JP2006184443A - 照明光学装置 - Google Patents
照明光学装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006184443A JP2006184443A JP2004376572A JP2004376572A JP2006184443A JP 2006184443 A JP2006184443 A JP 2006184443A JP 2004376572 A JP2004376572 A JP 2004376572A JP 2004376572 A JP2004376572 A JP 2004376572A JP 2006184443 A JP2006184443 A JP 2006184443A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- illumination
- lens
- optical
- light irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 光源11側から光照射面10Aに向かって順に、屈折力を有しない第1光学系12と、正の屈折力を有する第2光学系13とが配置される。第1光学系12は、第2光学系13に対して相対位置(例えば間隔d2)が可変であり、光照射面における照度分布の調整用の光学系である。
【選択図】 図1
Description
本発明の目的は、コンデンサレンズの焦点距離とバックフォーカスの変化を伴わずに、光照射面における照度分布を調整できる簡素な照明光学装置を提供することにある。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の照明光学装置において、前記第1光学系は、正の屈折力を有する第3光学系と、絞りと、正の屈折力を有する第4光学系とで構成され、前記第3光学系の後側焦点面と前記絞りと前記第4光学系の前側焦点面とが一致するように配置されるものである。
請求項4に記載の発明は、請求項1から請求項3の何れか1項に記載の照明光学装置において、前記第2光学系は、凹面鏡である。
請求項6に記載の発明は、請求項1から請求項5の何れか1項に記載の照明光学装置において、前記第1光学系の前段に光路長変更手段を備えたものである。
(第1実施形態)
第1実施形態の照明光学装置10は、図1(a)に示す通り、光源11と、屈折力を有しないアフォーカル光学系12と、正の屈折力を有する集光光学系13とで構成される。アフォーカル光学系12と集光光学系13とは、コンデンサレンズ(12,13)として機能する。光源11からの光束は、コンデンサレンズ(12,13)を介して、光照射面10Aに導かれる。照明光学装置10は、光照射面10Aを均一に照明する装置である。
上記と同様の薄肉レンズ系における近軸光線追跡によれば、コンデンサレンズ(12,13)の焦点距離fとバックフォーカスBfは、一般に、上記のパラメータ(屈折力φ1,φ2,間隔d1)と、集光光学系13の屈折力φ3(>0)と、アフォーカル光学系12と集光光学系13との距離d2と、アフォーカル光学系12の屈折力φCとを用い、次の式(5),式(6)により表される。
f=D1/(2×NA) …(9)
また、上記の式(8)にBf=125mmを代入すると、集光光学系13の好適な焦点距離f3=125mmとなる。ただし、式(8)は、厚みの無い仮想的なレンズにおける説明であるため、厳密には、実際のレンズの厚みに応じてバックフォーカスBfが125mmより若干短くなる場合がある。実際のレンズ設計の際には、この薄肉レンズ系の光線追跡に基づく式(7),(8)と現実のレンズとの差異を踏まえ、各レンズの焦点距離,間隔を修正する必要がある。
I(θ)=I0×cosθ …(10)
さらに、コンデンサレンズ(12,13)の歪曲収差量V=0の場合、光軸に対して斜め方向(θ方向)に放射される光が、光照射面10Aに到達する点の光軸からの距離(つまり像高y)は、光の放射方向の傾斜角θと、コンデンサレンズ(12,13)の焦点距離fとを用いて、次の式(11)により表される。
このため、例えば光照射面10Aにおける照明領域の大きさD2を60mmとし、コンデンサレンズ(12,13)の焦点距離f=100mmとする場合、照明領域の最外周部(つまり像高y=30mmの点)に到達する光の傾斜角θmax=16.7°となる。そして、傾斜角θmax=16.7°を上記の式(10)に代入すると、照明領域の最外周部(像高y=30mm)における光の強度I(θmax)=0.96×I0となる。
このような光源11に起因する照度不均一を補正して図2(b)のような照度分布を得るために必要なコンデンサレンズ(12,13)の歪曲収差量Vは、次のようにして求めることができる。まず、上記の式(1)に、補正前の強度I(θmax)=0.96×I0と、そのときの歪曲収差量V=0を代入し、次の関係式(12)を得る。また同様に、補正後の所望の強度I0を代入し、次の関係式(13)を得る。
また、上記した第1実施形態では、アフォーカル光学系12を光軸方向に移動させる例を説明したが、本発明はこれに限定されない。アフォーカル光学系12を光軸に対して偏心方向に移動させても構わない。この場合、光照射面10Aにおける照度分布の傾斜成分(中心非対称成分)を調整することができる。この調整時にも、コンデンサレンズ(12,13)の焦点距離fとバックフォーカスBfを一定に保つことができる。
(第2実施形態)
第2実施形態の照明光学装置20は、図4(a)に示す通り、上記したガリレオ型のアフォーカル光学系12に代えて、ケプラー型のアフォーカル光学系15を用いたものである。照明光学装置20を薄肉レンズ系とした場合の屈折力配置を図4(b)に示す。
さらに、絞り5Cの配置面F(図4(b))は光照射面10Aと共役である。この場合、絞り5Cは、照野を制限する照野絞りとして機能する。したがって、第2実施形態の照明光学装置20では、光照射面10Aの照明領域の形状を絞り5Cの形状と概ね相似に制限できる。また、絞り5Cを異なる寸法形状のものに交換する(または絞り5Cを径可変の虹彩絞りとする)ことで、照明領域を可変にすることもできる。その他、絞り5Cを設けたことにより、光学系の迷光による悪影響を低減できる。
また、絞り5Cと光照射面10Aとの倍率Mは、凸レンズ5Bの焦点距離f2=50mmと、集光光学系13の焦点距離f3=125mmとを用い、M=125/50=2.5となる。この場合、光照射面10Aにおける照明領域の大きさD2=60mmとするためには、絞り5Cの直径を24mmとすればよい。
第2実施形態の照明光学装置20では、ケプラー型のアフォーカル光学系15の移動により間隔d2を変化させることで、コンデンサレンズ(15,13)の焦点距離fとバックフォーカスBfの変化を伴わずに、光照射面10Aにおける照度分布を調整することができる。また、第2実施形態でも、アフォーカル光学系15を光軸に対して偏心方向に移動させることで、照度分布の傾斜成分を調整できる。さらに、複数のアフォーカル光学系15を使い分けることで、照度分布の調整範囲を広げることもできる。
(第3実施形態)
第3実施形態の照明光学装置30は、図5(a)に示す通り、上記した第1実施形態の照明光学装置10のアフォーカル光学系12の前段に光路長変更機構(31,32)を設けたものである。光路長変更機構(31,32)は、厚さの異なる複数の平行平面板31,32,…を有し、このうち何れか1つを選択的に光路内に配置できるようになっている。
光路長変更機構(31,32)を設けない場合、アフォーカル光学系12を光軸方向に移動させると、コンデンサレンズ(12,13)の前側焦点面の位置が変化する。このため、光源11の位置が固定である場合には、照度分布の調整に応じて光照射面10Aでのテレセントリシティが変化してしまう。
例えば、アフォーカル光学系12の倍率mC(=−f2/f1)の絶対値が|mC|<1の場合には、アフォーカル光学系12を光照射面10Aの方に移動させたときに厚い平行平面板(32)を挿入し、光源11の方に移動させたときに薄い平行平面板(31)を挿入する(または全ての平行平面板を退避させる)。また、|mC|>1の場合には、光照射面10Aの方に移動させたときに薄い平行平面板(31)を挿入し(または全ての平行平面板を退避させ)、光源11の方に移動させたときに厚い平行平面板(32)を挿入する。
なお、上記した光路長変更機構(31,32)に代えて、図5(b)に示すような光路長変更機構(33,34)を設けた場合にも、上記と同様の効果を得ることができる。ただし、光路長変更機構(33,34)では、2枚の偏角プリズム33,34のうち何れか一方を光軸と垂直方向に移動させるため、光路長を連続的に変更することができ、照度分布を調整する際のテレセントリシティの変化を連続的に補償することが可能となる。
(第4実施形態)
第4実施形態の照明光学装置40は、図6に示す通り、上記した第1実施形態の照明光学装置10の集光光学系13に代えて、凹面鏡41を設けたものである。凹面鏡41も、正の屈折力を有する。第4実施形態の照明光学装置40では、アフォーカル光学系12と凹面鏡41とが、コンデンサレンズ(12,41)として機能する。照明光学装置40を薄肉レンズ系とした場合の屈折力配置は図1(a)と同じである。
そのため、特に広い光照射面を必要とする場合や、広い波長帯域の光(例えば白色光)による照明を行う場合、または、異なる波長の光源を切り替える場合に好適である。例えば、半導体ウエハの全面を一括照明して検査する半導体検査装置(自動マクロ検査装置など)の照明光学装置に有効である。
(第5実施形態)
第5実施形態の照明光学装置50は、図7(a)に示す通り、上記した第1実施形態の照明光学装置10のアフォーカル光学系12の前段にフライアイインテグレータ51と開口絞り52を設けたものである。フライアイインテグレータ51の前段には光源が配置されるが、図7(a)では光源を図示省略した。ここでは、照明領域50mm×50mm、照明NA=0.06、バックフォーカスBf=200mm程度となる場合を例に説明する。
第5実施形態の照明光学装置50におけるコンデンサレンズ(12,13)の好適な焦点距離fは、次のようにして求めることができる。各要素レンズ53の入射面は光照射面10Aと共役であり、このときの投影倍率βは、各要素レンズ53の焦点距離feを用いて、次の式(14)により表される。
したがって、上記の式(15),(16)を式(17)に代入すると共に、上記の式(14)を用いて整理すると、コンデンサレンズ(12,13)の写像関係g(θ)は、次の式(18)のようになる。
|R1|=|R2|=(n−1)×fe …(22)
このとき光照射面10Aの照明領域の四隅に到達する光束の不満足量S.C.(θ)=−0.51となる。そして、この不満足量S.C.(θ)=−0.51と、要素レンズ53の焦点距離fe=21mmを、式(20)に代入することにより、フライアイインテグレータ51に起因する照度不均一を相殺可能な歪曲収差量V=−5.3%と見積もることができる。フライアイインテグレータ51を用いた場合には、歪曲収差量V=−5.3%を、照度分布の調整時の中心値とすることが望ましい。照度分布の調整によって製造誤差に起因する照度不均一を補正する場合には、上記の中心値(V≒−5.3%)から歪曲収差量Vを増減させればよい。
(変形例)
なお、上記した実施形態では、光照射面10Aをテレセントリック照明する例で説明したが、本発明はこれに限定されない。光源または光源像とコンデンサレンズと光照射面との配置関係がテレセントリック以外の条件を満たす場合も、本発明を適用できる。
10A 光照射面
11 光源
12,15 アフォーカル光学系
2A,2D 凹レンズ
2B,2C,5A,5B 凸レンズ
5C 絞り
13 集光光学系
31,32 平行平面板
33,34 偏角プリズム
41 凹面鏡
51 フライアイインテグレータ
52 開口絞り
53 要素レンズ
Claims (6)
- 光源または光源像の側から光照射面に向かって順に、屈折力を有しない第1光学系と、正の屈折力を有する第2光学系とが配置され、
前記第1光学系は、前記第2光学系に対して相対位置が可変であり、前記光照射面における照度分布の調整用の光学系である
ことを特徴とする照明光学装置。 - 請求項1に記載の照明光学装置において、
前記第1光学系は、正の屈折力を有する第3光学系と、絞りと、正の屈折力を有する第4光学系とで構成され、前記第3光学系の後側焦点面と前記絞りと前記第4光学系の前側焦点面とが一致するように配置される
ことを特徴とする照明光学装置。 - 請求項1または請求項2に記載の照明光学装置において、
倍率が等しい複数の前記第1光学系を備え、
前記複数の第1光学系のうち何れか1つが選択的に光路内に配置される
ことを特徴とする照明光学装置。 - 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の照明光学装置において、
前記第2光学系は、凹面鏡である
ことを特徴とする照明光学装置。 - 請求項1から請求項4の何れか1項に記載の照明光学装置において、
前記第1光学系の前段にオプティカルインテグレータを備えた
ことを特徴とする照明光学装置。 - 請求項1から請求項5の何れか1項に記載の照明光学装置において、
前記第1光学系の前段に光路長変更手段を備えた
ことを特徴とする照明光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004376572A JP4765314B2 (ja) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | 照明光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004376572A JP4765314B2 (ja) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | 照明光学装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006184443A true JP2006184443A (ja) | 2006-07-13 |
JP4765314B2 JP4765314B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=36737627
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004376572A Active JP4765314B2 (ja) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | 照明光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4765314B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016100461A (ja) * | 2014-11-21 | 2016-05-30 | キヤノン株式会社 | 照明光学装置、およびデバイス製造方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61267722A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-27 | Canon Inc | 照明光学装置 |
JPH08220432A (ja) * | 1995-02-17 | 1996-08-30 | Nikon Corp | 投影光学系および該光学系を備えた露光装置 |
JPH09325275A (ja) * | 1996-06-04 | 1997-12-16 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH10189427A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-07-21 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JPH11224853A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-08-17 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置、露光方法、及び半導体デバイス製造方法 |
JP2001250762A (ja) * | 2000-03-06 | 2001-09-14 | Canon Inc | 照明光学系及び前記照明光学系を用いた露光装置 |
JP2002025933A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-01-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビームホモジナイザ及び半導体薄膜作製方法 |
JP2002214525A (ja) * | 2001-01-16 | 2002-07-31 | Nikon Corp | 照明光学系 |
JP2002296792A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Optrex Corp | 一括式プロキシミティギャップ露光機 |
JP2003037060A (ja) * | 1992-11-05 | 2003-02-07 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置、露光方法及び半導体製造方法 |
JP2005114922A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Canon Inc | 照明光学系及びそれを用いた露光装置 |
-
2004
- 2004-12-27 JP JP2004376572A patent/JP4765314B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61267722A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-27 | Canon Inc | 照明光学装置 |
JP2003037060A (ja) * | 1992-11-05 | 2003-02-07 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置、露光方法及び半導体製造方法 |
JPH08220432A (ja) * | 1995-02-17 | 1996-08-30 | Nikon Corp | 投影光学系および該光学系を備えた露光装置 |
JPH09325275A (ja) * | 1996-06-04 | 1997-12-16 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH10189427A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-07-21 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JPH11224853A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-08-17 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置、露光方法、及び半導体デバイス製造方法 |
JP2001250762A (ja) * | 2000-03-06 | 2001-09-14 | Canon Inc | 照明光学系及び前記照明光学系を用いた露光装置 |
JP2002214525A (ja) * | 2001-01-16 | 2002-07-31 | Nikon Corp | 照明光学系 |
JP2002296792A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Optrex Corp | 一括式プロキシミティギャップ露光機 |
JP2002025933A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-01-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビームホモジナイザ及び半導体薄膜作製方法 |
JP2005114922A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Canon Inc | 照明光学系及びそれを用いた露光装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016100461A (ja) * | 2014-11-21 | 2016-05-30 | キヤノン株式会社 | 照明光学装置、およびデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4765314B2 (ja) | 2011-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8520291B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
US8462317B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
US8456624B2 (en) | Inspection device and inspecting method for spatial light modulator, illumination optical system, method for adjusting the illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
US7209218B2 (en) | Exposure apparatus and method for manufacturing device using the exposure apparatus | |
EP1336898A2 (en) | Exposure apparatus and method, and device fabricating method using the same | |
US9280054B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device | |
JPH10189427A (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
JP2003114387A (ja) | 反射屈折光学系および該光学系を備える投影露光装置 | |
US20110109893A1 (en) | Microlithographic projection exposure apparatus | |
TW202023069A (zh) | 光源裝置、照明裝置、曝光裝置及製造物件之方法 | |
JP2004198748A (ja) | オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置および露光方法 | |
JP2004055856A (ja) | 照明装置、それを用いた露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2003203853A (ja) | 露光装置及び方法並びにマイクロデバイスの製造方法 | |
JP4765314B2 (ja) | 照明光学装置 | |
US11698589B2 (en) | Light source device, illuminating apparatus, exposing apparatus, and method for manufacturing article | |
JP4838430B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
WO2005017483A1 (ja) | 照度分布の評価方法、光学部材の製造方法、照明光学装置、露光装置および露光方法 | |
TW201821857A (zh) | 反射折射光學系統、照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法 | |
TW201433826A (zh) | 照明光學系統、曝光裝置、以及裝置之製造方法 | |
JP2002169083A (ja) | 対物光学系、収差測定装置、投影露光装置、対物光学系の製造方法、収差測定装置の製造方法、投影露光装置の製造方法及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2007287885A (ja) | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2004311742A (ja) | 光学系の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法 | |
JPH0936026A (ja) | 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 | |
JP2004093953A (ja) | 投影光学系、露光装置、及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2003035511A (ja) | 位置検出装置、および該位置検出装置を備えた露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071127 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110517 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4765314 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |