる。
[2−1]バインダー樹脂
用いられるバインダー樹脂として、導電性微粒子分散液1に含有される導電性微粒子2が融着するときの加熱温度に耐えることが必要であるため、200〜300℃程度の耐熱性を有することが望ましい。したがって、これに適する樹脂としてはポリイミドやポリアミドイミド等が望ましい。
[2−2]無機微粒子5
本発明における無機微粒子5は、後述の無機微粒子界面活性剤6の担持体としての作用をなすものである。使用することができる無機微粒子5としては、シリカやアルミナ等が挙げられる。
[2−3]界面活性剤
本発明において、最も重要となる材料が界面活性剤である。一般的に界面活性剤の種類としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤があるが、本発明においては、イオン性を有していることが望ましく、すなわち、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤または両性界面活性剤を使用することが望ましい。
[3]導電性微粒子分散液1
導電性微粒子分散液1は、導電性微粒子2、導電性微粒子界面活性剤3および分散媒を有してなる。導電性微粒子2としては、金、銀、銅、ニッケル、パラジウムまたはインジウム錫酸化物等、導電性を有する金属を用いることができる。
[4]含フッ素化合物
含フッ素化合物は基板7表面の撥液性を制御する目的で使用するものである。上述のようにインクジェット法による配線形成工程において、基板7の撥液性が適切でない場合、液滴の凝集や断線が生じる可能性がある。したがって、基板7に対する溶液の接触角は30°以上60°以下に制御することが望ましい。
[5]インクジェット記録装置
図4に、インクジェット記録装置の概略を示す。図4において、筐体11の上部にXステージ12およびZステージ13を介してヘッドベース15が配置され、その上に1個、あるいは複数個のインクジェットヘッド9が搭載される。インクジェットヘッド9には、溶液タンク16から溶液供給管17を介して導電性微粒子分散液1が供給される。また、インクジェットヘッド9のノズル面と対向してYステージ13が設けられ、その上に本発明である基板7を設置する構成となっている。本例においては、ヘッドベース15が図中におけるX方向に移動し、基板7が図中のY方向に移動できる機構が備わっており、基板7に任意の配線パターンを描画することができる構成となっている。
上記実験例1における界面活性剤〔花王(株)製ホモゲノールL−95〕の代わりに、無機微粒子の分散剤として、撥液性を有するパーフルオロポリエーテル鎖とバインダー樹脂に対して相溶性のあるベンゼン環部位を有する下記化合物4を用いる以外は、実施例1と全く同様の配線製造方法を用いて配線を形成し、実施例1と同様のテープ剥離試験を行ったところ、配線が簡単に基板から剥がれ、良好な密着性を得ることができなかった。
上記実施例1における銀微粒子分散液の代わりに、テトラデカンを主溶媒とし、ドデシルアミンを界面活性剤とする銀微粒子分散液を用いる以外は、実施例1と全く同様の配線製造方法を用いて銀配線を形成し、実験例1と同様のテープ剥離試験を行ったところ、簡単に配線が基板から剥がれ、良好な密着性を得ることができなかった。
2 導電性微粒子
3 導電性微粒子界面活性剤
4 中間層
5 無機微粒子
6 無機微粒子界面活性剤
7 基板
8 撥液層
9 インクジェットヘッド
10 配線パターン
11 筐体
12 Xステージ
13 Yステージ
14 Zステージ
15 ヘッドベース
16 溶液タンク
17 溶液供給管。
Claims (3)
- 基板と、該基板上に形成される中間層と、該中間層上に導電性微粒子分散液から形成される金属配線を有する配線基板において、前記中間層は導電性微粒子分散液に含まれる界面活性剤に対して、対となるイオン性を有する官能基を備えた界面活性剤を含んでなることを特徴とする配線基板。
- 前記中間層は、バインダー樹脂と無機微粒子と界面活性剤の混合物を有することを特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 前記中間層は、表面に含フッ素化合物からなる撥液層が形成してなることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005014235A JP4507893B2 (ja) | 2005-01-21 | 2005-01-21 | 配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005014235A JP4507893B2 (ja) | 2005-01-21 | 2005-01-21 | 配線基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006203055A true JP2006203055A (ja) | 2006-08-03 |
JP4507893B2 JP4507893B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=36960756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005014235A Expired - Fee Related JP4507893B2 (ja) | 2005-01-21 | 2005-01-21 | 配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4507893B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010226104A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Holy Stone Enterprise Co Ltd | セラミック基板の金属化方法 |
CN102010233A (zh) * | 2009-09-08 | 2011-04-13 | 禾伸堂企业股份有限公司 | 陶瓷基板的金属化制作方法 |
JP2011525716A (ja) * | 2008-06-24 | 2011-09-22 | エックスジェット・リミテッド | 非接触材料堆積のための方法およびシステム |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002052627A1 (fr) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Seiko Epson Corporation | Procede de formation de motif, dispositif a semi-conducteur, circuit electrique, module d'element d'affichage et element lumineux |
JP2004006578A (ja) * | 2002-04-15 | 2004-01-08 | Seiko Epson Corp | 導電膜パターンとその形成方法、配線基板、電子デバイス、電子機器、並びに非接触型カード媒体 |
JP2004039379A (ja) * | 2002-07-02 | 2004-02-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性ペースト、導電性膜、及び導電性膜の製造方法 |
-
2005
- 2005-01-21 JP JP2005014235A patent/JP4507893B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002052627A1 (fr) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Seiko Epson Corporation | Procede de formation de motif, dispositif a semi-conducteur, circuit electrique, module d'element d'affichage et element lumineux |
JP2004006578A (ja) * | 2002-04-15 | 2004-01-08 | Seiko Epson Corp | 導電膜パターンとその形成方法、配線基板、電子デバイス、電子機器、並びに非接触型カード媒体 |
JP2004039379A (ja) * | 2002-07-02 | 2004-02-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性ペースト、導電性膜、及び導電性膜の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011525716A (ja) * | 2008-06-24 | 2011-09-22 | エックスジェット・リミテッド | 非接触材料堆積のための方法およびシステム |
JP2010226104A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Holy Stone Enterprise Co Ltd | セラミック基板の金属化方法 |
CN102010233A (zh) * | 2009-09-08 | 2011-04-13 | 禾伸堂企业股份有限公司 | 陶瓷基板的金属化制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4507893B2 (ja) | 2010-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3948247B2 (ja) | 膜パターンの形成方法 | |
TW573314B (en) | Patterning method | |
KR100597015B1 (ko) | 특정 패턴 형성용 기판, 박막 형성 기판 및 기판의 제조 방법 | |
JP4604743B2 (ja) | 機能性基板の製造方法、機能性基板、微細パターンの形成方法、導電膜配線、電子光学装置および電子機器 | |
US8322033B2 (en) | Method for forming a conductive post for a multilayered wiring substrate | |
WO2005072120A2 (en) | Materials and methods for imprint lithography | |
JP2004096082A (ja) | 基板にパターンを形成する方法及び高分子半導体薄膜トランジスタを形成する方法 | |
JP2006026522A (ja) | 薄膜パターンの形成方法、デバイスおよびその製造方法 | |
JP2009000600A (ja) | パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 | |
JPH11207959A (ja) | 基板、その製造方法およびパターン形成方法 | |
JP5330527B2 (ja) | 構造体 | |
JP4507893B2 (ja) | 配線基板 | |
KR20100089302A (ko) | 금속 배선의 형성방법 및 이를 이용하여 형성된 금속 배선 | |
KR20140090641A (ko) | 도전성 패턴 형성용 기재, 회로 기판 및 그들의 제조 방법 | |
JP2005109184A (ja) | 膜パターン形成方法、回路素子、電気光学装置、および電子機器 | |
JP2012166546A (ja) | インク受容層、インク受容層形成用塗布液、インク受容層の形成方法、及び導電パターンの形成方法 | |
US20090071706A1 (en) | Method for producing multilayered wiring substrate, multilayered wiring substrate, and electronic apparatus | |
TWI788477B (zh) | 圖案形成方法、電晶體之製作方法及圖案形成用之構件 | |
JP4498229B2 (ja) | 回路パターン形成方法、溶液セット | |
JP2009072654A (ja) | 膜パターン形成方法及び配線基板 | |
KR102079317B1 (ko) | 용액 공정 기반의 박막 트랜지스터의 성능을 향상시키는 선택적인 표면 처리를 이용한 패터닝 방법 | |
WO2020194588A1 (ja) | パターン形成方法 | |
JP4707345B2 (ja) | 配線の修正方法 | |
JP2008087459A (ja) | 凸版反転オフセット印刷用凸版及びその製造方法、並びに印刷物の製造方法 | |
JP2008021843A (ja) | 配線基板の製造方法、多層配線基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071207 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081016 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20081016 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4507893 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100426 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |