JP2006191064A - リソグラフィ装置の偏光した放射及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置の照明システムの寿命を維持及び延長しながら、露光許容範囲のような像形成特性を改善するように偏光を使用する。
【選択図】図3a
Description
1. ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれるが、一方で、放射ビームに与えられた全パターンは一度に目標部分Cに投影される(すなわち、単一静的露光)。次に、異なる目標部分Cが露光されるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向にシフトされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成される目標部分Cのサイズが制限される。
2. 走査モードでは、放射ビームに与えられたパターンが目標部分Cに投影される間に、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは同期して走査される(すなわち、単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって決定することができる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の(非走査方向の)幅が制限されるが、走査移動の長さによって目標部分の走査方向の高さが決定される。
3. 他のモードでは、マスク・テーブルMTは、プログラム可能パターン形成デバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、そして基板テーブルWTは、放射ビームに与えられたパターンが目標部分Cに投影されている間に、動かされる、すなわち走査される。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、そしてプログラム可能パターン形成デバイスは、基板テーブルWTの各移動の後で、又は走査中に連続した放射パルスの間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したような型のプログラム可能ミラー・アレイのようなプログラム可能パターン形成デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に応用することができる。
IL 照明システム(照明装置)
PS 投影システム
MA パターン形成デバイス(マスク、レチクル)
MT 支持物(マスク・テーブル)
C 目標部分
B 放射ビーム
W 基板(ウェーハ)
WT 基板テーブル
PM 第1の位置決め装置
PW 第2の位置決め装置
AD 調整デバイス(調整器)
IN 積分器
CO 集光器
HWP1A、HWP1B 半波長板(光学能動素子)
HWP2A、HWP2B 半波長板(他の光学能動素子)
Claims (30)
- 放射ビームを条件付けするように構成された照明システムと、
パターン形成デバイスを支持するように組み立てられた支持物であって、前記パターン形成デバイスが前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン形成された放射ビームを形成するように構成されているものである支持物と、
基板を保持するように組み立てられた基板テーブルと、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、を備えるリソグラフィ装置であって、光学能動素子を備え、前記光学能動素子が、前記放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を選択的に与えるように、又は前記放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を与え、かつ前記放射ビームの第2の部分に第2の方向の直線偏光を与えるように構成され、前記第2の方向が前記第1の方向に対して垂直である、リソグラフィ装置。 - 前記光学能動素子が、前記放射源と前記照明システムとの間に位置付けられている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルが、前記パターン形成デバイスに対して走査方向に動くことができ、前記第1の偏光方向が前記走査方向に対して垂直であるか、又は平行である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 照明モードが、複数極を与えるように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが、レンズひとみ内の回折放射の量を最大限にするように構成された複数の極を与えるように構成され、かつ横向き電気偏光の含有量を最大限にするように第1の方向か第2の方向かのどちらかに偏光した放射を極ごとに選ぶ、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが、セグメント化された点対称照明モード及び/又は非対称照明モードを与えるように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが、従来型、双極型、a−対称型、四極型、六極型、及び環状型のモードを与えるように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学能動素子が、2つの半波長板を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射ビームの少なくとも95%が、前記第1の方向か第2の方向かのどちらかに偏光している、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記照明装置と投影システムの間に位置付けされた他の光学能動素子を備え、前記他の光学能動素子が、前記放射ビームの前記第1の部分からの偏光状態を、前記光学能動素子に入る前の前記放射ビームの偏光状態と異なっている偏光状態に変えるように構成されている、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記他の光学要素が、半波長板を備える、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記他の光学能動素子が、4分の1波長板を備える、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記他の光学能動素子が、デポラライザを備える、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記半波長板は、形が実質的に三角形である、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が、前記リソグラフィ装置の集光器、調整デバイス、又は積分器にある、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が、両方とも、前記リソグラフィ装置の集光器に配置されている、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が、両方とも、前記リソグラフィ装置の調整デバイスに配置されている、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が、両方とも、前記リソグラフィ装置の積分器に配置されている、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が、前記リソグラフィ装置の集光器のひとみ面内又はひとみ面の近くに配置されている、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が、前記リソグラフィ装置の調整デバイスのひとみ面内又はひとみ面の近くに配置されている、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が、前記リソグラフィ装置の積分器のひとみ面内又はひとみ面の近くに配置されている、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの半波長板が石英シリカで形成されている、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムの寿命が、少なくとも約30×109ショットである、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムが、約1.0よりも大きな開口数を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置の少なくとも一部が、浸漬流体中に浸漬されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記浸漬流体が水である、請求項25に記載のリソグラフィ装置。
- 光学能動素子を備えるリソグラフィ装置であって、前記光学能動素子が、放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を選択的に与えるように、又は、放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を与え、かつ放射ビームの第2の部分に第2の方向の直線偏光を与えるように構成され、前記第2の方向が前記第1の方向に対して実質的に垂直であるリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を選択的に与えるステップか、又は、放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を与え、かつ前記放射ビームの第2の部分に第2の方向の直線偏光を与えるステップであって、前記第2の方向が前記第1の方向に対して実質的に垂直であるステップと、
前記放射ビームにパターンを与えるステップと、
前記パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するステップと、を備える方法。 - デバイス製造方法で製造されたデバイスであって、前記デバイス製造方法が、
放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を選択的に与えるステップか、又は、
放射ビームの第1の部分に第1の方向の直線偏光を与え、かつ前記放射ビームの第2の部分に第2の方向の直線偏光を与えるステップであって、前記第2の方向が前記第1の方向に対して実質的に垂直であるステップと、
前記放射ビームにパターンを与えるステップと、
前記パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するステップと、を備える、デバイス。 - 前記製造されたデバイスが集積回路、集積光システム、磁気ドメイン・メモリ用の誘導及び検出パターン、液晶ディスプレイ、及び薄膜磁気ヘッドである、請求項28に記載の方法に従って製造されたデバイス。
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