JP2006201547A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】表示面積の利用効率を向上させ、かつ汚染を生じることなく液晶注入を行なえる液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】予め表示部３がマトリクス状に複数形成された基板１の表示部３の外周に沿ってシール材３を塗布した後、シール材３を介し、所定の間隔を有して光透明性基板４を基板１上に貼り合わせ、次に、光透明性基板４の一部に微小孔４Ａを形成した後、この微小孔４Ａから液晶１５を注入し、次に、隣接するシール材３間をマトリクス状に切断して得られる液晶表示素子の製造方法において、シール材３は、一部に間隙３Ａを有し、微小孔４Ａは、間隙３Ａに対応する光透明性基板４の位置に形成し、液晶１５の注入は、ディスペンサ１４を用いて行なう。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶表示素子の製造方法に関する。

液晶表示素子の製造方法については、特許文献１に記載されている方法がある。
即ち、表面にマトリクス状に形成された複数個の表示部を有する第１ガラス基板の前記複数個の表示部のそれぞれの外周に沿ってシール材を形成し、前記シール材上に第２ガラス基板を重ねて一体化し、前記シール材で囲まれた前記各表示部に対応する前記第２ガラス基板上からレーザ加工により液晶注入口を形成した後、予め液晶が導入されている真空容器内に前記液晶注入口の前記第２ガラス基板が前記液晶側に浸るようにして一体化した前記第１、第２ガラス基板を入れて真空状態にする。次に、大気圧に戻して前記液晶を前記液晶注入口から導入して前記表示部領域内に注入する。
この結果、液晶注入の際、複数の表示部を分割することなく一括して行えることができ、かつ品質の低下も防ぐことができることが記載されている。
特開平２−２８２２１７号公報

しかしながら、前記液晶注入口部分は画像表示に寄与しなくなるので、十分な表示面積を得ることができない。また、前記液晶に前記第２ガラス基板を浸すので、前記第２ガラス基板の表面に付着している塵等の汚染源が前記液晶中に混入する恐れがあり、表示品質を低下させるといった問題があった。

そこで、本発明は、前述の課題に鑑みて提案されるものであって、表示面積の利用効率を向上させ、かつ汚染を生じることなく液晶注入を行なう液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、予め表示部がマトリクス状に複数形成された基板の前記表示部の外周に沿ってシール材を塗布した後、前記シール材を介し、所定の間隔を有して光透明性基板を前記基板上に貼り合わせ、次に、前記光透明性基板の一部に微小孔を形成した後、前記微小孔から液晶を注入し、次に、隣接する前記シール材間をマトリクス状に切断して得られる液晶表示素子の製造方法において、前記シール材は、一部に間隙を有し、前記微小孔は、前記間隙に対応する前記光透明性基板の位置に形成し、前記液晶の注入は、ディスペンサを用いて行なうことを特徴とする液晶表示素子の製造方法を提供する。

本発明によれば、前記シール材は、一部に間隙を有し、前記微小孔は、前記間隙に対応する前記光透明性基板の位置に形成し、前記液晶の注入は、ディスペンサを用いて行なうので、表示面積の利用効率を向上させ、かつ汚染を生じることなく液晶注入を行なうことができる。

以下、本発明に係る液晶表示素子の製造方法の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（微小孔形成工程）を示す図であり、（Ａ）は貼り合せ基板のガラス基板側から見た平面図、（Ｂ）は（Ａ）におけるＭ部の拡大断面図、（Ｃ）はＮＮ断面図である。図２は、本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（セルギャップ領域形成工程）を示す断面図である。図３は、本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（液晶注入工程）を示す断面図である。図４は、本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（封止工程）を示す断面図である。

（微小孔形成工程）
図１（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、予め複数個の表示部２がマトリクス状に形成されているＳｉからなる基板１上に各表示部２の外周に沿って一部に間隙３Ａを有した紫外線硬化型樹脂からなるシール材３を塗布した後、シール材３上にガラス基板４を重ね合わせて基板１とガラス基板４とが所定の間隙を有した貼り合せ基板５を作製する。
そして、各シール材３の間隙３Ａに対応するガラス基板４の位置に微小孔４Ａを形成する。

（セルギャップ領域形成工程）
図２に示すように、 基板１、ガラス基板４及びシール材３とで囲まれた空間領域はセルギャップ領域６となり、貼り合せ基板５のガラス基板４に形成されている微小孔４Ａに中空な吸着パッド７の一端を取り付ける。吸着パッド７の他端は、開閉バルブ８、真空圧力制御部９を介して真空ポンプ１０に接続されている。更に、ガラス基板４の上方近傍に紫外線照射装置１１及びセルギャップ計測器１２を配置する。そして、真空ポンプ１０を稼動させ、開閉バルブ８を開き、真空圧力制御部９により所定の真空度を有するようにして、セルギャップ領域６を減圧し、基板１とガラス基板４との間が所定厚さになるようにシール材３を押圧する。次に、紫外線照射装置１１によりガラス基板４側から紫外線照射して、シール材３を硬化させる。

（液晶注入工程）
図３に示すように、貼り合せ基板５を真空装置の真空チャンバ１３内に導入した後、微小孔４Ａからセルギャップ領域６に液晶ディスペンサ１４を用いて、液晶１５を注入する。液晶ディスペンサ１４は開閉バルブ１６を介して液晶１５を収納した収納容器１７に接続されている。そして、液晶１５は、開閉バルブ１６を開くことによって供給される。次に、真空チャンバ１３内を徐々に大気圧に戻す。

（封止工程）
図４に示すように、吸着孔１８Ａを有する吸着ヘッド１８上に基板１が吸着ヘッド１８と対向配置するようにして貼り合せ基板５を載置し、吸着孔１８Ａから真空引きをすることにより、貼り合せ基板５を吸着ヘッド１８に吸着させる。そして、ガラス基板４近傍にセルギャップ計測器１２、カメラ１９及び紫外線照射装置１１を配置しておく。
次に、図示しない封止ディスペンサを用いて、微小孔４Ａ内に適量の紫外線硬化型樹脂からなる封止材２０を滴下する。この際、カメラ１９により封止材２０の微小孔４Ａの滴下状態及びセルギャップ計測器１２により基板１とガラス基板４との間が所定厚さが変化していないことを確認しながら行なう。更に、紫外線照射装置１１により紫外線を照射して封止材２０を硬化させる。

この後、互いに隣接するシール材３間をマトリクス状に切断することによって液晶表示素子が得られる。

以上のように、本発明の実施の形態によれば、予め表示部２がマトリクス状に複数形成された基板１の各表示部３の外周に沿って一部に間隙３Ａを有した紫外線硬化型樹脂からなるシール材３を塗布した後、このシール材３上にガラス基板４を重ね合わせて基板１とガラス基板４とが所定の間隙を有した貼り合せ基板５を作製し、次に、シール材３の間隙３Ａに対応するガラス基板４の位置に微小孔４Ａを形成し、この貼り合せ基板５を真空装置の真空チャンバ１３内に導入して、液晶ディスペンサ１４を用いて、微小孔４Ａから基板１、ガラス基板４及びシール材３とで囲まれたセルギャップ領域６に液晶１５を注入するようにしているので、表示部３の表示面積の利用効率が向上し、かつ汚染を生じることなく液晶注入を行なうことができる。

なお、（セルギャップ領域形成工程）でガラス基板４側を大気圧とし、基板１側を大気圧よりも高圧にすることによる差圧プレスして押圧しても良い。また、シール材３の硬化は、加熱硬化することにより十分な状態にすることができる。

本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（微小孔形成工程）を示す図であり、（Ａ）は貼り合せ基板のガラス基板側から見た平面図、（Ｂ）は（Ａ）におけるＭ部の拡大断面図、（Ｃ）はＮＮ断面図である。 本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（セルギャップ領域形成工程）を示す断面図である。 本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（液晶注入工程）を示す断面図である。 本発明に係る液晶表示素子の製造方法における（封止工程）を示す断面図である。

符号の説明

１…基板、２…表示部、３…シール材、３Ａ…間隙、４…ガラス基板（光透過性基板）、４Ａ…微小孔、５…貼り合せ基板、６…セルギャップ領域、７…吸着パッド、８…開閉バルブ、９…真空圧力制御部、１０…真空ポンプ、１１…紫外線照射装置、１２…セルギャップ計測器、１３…真空チャンバ、１４…液晶ディスペンサ（ディスペンサ）、１５…液晶、１６…開閉バルブ、１７…収納容器、１８…吸着ヘッド、１８Ａ…吸着孔、１９…カメラ、２０…封止材

Claims (1)

1. 予め表示部がマトリクス状に複数形成された基板の前記表示部の外周に沿ってシール材を塗布した後、前記シール材を介し、所定の間隔を有して光透明性基板を前記基板上に貼り合わせ、次に、前記光透明性基板の一部に微小孔を形成した後、前記微小孔から液晶を注入し、次に、隣接する前記シール材間をマトリクス状に切断して得られる液晶表示素子の製造方法において、
   前記シール材は、一部に間隙を有し、前記微小孔は、前記間隙に対応する前記光透明性基板の位置に形成し、前記液晶の注入は、ディスペンサを用いて行なうことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
   
   

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