JP2006196611A - 電子ビーム管理装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 電子ビーム管理装置は、電子ビームを放射する電子銃と、所定のパターンを有する試料から反射した反射電子ビームを検出する反射ビーム検出器とを有し、反射電子ビームを評価し、電子ビームを管理する。本装置は、反射電子ビームの強度を表す波形を曲線で近似するために、曲線を規定する1以上のパラメータの値を選択する手段と、前記1以上のパラメータの値が許容値でない場合に、電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する手段とを備える。
【選択図】 図6
Description
ここで、Yは反射電子ビームの強度であり、Xは電子ビームを走査する際の距離を表す(又は、距離に対応する時間を表すようにしてもよい。)。
電子ビームを放射する電子銃と、所定のパターンを有する試料から反射した反射電子ビームを検出する反射ビーム検出器とを有し、反射電子ビームを評価し、電子ビームを管理する電子ビーム管理装置において、
反射電子ビームの強度を表す波形を曲線で近似するために、曲線を規定する1以上のパラメータの値を選択する手段と、
前記1以上のパラメータの値が許容値でない場合に、電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する手段と、
を備えることを特徴とする電子ビーム管理装置。
前記曲線が、試料上の距離の二次多項式で表現される
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
前記電子ビームの放射条件は、電子ビームを放射する指向方向を定める
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
前記電子ビームの放射条件は、電子ビームの伝搬する空間内の真空度を定める
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
前記電子ビームの放射条件が、電子銃のフィラメントの温度を定める
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
前記電子銃の反射条件は、試料に塗布するレジストの種類を定める
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
前記電子銃の反射条件は、感光剤の種類を定める
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
前記1以上のパラメータの少なくとも1つの値が0に近づくほど、前記曲線は直線的になる性質を有する
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する手段が、1以上のパラメータの値と、電子ビームの放射条件及び反射条件との関係を表す一覧テーブルを用いて放射条件を変更する
ことを特徴とする付記1記載の電子ビーム管理装置。
電子銃から電子ビームを放射し、所定のパターンを有する試料から反射した反射電子ビームを評価し、電子ビームを管理する電子ビーム管理方法において、
反射電子ビームの強度を表す波形を曲線で近似するために、曲線を規定する1以上のパラメータの値を選択し、
前記1以上のパラメータの値が許容値でない場合に、電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する
ことを特徴とする電子ビーム管理方法。
電子ビームの放射条件及び反射条件少なくとも一方の変更は、1以上のパラメータの値と、電子ビームの放射条件及び反射条件との対応関係を表す一覧テーブルを参照することにより行われる
ことを特徴とする付記10記載の電子ビーム管理方法。
付記1記載の電子ビーム管理装置を含んだ電子ビーム露光装置。
付記10記載の電子ビーム管理方法を含んだ電子ビーム露光方法。
22,24 波形成形プレート; 23,25 スリット;
601 ウエハ又は試料; 602 露光部; 604 搬送部; 606 搬送制御部; 608 XYステージ; 610 ステージ制御部; 612 電子ビーム制御部; 614 反射強度波形検出器; 616 波形解析部; 618 バッファメモリ; 620 パターン形成部; 622 補正メモリ部; 624 アナログ回路部; 626 制御用ワークステーション; 628 表示部; 630 メモリ
Claims (5)
- 電子ビームを放射する電子銃と、所定のパターンを有する試料から反射した反射電子ビームを検出する反射ビーム検出器とを有し、反射電子ビームを評価し、電子ビームを管理する電子ビーム管理装置において、
反射電子ビームの強度を表す波形を曲線で近似するために、曲線を規定する1以上のパラメータの値を選択する手段と、
前記1以上のパラメータの値が許容値でない場合に、電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する手段と、
を備えることを特徴とする電子ビーム管理装置。 - 前記曲線が、試料上の距離の二次多項式で表現される
ことを特徴とする請求項1記載の電子ビーム管理装置。 - 前記1以上のパラメータの少なくとも1つの値が0に近づくほど、前記曲線は直線的になる性質を有する
ことを特徴とする請求項1記載の電子ビーム管理装置。 - 電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する手段が、1以上のパラメータの値と、電子ビームの放射条件及び反射条件との関係を表す一覧テーブルを用いて放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する
ことを特徴とする請求項1記載の電子ビーム管理装置。 - 電子銃から電子ビームを放射し、所定のパターンを有する試料から反射した反射電子ビームを評価し、電子ビームを管理する電子ビーム管理方法において、
反射電子ビームの強度を表す波形を曲線で近似するために、曲線を規定する1以上のパラメータの値を選択し、
前記1以上のパラメータの値が許容値でない場合に、電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する
ことを特徴とする電子ビーム管理方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005005508A JP2006196611A (ja) | 2005-01-12 | 2005-01-12 | 電子ビーム管理装置及び方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2006196611A true JP2006196611A (ja) | 2006-07-27 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005005508A Pending JP2006196611A (ja) | 2005-01-12 | 2005-01-12 | 電子ビーム管理装置及び方法 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5821823A (ja) * | 1981-07-31 | 1983-02-08 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム描画装置 |
JPH04242919A (ja) * | 1991-01-08 | 1992-08-31 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置 |
JPH10256110A (ja) * | 1997-03-06 | 1998-09-25 | Toshiba Corp | 成形偏向器のオフセット調整方法及びこれを適用した荷電ビーム描画装置 |
JP2000216076A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-04 | Nec Corp | ビ―ムサイズの測定方法及び測定装置 |
-
2005
- 2005-01-12 JP JP2005005508A patent/JP2006196611A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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