JP2006199686A - シクロヘキサノンオキシムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チタノシリケート触媒の存在下にシクロヘキサノンを過酸化水素とアンモニアでアンモキシム化反応させる反応工程(1)、反応液から残存アンモニアを留去させ、シクロヘキサノンオキシム/水混合液を得る第一蒸留工程(2)、シクロヘキサノンオキシム/水混合液から有機溶媒によりシクロヘキサノンオキシムを抽出する抽出工程(3)、シクロヘキサノンオキシム抽出液を水で洗浄する洗浄工程(4)、洗浄後のシクロヘキサノンオキシム抽出液から有機溶媒を留去させ、粗製シクロヘキサノンオキシムを得る第二蒸留工程(5)、及び、粗製シクロヘキサノンオキシムから残存シクロヘキサノンを留去させ、精製シクロヘキサノンオキシムを得る第三蒸留工程(6)の一連の工程により、シクロヘキサノンオキシムを製造する。
【選択図】図1
Description
(1)反応工程:チタノシリケート触媒の存在下に、シクロヘキサノン、過酸化水素及びアンモニアを反応させて、シクロヘキサノンオキシム、水、未反応のアンモニア及び未反応のシクロヘキサノンを含む反応液を得る工程、
(2)第一蒸留工程:工程(1)で得られた反応液を蒸留して、アンモニアを留出させ、シクロヘキサノンオキシム、水及びシクロヘキサノンを含む缶出液を得る工程、
(3)抽出工程:工程(2)で得られた缶出液を有機溶媒と混合した後、有機層と水層とに分離する工程、
(4)洗浄工程:工程(3)で得られた有機層を水と混合した後、有機層と水層とに分離する工程、
(5)第二蒸留工程:工程(4)で得られた有機層を蒸留して、有機溶媒及び水を留出させ、シクロヘキサノンオキシム及びシクロヘキサノンを含む缶出液を得る工程、
(6)第三蒸留工程:工程(5)で得られた缶出液を蒸留して、シクロヘキサノンを留出させ、シクロヘキサノンオキシムを含む缶出液を得る工程、
から構成されるシクロヘキサノンオキシムの製造方法を提供するものである。
図1に示される連続式製造プロセスに、図2に示される洗浄及び回収操作を適用して、以下の各工程及び熱安定性試験を実施した。
攪拌槽型の反応器1に、チタノシリケート触媒が分散した反応液を滞留させ、この中に、シクロヘキサノン11、60%過酸化水素水12、アンモニア13、及び15%含水t−ブチルアルコールを供給しながら、フィルターを介して反応液14を抜き出すことにより、シクロヘキサノン/過酸化水素/アンモニア/水/t−ブチルアルコール=1/1.1/1.8/4.29/4.0の供給モル比で、圧力0.25MPa(ゲージ圧)の条件下に、温度85℃で反応を行った。反応で副生する窒素ガスは系外に除去し、その際、同伴するアンモニアガスは水に吸収させて回収した。得られた反応液14中の成分濃度は、シクロヘキサノンオキシム20.89%、水21.69%、アンモニア2.30%、シクロヘキサノン0.09%、及びt−ブチルアルコール55.03%であった。
反応器1から抜き出した反応液14を上記アンモニア吸収水と共に、第一蒸留塔2に導入し、50kPa(ゲージ圧)にて温度83℃で蒸留を行い、留分15として、アンモニア及び含水t−ブチルアルコールを回収し、缶出液16として、シクロヘキサノンオキシム46.23%、水53.45%、及びシクロヘキサノン0.205%からなる混合物を得た。留分15は、反応器1に供給するアンモニアの一部及び15%含水t−ブチルアルコールとして使用した。
第一蒸留塔2からの缶出液16と、該缶出液16中に含まれるシクロヘキサノンオキシムと同重量のトルエン28とを、抽出器3に導入し、約72℃にて攪拌した後、トルエン層18と水層19に分離した。
抽出器3からのトルエン層18と、該トルエン層18中に含まれるシクロヘキサノンオキシムと同重量の0.1N水酸化ナトリウム水溶液20aとを、第一洗浄器4aに導入し、約72℃にて攪拌した後、トルエン層21aと水層22aに分離した。
第一洗浄器4aからのトルエン層21aと、該トルエン層21a中に含まれるシクロヘキサノンオキシムと同重量の水20bとを、第二洗浄器4bに導入し、約72℃にて攪拌した後、デカンターで分液し、トルエン層21bと水層22bに分離した。水層22bに水酸化ナトリウムを加えて0.1N水酸化ナトリウム水溶液を調製し、これを第一洗浄器4aに導入する0.1N水酸化ナトリウム水溶液20aとして使用した。
抽出器3からの水層19と第一洗浄器4aからの水層22aとを混合し、この混合水層とトルエン17を回収器8に導入し、約72℃にて攪拌した後、トルエン層28と水層29とに分離した。トルエン層28は、抽出器3に導入するトルエン28として使用した。
第二洗浄器4bからのトルエン層21bを第二蒸留塔5に導入し、圧力30kPaの減圧下に温度107℃で蒸留を行い、留分23として、トルエン及び水の混合物を回収し、缶出液24として、シクロヘキサノン0.54%を含む純度98.13%の粗製シクロヘキサノンオキシムを得た。留分23を分液器7に導入し、約35℃にてトルエン層17と水層20とに分離した。トルエン層17は、回収器8に導入するトルエン17として使用し、水層20は、第二洗浄器4bに導入する水20bとして使用した。
第二蒸留塔5からの缶出液24を第三蒸留塔6に導入し、圧力4kPaの減圧下に温度120℃で蒸留を行い、留分25として、シクロヘキサノンを回収し、缶出液26として、シクロヘキサノン0.02%を含む純度99.70%の精製シクロヘキサノンオキシムを得た。留分25は、反応器1に供給するシクロヘキサノンの一部として使用した。
缶出液26として得られた精製シクロヘキサノンオキシムを、圧力15torr(2kPa)の減圧下に温度120℃で、留出が見られなくなるまで減圧蒸留したところ、残留したタール分の量は、蒸留仕込量に対し0.01%であった(加熱処理前のタール量)。また、同シクロヘキサノンオキシムを、窒素気流下に200℃で5時間加熱処理した後、上記と同様に減圧蒸留したところ、残留したタール分の量は蒸留仕込量に対し0.54%であった(加熱処理後のタール量)。加熱処理によるタールの増加量は0.53%であった。
実施例1と同様に反応工程(1)及び第一蒸留工程(2)を行った。第一蒸留塔2からの缶出液16に、硫酸アンモニウムを投入して、油水分離し、有機層として、シクロヘキサノン0.11%、水分2.7%を含む純度96.8%のシクロヘキサノンオキシムを得た。得られたシクロヘキサノンオキシムについて、実施例1と同様に熱安定性試験を行ったところ、加熱処理前のタール量は0.21%であり、加熱処理後のタール量は15%であり、加熱処理によるタールの増加量は14.79%であった。
実施例1と同様に反応工程(1)、第一蒸留工程(2)、抽出工程(3)、第一洗浄工程(4a)、及び第二洗浄工程(4b)を行った。第二洗浄器4bからのトルエン層21bを、圧力65〜30kPaの減圧下に温度104〜108℃で16時間かけてバッチ濃縮し、缶出液として、シクロヘキサノン0.66%を含む純度99.1%のシクロヘキサノンオキシムを得た。得られたシクロヘキサノンオキシムについて、実施例1と同様に熱安定性試験を行ったところ、加熱処理前のタール量は0.07%であり、加熱処理後のタール量は7.1%であり、加熱処理によるタールの増加量は7.03%であった。
2……第一蒸留塔、
3……抽出器、
4……洗浄器、
4a…第一洗浄器、
4b…第二洗浄器、
5……第二蒸留塔、
6……第三蒸留塔、
7……分液器、
8……回収器、
11……シクロヘキサノン、
12……過酸化水素、
13……アンモニア、
17……有機溶媒、
20……水、
24……粗製シクロヘキサノンオキシム、
26……精製シクロヘキサノンオキシム。
Claims (9)
- 下記工程(1)〜(6)、
(1)反応工程:チタノシリケート触媒の存在下に、シクロヘキサノン、過酸化水素及びアンモニアを反応させて、シクロヘキサノンオキシム、水、未反応のアンモニア及び未反応のシクロヘキサノンを含む反応液を得る工程、
(2)第一蒸留工程:工程(1)で得られた反応液を蒸留して、アンモニアを留出させ、シクロヘキサノンオキシム、水及びシクロヘキサノンを含む缶出液を得る工程、
(3)抽出工程:工程(2)で得られた缶出液を有機溶媒と混合した後、有機層と水層とに分離する工程、
(4)洗浄工程:工程(3)で得られた有機層を水と混合した後、有機層と水層とに分離する工程、
(5)第二蒸留工程:工程(4)で得られた有機層を蒸留して、有機溶媒及び水を留出させ、シクロヘキサノンオキシム及びシクロヘキサノンを含む缶出液を得る工程、
(6)第三蒸留工程:工程(5)で得られた缶出液を蒸留して、シクロヘキサノンを留出させ、シクロヘキサノンオキシムを含む缶出液を得る工程、
から構成されることを特徴とするシクロヘキサノンオキシムの製造方法。 - 工程(3)で使用される有機溶媒が、炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒及びエステル系溶媒から選ばれる請求項1に記載の方法。
- 工程(2)で留出させたアンモニアを工程(1)にリサイクルする請求項1又は2に記載の方法。
- 工程(5)で留出させた有機溶媒を工程(3)にリサイクルする請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 工程(5)で留出させた水を工程(4)にリサイクルする請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 工程(6)で留出させたシクロヘキサノンを工程(1)にリサイクルする請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- 工程(4)が下記工程(4a)及び(4b)、
(4a)第一洗浄工程:工程(3)で得られた有機層を塩基を含む水溶液と混合した後、有機層と水層とに分離する工程、
(4b)第二洗浄工程:工程(4a)で得られた有機層を実質的に塩基を含まない水と混合した後、有機層と水層とに分離する工程、
から構成され、工程(4b)で得られた有機層を工程(5)に付す請求項1〜6のいずれかに記載の方法。 - 工程(4b)で得られた水層を塩基と混合し、得られた塩基を含む水溶液を工程(4a)にリサイクルする請求項7に記載の方法。
- 工程(5)で留出させた水を工程(4b)にリサイクルする請求項7又は8に記載の方法。
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US9319284B2 (en) | 2010-04-01 | 2016-04-19 | Hitachi, Ltd. | Operation delay monitoring method, operation management apparatus, and operation management program |
CN108530316A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-09-14 | 中国平煤神马集团尼龙科技有限公司 | 一种固定床热回收式氨肟化反应系统 |
CN111302899A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-06-19 | 湖南百利工程科技股份有限公司 | 一种环己酮氨肟化生产过程中氨和叔丁醇回收装置及方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63130575A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-06-02 | モンテデイペ・ソチエタ・ペル・アツイオニ | オキシム製造のための接触方法 |
JPH0692922A (ja) * | 1991-01-23 | 1994-04-05 | Enichem Anic Spa | カルボニル化合物の液相アンモオキシム化多段法 |
JP2003034674A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-02-07 | Enichem Spa | シクロヘキサノン−オキシムの精製方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63130575A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-06-02 | モンテデイペ・ソチエタ・ペル・アツイオニ | オキシム製造のための接触方法 |
JPH0692922A (ja) * | 1991-01-23 | 1994-04-05 | Enichem Anic Spa | カルボニル化合物の液相アンモオキシム化多段法 |
JP2003034674A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-02-07 | Enichem Spa | シクロヘキサノン−オキシムの精製方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9319284B2 (en) | 2010-04-01 | 2016-04-19 | Hitachi, Ltd. | Operation delay monitoring method, operation management apparatus, and operation management program |
CN108530316A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-09-14 | 中国平煤神马集团尼龙科技有限公司 | 一种固定床热回收式氨肟化反应系统 |
CN108530316B (zh) * | 2018-05-10 | 2023-07-04 | 中国平煤神马集团尼龙科技有限公司 | 一种固定床热回收式氨肟化反应系统 |
CN111302899A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-06-19 | 湖南百利工程科技股份有限公司 | 一种环己酮氨肟化生产过程中氨和叔丁醇回收装置及方法 |
CN111302899B (zh) * | 2020-04-14 | 2023-12-22 | 湖南百利工程科技股份有限公司 | 一种环己酮氨肟化生产过程中氨和叔丁醇回收装置及方法 |
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