JP2006184047A - Fetの特性測定方法 - Google Patents

Fetの特性測定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006184047A
JP2006184047A JP2004375578A JP2004375578A JP2006184047A JP 2006184047 A JP2006184047 A JP 2006184047A JP 2004375578 A JP2004375578 A JP 2004375578A JP 2004375578 A JP2004375578 A JP 2004375578A JP 2006184047 A JP2006184047 A JP 2006184047A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
pulse
fet
measuring
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP2004375578A
Other languages
English (en)
Inventor
Noboru Saito
昇 斎藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agilent Technologies Inc
Original Assignee
Agilent Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agilent Technologies Inc filed Critical Agilent Technologies Inc
Priority to JP2004375578A priority Critical patent/JP2006184047A/ja
Priority to TW094145404A priority patent/TW200639420A/zh
Priority to US11/314,458 priority patent/US7230444B2/en
Priority to CN200510132826.4A priority patent/CN1797019A/zh
Priority to DE102005062405A priority patent/DE102005062405A1/de
Publication of JP2006184047A publication Critical patent/JP2006184047A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2607Circuits therefor
    • G01R31/2621Circuits therefor for testing field effect transistors, i.e. FET's
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2601Apparatus or methods therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)
  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Abstract

【課題】 (SOI)MOSFET、歪みシリコンMOSFET等の先進性デバイスの特性を高精度に測定する。
【解決手段】 バイアス・ティー5のバイアス出力端子から出力される所定のバイアス電圧をFET1のドレインに印加するとともに、FET1のゲートにパルスジェネレータ3から出力されるパルスを印加し、これによってFET1に発生するドレイン電流をバイアス・ティー5の交流出力端子に接続された負荷インピーダンスで電圧パルスに変換して、この電圧パルスからドレイン電流を測定するFETの特性測定方法である。バイアス電圧を負荷インピーダンスによる電圧降下分だけ増加させ、バイアス電圧の増加に応じて変化する電圧パルスの値を測定することを所定回数繰り返すステップと、前記所定回数の測定の繰り返しによって得られる複数の電圧パルスの値のうち、最後の2回の値に外挿法を適用して、FET1に印加すべきドレイン電圧を決定するステップと、
を含む。
【選択図】 図7

Description

本発明は、パルス信号をFETのゲートに入力して、該FETのIV(電流電圧)特性を測定する方法に関し、特に、SOI(Silicon On Insulator)技術や歪みシリコン形成技術によって製造されるMOSFET等、先進のFETの同特性を測定するのに好適な方法に関するものである。
FETのIV(電流電圧)特性は、このFETのドレインに所定のバイアス電圧を印加した状態で、該FETのゲートに所定のDC電圧を印加した場合のドレイン電流を計測することによって測定される(IV特性)。
しかし、IV特性の測定対象がSOI(Silicon On Insulator)技術や歪みシリコン形成技術によって製造されるMOSFET等の先進のFET(以下、DUTという)の場合、ゲートにDC電圧を印加するという上記従来の測定手法では、DUTの自己発熱現象のために信頼性の高いIV特性の測定結果が得られない。
そこで、上記DUTのゲートに時間幅の短いパルスを印加する測定方法が提案されている。この測定法によれば、上記半導体デバイスを発熱させることなく動作させることが可能であるので、発熱の影響を受けない測定結果を得ることができる(例えば、非特許文献1参照)。
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS,VOL.16,NO.4,APRIL 1995 K.A Jenkins and J.Y-C.Sun P135〜147
上記DUTのゲートにパルスを印加する測定方法では、いわゆるバイアス・ティー(Bias-Tee)を介して所定の電圧が該DUTのドレインに印加され、これによって、上記パルスの印加期間において測定すべきドレイン電流が流れる。
この場合、DUTから上記バイアス・ティーおよび計測器側を見たインピーダンス(計測器の入力インピーダンス)がDUTの負荷になるので、該DUTにドレイン電流が流れたときに、この負荷による電圧降下分だけドレイン電圧が低下することになる。このため、所定のドレイン電圧下でのドレイン電流を測定することができず、これがIV特性の測定誤差の大きな要因になっている。また、上記ドレイン電圧の降下は、ドレイン電圧の範囲を制限するので、必要なドレイン電圧範囲でのIV特性の測定ができなくなるという不都合も発生する。
そこで、本発明は、(SOI)MOSFET、歪みシリコンMOSFET等の先進のFETのIV特性をより高精度に測定することができる方法を提供することを目的としている。
本発明は、バイアス・ティーのバイアス出力端子から出力される所定のバイアス電圧をFETのドレインに印加するとともに、前記FETのゲートにパルスジェネレータから出力されるパルスを印加し、これによって前記FETに発生するドレイン電流を前記バイアス・ティーの交流出力端子に接続された負荷インピーダンスで電圧パルスに変換して、該電圧パルスから前記ドレイン電流を測定するFETの特性測定方法であって、前記バイアス電圧を前記負荷インピーダンスによる電圧降下分だけ増加させ、前記バイアス電圧の増加に応じて変化する前記電圧パルスの値を測定することを所定回数繰り返すステップと、前記所定回数の測定の繰り返しによって得られる複数の前記電圧パルスの値のうち、最後の2回の値に外挿法を適用して、前記FETに印加すべきドレイン電圧を決定するステップと、を含むことによって上記目的を達成している。
前記FETのゲートには、前記パルスをアッテネータを介して印加することが望ましい。
前記パルスジェネレータが、設定電圧分解能誤差のために同一出力電圧設定範囲内に含まれる種々の設定電圧に対して同じ値の電圧を出力する特性を有する場合には、前記FETのゲートに印加するパルスとして、所望の設定パルス電圧Vset−Kを含む第1の設定範囲内の最小電圧Vset−Lである下境界電圧と、前記第1の設定範囲の最大電圧側に隣接する第2の設定範囲内の最小電圧Vset−Hである上境界電圧を設定するステップと、前記上境界電圧を有するパルスに基づく前記ドレイン電流と、前記下境界電圧を有するパルスに基づく前記ドレイン電流とを測定するステップと、前記所望の設定パルス電圧Vset−Kと前記測定した各ドレイン電流とに基づいて、前記設定パルス電圧Vset−Kに基づくドレイン電流に対応するドレイン電流を補間演算するステップと、を含むことができる。
また、前記FETのゲートに印加されるパルスの幅を測定するステップと、前記印加パルスのパルス電圧規定タイミングを、前記印加パルスの前縁を基準として幅方向に所定%の割合だけ後縁側に寄ったタイミングに校正するステップと、前記電圧パルスの幅を測定するステップと、前記電圧パルスの電圧検出タイミングを、該電圧パルスの前縁からそのパルス幅の前記所定%の割合だけ後縁側に寄ったタイミングに設定するステップと、前記電圧検出タイミングで前記電圧パルスの電圧を測定するステップと、を更に含むことができる。
本発明によれば、スループットを損なうことなく、ドレイン電圧を適正に決定することができるので、精度の高いIV特性の測定が可能なる。また、ドレイン電圧の降下による測定値への影響を軽減することができる。
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。
図1において、DUT(試験対象デバイス)1は、SOI(Silicon On Insulator)技術や、歪みシリコン形成技術を用いて製造されたMOSFETである。
DUT1のゲートには、アッテネータ2を介してパルスジェネレータ3が接続され、また、このDUT1のドレインには、いわゆるバイアス・ティー(Bias-Tee)5を介して直流電圧源7およびオシロスコープ(デジタル・オシロスコープ)9が接続されている。
上記直流電圧源7としては、例えば、高精度の直流電圧印加・電流測定機能を有するアジレント・テクノロジー社製Agilent 4156などのSMU(ソース・メジャー・ユニット)等を使用することができる。
この実施形態では、パルスジェネレータ3の出力インピーダンスおよびオシロスコープ9の入力インピーダンスがそれぞれ50オームに設定されている。また、オシロスコープ9には、パルスジェネレータ3からトリガ信号(同期信号)が与えられる。
DUT1のIV特性(ドレイン電流−ドレイン電圧特性)を測定する場合には、その測定に先立って、オシロスコープ9を校正するための補正係数の設定、該オシロスコープ9の入力インピーダンスの測定、パルスジェネレータ3を校正するための補正係数の設定、バイアス・ティー5の挿入ロスの測定、バイアス・ティー5からオシロスコープ9までの間のケーブル14のロス、バイアス・ティー5の入力インピーダンスの測定、アッテネータ2の挿入ロスの測定および該アッテネータ2の入力インピーダンスの測定が実行される。
(A)オシロスコープ9の校正では、長さの短いケーブルを用いてオシロスコープ9の入力にSMUを接続し、該SMUから複数電圧値について順次電圧を出力させて、それらの電圧をオシロスコープ9によって測定する。そして、SMUの出力電圧とこれに対応するオシロスコープ9の測定電圧との関係を線形化する補正係数(A2,B2)を最小二乗法を適用して得る。補正係数(A2,B2)は、オシロスコープ9の測定電圧Vmesの校正に使用される。すなわち、校正されたオシロスコープ9の測定電圧Voutは、以下のように表される。
out=A2・Vmes+B2 (1)
上記補正係数A2,B2は,コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
(B)オシロスコープ9の入力インピーダンスの測定では、SMUの出力電圧をオシロスコープ9に入力し、この電圧の入力に伴ってオシロスコープ9に流れこむ電流を上記SMUで計測する。上記入力インピーダンスは、上記SMUの出力電圧と上記計測された電流とに基づいて得ることができる。
上記オシロスコープ9の入力インピーダンスは、コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
(C) パルスジェネレータ3の校正では、長さの短いケーブルを用いてパルスジェネレータ3の出力にオシロスコープ9を接続した後、該パルスジェネレータ3から複数の電圧についてパルスを出力させ、それぞれの電圧パルスの電圧をオシロスコープ9によって測定する。そして、パルスジェネレータ3の出力電圧Vgと、これに対応するオシロスコープ9の測定電圧Vmesの校正後の電圧Voutとの関係を線形化する補正係数(A1,B1)を最小二乗法を適用して得る。補正係数(A1,B1)は、パルスジェネレータ3の出力電圧Vgの校正に使用される。すなわち、校正されたパルスジェネレータ3の出力電圧Vg'は、以下のように表される。
g'=A1・Vg+B1 (2)
上記補正係数A1,B1は,コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
(D) 図1に示すバイアス・ティー5の挿入ロスの測定では、長さの短いケーブルを用いて上記校正の終了したパルスジェネレータ3をバイアス・ティー5のバイアス出力端子に接続するとともに、長さの短いケーブルを用いてバイアス・ティー5のAC出力端子(交流出力端子)をオシロスコープ9に接続する。バイアス・ティー5の挿入ロスは、該バイアス・ティー5を介してオシロスコープ9で測定されるパルスジェネレータ3の出力信号電圧と、バイアス・ティー5を介さずに直接オシロスコープ9で測定されるパルスジェネレータ3の出力信号電圧との比として得ることができる。
上記バイアス・ティー5の挿入ロスは、コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
(E) バイアス・ティー5のAC出力端子とオシロスコープ9の入力に接続されるケーブル14のロスの測定では、該ケーブル14の一端に長さの短いケーブルを介してパルスジェネレータ3を接続するとともに、該ケーブル14の他端に長さの短いケーブルを介してオシロスコープ9を接続する。上記ケーブル14の挿入ロスは、該ケーブル14を介してオシロスコープ9で測定されるパルスジェネレータ3の出力電圧と、ケーブル14を介さずに直接オシロスコープ9で測定されるパルスジェネレータ3の出力電圧との比をとることによって得る。
上記ケーブル14の挿入ロスは、コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
(F) バイアス・ティー5のバイアス出力端子−AC出力端子間のインピーダンスは、別途ネットワークアナライザなどに両端子を接続して測定する。測定された入力インピーダンスは、コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
(G) アッテネータ2の挿入ロスの測定では、該アッテネータ2の入力ポートおよび出力ポートにそれぞれ第1および第2のSMUを接続し、第1のSMUの出力電圧V1をアッテネータ2の入力ポートに印加したときの該アッテネータ2の出力電圧V2を第2のSMU2で測定する(このとき、出力ポートは実質的にオープン状態とする)。アッテネータ2の挿入ロスは、V2/V1として得られる。
上記アッテネータ2の挿入ロスは、コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
(H) アッテネータ2の入力インピーダンスの測定では、上記第1のSMUの出力電圧V1をアッテネータ2の入力に印加したときの該アッテネータ2の入力電流I1を該第1のSMUで測定する(このとき、出力ポートは実質的にオープン状態とする)。アッテネータ2の入力インピーダンスは、V1/I1として得られる。
上記アッテネータ2の入力インピーダンスは、コンピュータ11の記憶手段に予め記憶される。
図1に示した測定システムを使用してDUT1のIV特性を測定する場合には、パルスジェネレータ3の出力をケーブル13とアッテネータ2とを介してDUT1のゲートに接続して、パルスジェネレータ3の出力パルス(パルス幅は、例えば1〜10ns程度)がケーブル13とアッテネータ2とを介してDUT1のゲートに印加されるようにする。また、バイアス・ティー5のDC入力端子(直流入力端子)に直流電圧源7の出力を接続するとともに、バイアス・ティー5のバイアス出力端子にDUT1のドレインを接続して、バイアス・ティー5を介して直流電圧源7の所定の出力電圧がDUT1のドレインに印加されるようにする。さらに、バイアス・ティー5の交流出力端子をケーブル14を介してオシロスコープ9の入力端子に接続する。
このとき、パルスジェネレータ3の出力パルスの電圧Vsetは、コンピュータ11の制御によって以下のように設定される。
set=(A1・Vg+B1)/LossATT (3)
ただし、LossATTは前記したアッテネータ2の挿入ロスである。
ここで、アッテネータ2を使用する理由を説明する。パルスジェネレータ3からケーブル13に出力されたパルスは、パルスジェネレータ3の出力インピーダンスとケーブル13の特性インピーダンスとのずれ、およびDUT1の入力インピーダンス(入力容量によるインピーダンスを含む)とケーブル13の特性インピーダンスとのずれのために、その入力端と出力端とで多重反射することがある。そして、この多重反射が生じると、パルスの品質が低下する。
しかし、上記アッテネータ2は、その減衰作用でケーブル13のDUT1側の端におけるパルスの反射を軽減するので、このアッテネータ2を挿入することによってDUT1に印加されるパルスの品質を改善することができる。アッテネータ2は、このような観点から使用されている。
電圧Vsetのパルスがアッテネータ2を介してDUT1のゲートに入力されると、該DUT1がオンするので、バイアス・ティー5に内蔵された直流カット用のコンデンサ(図2の符号51参照)にDUT1のドレイン電流に対応する電流が流れる。上記コンデンサを通る電流は、DUT1のドレインからバイアス・ティー5およびオシロスコープ9を見たインピーダンスによって上記ドレイン電流に対応する電圧パルスに変換され、この電圧パルスの電圧値がオシロスコープ9によって測定される。
なお、交流回路としては、実質的に、バイアス・ティー5のバイアス出力端子−AC出力端子間が導通状態となり、一方、同バイアス出力端子―直流入力端子間は高インピーダンスとなって電流がほとんど流れない。したがって、ドレイン電流はオシロスコープ9内のインピーダンスに流れる電流と等しい。
コンピュータ11では、オシロスコープ9の測定電圧Vmesと前記(1)式とに基づいて、校正された測定電圧Voutを演算し、かつ、下式に基づいてドレイン電流Idを演算する。
d={Vout/(Loss1・Loss2)}/Zin (3)
ただし、Loss1:ケーブル14の挿入ロス
Loss2:バイアス・ティー5の挿入ロス
in:オシロスコープ9の入力インピーダンスとバイアス・ティー 5の入力インピーダンスの合成インピーダンス
DUT1のIV特性を得るため、コンピュータ11は、所定のゲートパルス電圧について直流電圧源7の出力電圧を制御し、複数のドレイン電圧についてのドレイン電流を測定する。そして、複数のゲートパルス電圧について同様の測定を繰り返して、図3に例示するようなIV特性を得る。
ここで、パルスジェネレータ3の出力パルスの設定電圧Vsetについて考察する。パルスジェネレータ3は、直流電圧源9ほど高精度の電圧設定精度を持っていない。すなわち、パルスジェネレータ3は、図4に示すように、ある設定電圧の範囲内に含まれる種々の設定電圧に対して同じ値の電圧を出力する。例えば、設定範囲r−a内に含まれるいずれの設定電圧に対しても出力電圧Vaのパルスを、設定範囲r−b内に含まれるいずれの値の設定電圧に対しても出力電圧Vbのパルスを、設定範囲r−c内に含まれるいずれの値の設定電圧に対しても出力電圧Vcのパルスをそれぞれ出力する。これは、パルスジェネレータ3の出力電圧が、設定電圧分解能誤差の影響を受けることを示している。
そこで、パルスジェネレータ3の設定電圧分解能誤差の影響をできるだけ少なくするため、コンピュータ11に図5に示すような校正手順を実行させることができる。
この手順では、図4に示す所望の設定パルス電圧Vset−Kを含む設定範囲r−b内の最小電圧Vset−L(以下、下境界電圧と呼ぶ)と、設定範囲r−bの最大電圧側に隣接する設定範囲r−c内の最小電圧Vset−H(以下、上境界電圧と呼ぶ)を、上記所望のパルス電圧Vsetに代えるパルス電圧として設定する(ステップ101)。なお、電圧範囲r−a、r−bおよびr−cを例えば0.1Vとすると、Va−Vb及びVb−Vcも0.1Vである。
上記下境界電圧Vset−Lと上境界電圧Vset−L'は、所望の設定パルス電圧Vset−Kを挟む大きさを有する。そこで、上記上境界電圧Vset−Hおよび下境界電圧Vset−Lのパルスをパルスジェネレータ3から出力させて、図6に示すようなIV特性aおよびbを測定し(ステップ103,105)、これらのIV特性aおよびbと上記所望の設定パルス電圧Vset−Kとに基づいてIV特性cを補間演算する(ステップ107)。
このIV特性cは、上記所望のパルス電圧Vset−Kが反映されたもの、つまり、所望のパルス電圧Vset−Kのパルスをパルスジェネレータ3から出力させた場合のIV特性に近似したものとなる。換言すれば、上記IV特性cは、パルスジェネレータ3の設定電圧分解能誤差の影響が低減された信頼性の高いものになる。
次に、更に測定精度を向上する手法について説明する。図1において、DUT1のドレインから前記バイアス・ティー5およびオシロスコープ9を見たインピーダンス(オシロスコープ9の入力インピーダンス50Ωを含む)は、等価的にDUT1の負荷になる。図3に示すように、この負荷インピーダンスはロードライン151として示されるので、たとえば、直流電圧源7の出力電圧をVdrに設定しても、上記負荷インピーダンスによる電圧降下により、DUT1に実際に印加されるドレイン電圧はVd1(<Vdr)になる。
このため、オシロスコープ9は、ドレイン電流Id1に対応する電圧(Vdr−Vd1)を測定すること、すなわち、本来測定されるべきドレイン電流Idrよりも低いドレイン電流Id1に対応した電圧を測定することになる。
ここで、この実施形態におけるオシロスコープ9の測定電圧とは、オシロスコープ9内の負荷インピーダンスを流れるドレイン電流Id1による電圧降下に他ならないということに注意されたい。
図7および図8は、上記のような不都合を回避する手法を示している。なお、この実施形態では、ドレイン電流を対応する電圧として検出するので、図7では、縦軸にオシロスコープ9の測定電圧を示してある。また、図8に示す手順は、コンピュータ11によって実行される。
図8に示す手順では、まず、数値i(iは1以上の整数)を1に初期値化し(ステップ201)、ついで、直流電圧源7に対して電圧Vdrを出力させる指示を与えるとともに、DUT1のゲートに電圧Vset−rのパルスが入力されるようにパルスジェネレータ3に指示を与える(ステップ203)。
これにより、前述したようにDUT1のドレイン電圧がVd1まで降下し、その結果、オシロスコープ9はドレイン電流に相当する電圧降下分(Vdr−Vd1)の電圧差V1を測定する。つまり、ドレイン電流に相当する所定のドレインバイアス電圧Vdr下で測定される電圧Vrよりも低いバイアス電圧値Vd1において上記電圧差V1を測定することになる。
そこで、オシロスコープ9で測定される上記電圧V1を取込み(ステップ205)、電圧Vdrにこの電圧V1を加えた電圧Vd1'=Vdr+V1=Vdr+(Vdr―Vd1)を演算し、この電圧Vd1'が直流電圧源7から出力されるように該直流電圧源7に指示する(ステップ207)。
直流電圧源7から電圧Vd1'が出力されると、ロードライン152で示された前記インピーダンスに基づく負荷によってDUT1のドレイン電圧がVd1'からVd2まで降下する。この結果、このドレイン電流に相当する電圧降下分(Vd1'―Vd2)の電圧差V2をオシロスコープ9が測定するので、この電圧V2を取り込む(ステップ209)。
IV特性dにロードライン151が交差する点と該特性dにロードライン152が交差する点とを通る直線161は、下式(4)のように表される。なお、この式(4)では、図7における縦軸および横軸をそれぞれy軸およびx軸としている。
y={(V2−V1)/(Vd2−Vd1)}(x−Vd2)+V2 (4)
上式において、Vd1は既知であるVdrとV1からVd1=Vdr−V1として求めることができ、また、Vd2は既知であるVd1'とV2からVd2=Vd1'−V2として求めることができる。そこで、上式においてx=Vdrとしたときのyの値V1'を演算して、これをメモリに記憶する(ステップ211)。
ついで、iがn(例えば、3)になったか否かを判断する(ステップ213)。
現時点では、ステップ213の判断結果がNOであるので、数値iが1だけ増加されて(ステップ217)、手順がステップ207に戻される。したがって、電圧Vdrに電圧V2を加えた電圧Vd2'=Vdr+V2=Vdr+(Vdr―Vd2)を演算し、この電圧Vd2'が直流電圧源7から出力されるように該直流電圧源7に指示する。
直流電圧源7から電圧Vd2'が出力されると、ロードライン153で示された前記インピーダンスに基づく負荷によってDUT1のドレイン電圧がVd2'からVd3まで降下する。この結果、この電圧降下分(Vd2'―Vd3)に相当する電圧V3をオシロスコープ9が測定するので、この電圧V3を取り込む(ステップ209)。
IV特性dにロードライン152が交差する点と該特性dにロードライン153が交差する点とを通る直線162は、下式(5)のように表される。
y=[(V3−V2)/(Vd3−Vd2)](x−Vd3)+V3 (5)
上式において、Vd3は既知であるVd2'とV3からVd3=Vd2'−V3として求めることができる。そこで、上式においてx=Vdrとしたときのyの値V2'を演算して、これをメモリに記憶し(ステップ211)、ついで、iがnであるか否かを判断する(ステップ213)。
この例では、このときステップ213の判断結果がYESになるので、DUT1にドレイン電圧Vdrを印加するための直流電圧源7の出力電圧をVd2'に決定し、これをメモリに記憶させる(ステップ215)。
次に、iがnに到達するまでに得られたn個の電圧Vd1,Vd2,・・・Vdnのうち、最後の2個Vdn-1,Vdnに外挿法を適用して印加すべきドレイン電圧を決定する(ステップ219)。
図7に示す直線162とX=Vdrとの交点が上記外挿して計算したVd点でのドレイン電流である。このように外挿法を併用することにより、スループットを損なうことなく精度の高いIV特性の測定が可能なる。また、上記のようドレイン電圧を決定することにより、上記したドレイン電圧の降下による測定値への影響を軽減することができる。
なお、上記においては、一つのドレイン電圧値についての決定処理を説明したが、出力特性の測定に必要な他のドレイン電圧値についての決定処理も同様に実行される。また、上記処理によって決定されるドレイン電圧(直流電圧源7の出力電圧)は、ゲートパルスの電圧がVset−rのときのものであるが、他のゲートパルス電圧に対するドレイン電圧も上記と同様の処理を実行することによって決定することができる。
ところで、前記パルスジェネレータ3の特性、該パルスジェネレータ3の出力に接続されるケーブルの周波数特性、DUT1の特性等に起因して、該DUT1のゲートにオーバーシュート、アンダーシュートなどの多少の歪みを伴った波形のパルスが入力されることがある。図9(a)は、この歪みを伴った波形のゲート入力パルスを例示している。このように入力パルスが歪んでいると、前記オシロスコープ9で測定されるドレイン電流に対応した出力パルスの波形も、図9(b)に示すように遅れhをもって歪むことになる。このような入出力パルスは、時間軸上の位置により電圧が異なるので、測定誤差の要因になる。
そこで、この実施の形態では、入出力パルスの電圧値のタイミングを規定するために、DUT1のゲートに印加されたパルスをオシロスコープ9に入力し、コンピュータ11にこのパルスの入力パルス幅τiに応じた電圧規定ポイントP1を設定する処理を実行させている。上記ポイントP1は、入力パルスの前縁からパルス幅τiのR%(例えば、50%〜90%の範囲内の任意の値)の割合だけ後縁側に寄った箇所に設定され、パルスジェネレータ3からの出力パルス電圧及びバイアス・ティー5のAC出力端子からの出力パルス電圧の測定タイミングに適用される。
DUT1の出力特性を実際に測定する場合には、上記ゲート入力パルスが該DUT1のゲートに印加されるので、ドレイン電流に対応する図9(b)に示すような電圧パルスがオシロスコープ9に入力される。
そこで、コンピュータ11は、オシロスコープ9からこの電圧パルスの波形を取込んで、そのパルス幅τoを測定するとともに、該電圧パルスの前縁から上記パルス幅τoのR%の割合だけ後縁側に寄ったポイントP2を電圧測定ポイントとしてタイミング設定する。
かくして、ゲート入力パルスに対して設定されたポイントP1と、上記オシロスコープ9に入力される電圧パルスに対して設定されたポイントP2との対応関係が確立されるので、コンピュータ11は、電圧パルスのポイントP2の電圧をDUT1のドレイン電流を示す電圧としてサンプリングする。
上記のように、この実施の形態3によれば、歪みに関してゲート入力パルスのポイントP1とドレイン電流に対応する電圧パルスのポイントP2との関係が保持されるので、DUT1の出力特性の測定精度が向上する。
以上、本発明の実施の形態について説明した。当業者には容易に理解できるように、本発明についてさまざまな変更が可能である。例えば、図8のステップ213で判定する繰り返し回数nは3以外の数字とすることができる。また、パルスジェネレータ3の設定電圧Vsetの校正のための上境界値、下境界値には、Vsetを挟んで分解能以上の電圧差が発生するさまざまな電圧値を用いることができる。
本発明に係る測定方法を実施するための測定システムの構成を例示したブロック図である。 バイアス・ティーの構成を示す回路図である、 IV特性と、付加インピーダンスによるドレイン電圧の降下とを示すグラフである。 パルスジェネレータの設定電圧分解能誤差を説明するためのグラフである。 パルスジェネレータの誤差の影響を少なくするための手法を示すフローチャートである。 図4の手法によって得られるIV特性を示すグラフである。 本発明の実施の形態を示すグラフである。 本発明の実施の形態を示すフローチャートである。 (a)はDUTのゲートに入力されるパルスの波形とこのパルスに設定される電圧規定ポイントを、(b)はDUTのドレイン電流に基づいて発生する電圧パルスの波形とこのパルスに設定される電圧測定ポイントをそれぞれ例示した波形図である。
1 DUT
3 パルスジェネレータ
5 バイアス・ティー
7 SUM
9 オシロスコープ
11 コンピュータ
13,14 ケーブル

Claims (4)

  1. バイアス・ティーのバイアス出力端子から出力される所定のバイアス電圧をFETのドレインに印加するとともに、前記FETのゲートにパルスジェネレータから出力されるパルスを印加し、これによって前記FETに発生するドレイン電流を前記バイアス・ティーの交流出力端子に接続された負荷インピーダンスで電圧パルスに変換して、該電圧パルスから前記ドレイン電流を測定するFETの特性測定方法であって、
    前記バイアス電圧を前記負荷インピーダンスによる電圧降下分だけ増加させ、前記バイアス電圧の増加に応じて変化する前記電圧パルスの値を測定することを所定回数繰り返すステップと、
    前記所定回数の測定の繰り返しによって得られる複数の前記電圧パルスの値のうち、最後の2回の値に外挿法を適用して、前記FETに印加すべきドレイン電圧を決定するステップと、
    を含むことを特徴とするFETの特性測定方法。
  2. 前記パルスジェネレータから出力されるパルスは、アッテネータを介して前記FETのゲートに印加されることを特徴とする請求項1に記載のFETの特性測定方法。
  3. 前記パルスジェネレータは、設定電圧分解能誤差のために同一出力電圧設定範囲内に含まれる種々の設定電圧に対して同じ値の電圧を出力する特性を有し、
    前記FETのゲートに印加するパルスとして、所望の設定パルス電圧Vset−Kを含む第1の設定範囲内の最小電圧Vset−Lである下境界電圧と、前記第1の設定範囲の最大電圧側に隣接する第2の設定範囲内の最小電圧Vset−Hである上境界電圧を設定するステップと、
    前記上境界電圧を有するパルスに基づく前記ドレイン電流と、前記下境界電圧を有するパルスに基づく前記ドレイン電流とを測定するステップと、
    前記所望の設定パルス電圧Vset−Kと前記測定した各ドレイン電流とに基づいて、前記設定パルス電圧Vset−Kに基づくドレイン電流に対応するドレイン電流を補間演算するステップと、
    を含むことを特徴とする請求項1に記載のFETの特性測定方法。
  4. 前記FETのゲートに印加されるパルスの幅を測定するステップと、
    前記印加パルスのパルス電圧規定タイミングを、前記印加パルスの前縁を基準として幅方向に所定%の割合だけ後縁側に寄ったタイミングに校正するステップと、
    前記電圧パルスの幅を測定するステップと、
    前記電圧パルスの電圧検出タイミングを、該電圧パルスの前縁からそのパルス幅の前記所定%の割合だけ後縁側に寄ったタイミングに設定するステップと、
    前記電圧検出タイミングで前記電圧パルスの電圧を測定するステップと、
    を更に含むことを特徴とする請求項1に記載のFETの特性測定方法。
JP2004375578A 2004-12-27 2004-12-27 Fetの特性測定方法 Ceased JP2006184047A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004375578A JP2006184047A (ja) 2004-12-27 2004-12-27 Fetの特性測定方法
TW094145404A TW200639420A (en) 2004-12-27 2005-12-20 Method for measuring characteristics of fets
US11/314,458 US7230444B2 (en) 2004-12-27 2005-12-21 Method for measuring characteristics of FETs
CN200510132826.4A CN1797019A (zh) 2004-12-27 2005-12-22 测量场效应晶体管(fet)特性的方法
DE102005062405A DE102005062405A1 (de) 2004-12-27 2005-12-23 Verfahren zum Messen der Charakteristiken von FETs

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004375578A JP2006184047A (ja) 2004-12-27 2004-12-27 Fetの特性測定方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006184047A true JP2006184047A (ja) 2006-07-13

Family

ID=36590767

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004375578A Ceased JP2006184047A (ja) 2004-12-27 2004-12-27 Fetの特性測定方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7230444B2 (ja)
JP (1) JP2006184047A (ja)
CN (1) CN1797019A (ja)
DE (1) DE102005062405A1 (ja)
TW (1) TW200639420A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008197099A (ja) * 2007-02-13 2008-08-28 Keithley Instruments Inc パルスi−v測定系統を修正する方法
JP2009071112A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Denso Corp パワー半導体素子の評価方法および評価装置
US9891265B2 (en) 2012-11-22 2018-02-13 Fujitsu Limited Voltage detecting circuit and method for measuring characteristic of transistor

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007198836A (ja) * 2006-01-25 2007-08-09 Agilent Technol Inc Fetの特性を測定する方法および装置
JP2007327791A (ja) * 2006-06-06 2007-12-20 Agilent Technol Inc Fet特性測定装置
CN101846723B (zh) * 2009-03-25 2012-12-19 普诚科技股份有限公司 跨导参数的量测方法
CN102128989B (zh) * 2011-01-27 2013-04-24 广州金升阳科技有限公司 场效应管输入/输出电容的测量电路及其测量方法
CN102608508B (zh) * 2011-12-20 2014-11-12 西交利物浦大学 脉冲实时场效应管阈值电压参数自动测量装置及其方法
CN102565660A (zh) * 2012-01-04 2012-07-11 复旦大学 一种应用于MOSFETs器件的超高速Id-Vg测试方法
CN102692593A (zh) * 2012-06-06 2012-09-26 复旦大学 一种提高快速Id-Vg测试精度的测试系统
KR20150042404A (ko) * 2013-10-11 2015-04-21 삼성전자주식회사 반도체 장치의 검사 방법 및 이에 사용되는 프로빙 어셈블리
US9952274B2 (en) * 2015-03-13 2018-04-24 International Business Machines Corporation Measurement for transistor output characteristics with and without self heating
US10094863B2 (en) * 2016-03-02 2018-10-09 Texas Instruments Incorporated High-resolution power electronics measurements
CN108615770B (zh) * 2018-03-19 2021-09-21 中国科学院微电子研究所 场效应晶体管与检波电路
US11085961B2 (en) 2018-12-19 2021-08-10 Texas Instruments Incorporated Power transistor leakage current with gate voltage less than threshold

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05215808A (ja) * 1992-02-07 1993-08-27 Nec Corp 電界効果トランジスタの測定方法
JPH09274064A (ja) * 1996-04-05 1997-10-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体素子の試験装置,試験方法および半導体装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3965420A (en) * 1974-12-16 1976-06-22 Rca Corporation Apparatus for non-destructively testing the voltage characteristics of a transistor
TW297862B (en) * 1996-06-07 1997-02-11 United Microelectronics Corp Threshold voltage measuring method of MOSFET
JP2000049338A (ja) * 1998-07-28 2000-02-18 Mitsubishi Electric Corp 絶縁ゲート型トランジスタの特性評価方法、絶縁ゲート型トランジスタの製造方法、絶縁ゲート型トランジスタの特性評価装置、および特性評価プログラムを記録してあるコンピュータ読み取り可能な記録媒体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05215808A (ja) * 1992-02-07 1993-08-27 Nec Corp 電界効果トランジスタの測定方法
JPH09274064A (ja) * 1996-04-05 1997-10-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体素子の試験装置,試験方法および半導体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008197099A (ja) * 2007-02-13 2008-08-28 Keithley Instruments Inc パルスi−v測定系統を修正する方法
JP2009071112A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Denso Corp パワー半導体素子の評価方法および評価装置
US9891265B2 (en) 2012-11-22 2018-02-13 Fujitsu Limited Voltage detecting circuit and method for measuring characteristic of transistor

Also Published As

Publication number Publication date
DE102005062405A1 (de) 2006-07-06
US20060145708A1 (en) 2006-07-06
TW200639420A (en) 2006-11-16
US7230444B2 (en) 2007-06-12
CN1797019A (zh) 2006-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7230444B2 (en) Method for measuring characteristics of FETs
US6911813B2 (en) Methods and apparatus for phase compensation in electronic energy meters
US7429869B2 (en) Method for measuring FET characteristics
JPWO2006118244A1 (ja) Fet特性測定システム
EP3215860B1 (en) Systems and methods of measuring and determining noise parameters
US11162990B2 (en) Calibration arrangement and method for deriving a resistance of a resistor
JPH0862308A (ja) 半導体試験装置の測定信号のタイミング校正方法及びその回路
JP2006300688A (ja) 校正方法および校正装置
US20180143264A1 (en) Inductor current measurement probe
KR101962018B1 (ko) 신호 검출기 장치 및 방법
TW201531728A (zh) 利用頻域內校正之時域測量方法
KR20070043514A (ko) 정밀 전류, 전압 및 전력 측정장치
JP2007327791A (ja) Fet特性測定装置
US5933013A (en) Calibration circuit for calibrating frequency characteristics of an AC/DC converter
US7268530B1 (en) Method to measure the mutual phase relationship of a set of spectral components generated by a signal generator
CN117043621B (zh) 使用阻抗模拟进行校准的系统和方法
JP2001201524A (ja) 電気信号の比率測定装置、電気素子測定装置、電気素子測定装置の校正方法及び電気信号の比率測定方法
Lindquist et al. Isothermal Characterization of Traps in GaN HEMTs Operating in Class B Using a Real-Time Pulsed-RF NVNA Testbed
CN112924849B (zh) 一种应用于相位调整电路的误差补偿计算方法
EP3982130A1 (en) Apparatus and method for determining a response of a device under test to an electrical pulse generated by a pulse generator
JP2024031971A (ja) 電流センサの伝達関数を用いた動的試験のためのデスキュー方法
NL2010870C2 (en) Optimally controlled waveforms for device under test bias purposes.
Jenkins et al. Measurement of the Transient Response of Transistors
He et al. Measurement of RF power amplifier AM/AM AM/PM characteristics at constant junction temperature
Arthaber et al. An active load‐pull setup for broadband signals using digital baseband processing for the active loop

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20070511

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070514

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071212

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100609

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100623

A045 Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20101027