JP2006179759A - 光学素子及び投影露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 液浸法を適用した投影光学系に用いられる光学素子であって、液体と接する界面における露光光の反射を防止した光学素子を提供する。
【解決手段】 露光ビームＩＬでマスクＲを照明し、投影光学系ＰＬを介して前記マスクＲのパターンを基板Ｗ上に転写し、前記基板Ｗの表面と前記投影光学系ＰＬとの間に所定の液体７を介在させた投影露光装置に使用される光学素子であって、前記投影光学系ＰＬの前記基板側の、基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子４の表面に露光光の反射を防止するための、少なくとも最表面層が酸化物膜により構成された反射防止膜が成膜されている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、例えば、半導体素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等のデバイスを製造するためのリソグラフィ工程でマスクのパターンを感光性基板上に転写するために用いられる液浸法を用いた投影露光装置に使用される光学素子、及び該光学素子を用いた投影露光装置に関するものである。

半導体素子等を製造する際に、マスクとしてのレチクルのパターンの像を投影光学系を介して、感光性基板としてのレジストが塗布されたウエハ（又はガラスプレート等）上の各ショット領域に転写する投影露光装置が使用されている。従来は投影露光装置として、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影型の露光装置（ステッパ）が多用されていたが、最近ではレチクルとウエハとを同期走査して露光を行うステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置も注目されている。

投影露光装置に備えられている投影光学系の解像度は、使用する露光波長が短くなるほど、また投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。そのため、集積回路の微細化に伴い投影露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大してきている。そして、現在主流の露光波長は、ＫｒＦエキシマレーザの２４８ｎｍであるが、さらに短波長のＡｒＦエキシマレーザの１９３ｎｍも実用化されている。

また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度（ＤＯＦ）も重要となる。解像度Ｒ及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。

Ｒ＝ｋ₁ ・λ／ＮＡ （１）
δ＝ｋ₂ ・λ／ＮＡ² （２）
ここで、λは露光波長、ＮＡは投影光学系の開口数、ｋ_１、ｋ_２はプロセス係数である。（１）式、（２）式より、解像度Ｒを高めるために、露光波長λを短くして、開口数ＮＡを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。従来より投影露光装置では、オートフォーカス方式でウエハの表面を投影光学系の像面に合わせ込んで露光を行っているため、焦点深度δはある程度広いことが望ましい。そこで、実質的に焦点深度を広くするために位相シフトレチクル法、変形照明法、多層レジスト法等が提案されている。

しかしながら、半導体集積回路の一層の高集積化に対応するために、露光波長のさらなる短波長も研究されており、このままでは焦点深度が狭くなり過ぎて、露光動作時のマージンが不足する恐れがある。

そこで、実質的に露光波長を短くして、かつ焦点深度を広くする液浸法を用いた投影露光装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。これは投影光学系の下面とウエハ表面との間を水、または有機溶媒等の液体で満たし、液体中での露光光の波長が、空気中の１／ｎ倍（ｎは液体の屈折率で通常１．２〜１．６程度）になることを利用して解像度を向上すると共に、焦点深度を約ｎ倍に拡大する投影露光装置である。

特開平１０−３０３１１４号公報

ここで、図１７〜図１９を用いて、従来の液浸型の投影露光装置における投影光学系の基板に対向した光学素子における露光光の反射の状態を説明する。この液浸型の投影露光装置においては、図１７に示すように、投影光学系の基板に対向した光学素子１３１は合成石英ガラスにより構成され、光学素子１３１とレジストを塗布したシリコンにより構成される基板１３６との間には液体として水１３５を介在させている。

図１８は、図１７に示す光学素子１３１のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）における、反射率と出射角との関係を示す図である。ここで、合成石英ガラスおよび水の屈折率はそれぞれ１．５５および１．４４である。図１８に示すように、Ｓ偏光の反射率（Ｒｓ）とＰ偏光の反射率（Ｒｐ）との平均反射率（Ｒａ）は、出射角θが約５５度を超えると０．５％を超え、出射角θが６０度以上になると、平均反射率が１％を超えてくる。また、液浸型の投影光学系の開口数ＮＡは、
ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθ （３）
である。ここで、ｎは液体の屈折率であり、θは基板への入射角となる。図１７に示す投影光学系においては、水１３５を介して基板１３６に対向して配置される光学素子１３１は一般的に平面形状であるため、基板１３６への入射角は、光学素子１３１面からの出射角と同値である。従って、式（３）の関係を用いて、図１９に図１７に示す光学素子１３１のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）における、反射率と開口数ＮＡとの関係を示す。図１９に示すように、開口数ＮＡが１．２を超えると平均反射率Ｒａが０．５％を超え、さらに開口数ＮＡを上げるにつれて、反射率が増大していくため、ゴーストやフレア等が発生しやすくなり、所望の光学性能が得られにくくなる。

この露光光の界面反射率は液体とその液体と接する光学素子基材の屈折率によって決まる。即ち、屈折率の差が大きいほど、界面反射率も大きくなるため、例えば、ゴーストやフレア等が発生しやすくなり、結像性能を低下させる。さらにこの界面反射率は入射角度が大きく、より斜め入射になるにつれて大きくなる傾向があるため、解像度を上げるために開口数ＮＡを大きくすると、斜め入射の弊害が大きくなるため、結像性能の低下はより深刻になり、所望の光学性能が得られないという問題があった。

この発明の課題は、液浸法を適用した投影光学系に用いられる光学素子であって、液体と接する界面における透過性能の優れた光学素子及び該光学素子を備えた投影露光装置を提供することである。

請求項１記載の光学素子は、露光ビームでマスクを照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写し、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた投影露光装置に使用される光学素子であって、前記投影光学系の前記基板側の、基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子の表面に露光光の反射を防止する反射防止膜が成膜されていることを特徴とする。

この請求項１記載の光学素子によれば、投影光学系の基板側の、基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子の表面に、液体との界面における露光光の反射を防止する反射防止膜が成膜されている。従って、この透過光学素子を液浸型の投影露光装置に用いた場合、透過光学素子と液体との界面における露光光の反射を防止することができるため、投影露光装置において所望の光学特性を得ることができる。

また、請求項２記載の光学素子は、前記反射防止膜が多層膜により構成され、少なくとも該多層膜の最表面層が酸化物膜により構成されていることを特徴とする。

また、請求項３記載の光学素子は、前記最表面層の酸化物膜が酸化シリコン（SiO₂）膜であることを特徴とする。

この請求項２及び請求項３記載の光学素子によれば、多層膜により構成される反射防止膜の最表面層が酸化物膜、例えば、酸化シリコン（SiO₂）膜により構成されている。従って、反射防止膜の表面の酸化を防止することができるため透過光学素子と液体との界面における露光光の反射を長期間適切に防止することができ、この光学素子を投影露光装置に用いた場合に、適切な結像性能を得ることができる。

また、請求項４記載の光学素子は、前記反射防止膜が、酸化物膜から成る多層膜により構成されていることを特徴とする。この請求項４記載の光学素子は、酸化物膜から成る多層膜により反射防止膜が構成されているため、反射防止膜の酸化を防止することができ、透過光学素子と液体との界面における露光光の反射を長期間適切に防止することができる。

また、請求項５記載の光学素子は、前記露光ビームがＡｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする。

また、請求項６記載の光学素子は、前記露光ビームがＫｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする。

この請求項５及び請求項６記載の光学素子によれば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）や、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）を露光ビームとして用いた場合に、光学素子の液体と接する界面における反射を適切に防止することができる。従って、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）やＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）を露光光として用いた液浸型の投影露光装置にこの光学素子を用いた場合に、透過型光学素子の表面と液体との界面における露光光の反射を適切に防止し、適切な結像特性を得ることができる。

また、請求項７記載の光学素子は、前記液体が、純水もしくは純水を主成分とする液体であることを特徴とする。この請求項７記載の光学素子によれば、基板と投影光学系との間に純水もしくは純水を主成分とする液体を介在させた場合に、光学素子の液体と接する界面における反射を適切に防止することができる。

また、請求項８記載の投影露光装置は、露光ビームでマスクを照明し、前記マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写し、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた投影露光装置であって、前記投影光学系の前記基板側の基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子の表面に露光光の反射を防止する反射防止膜を備えることを特徴とする。

この請求項８記載の投影露光装置によれば、投影光学系の基板側の基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子の表面に、液体との界面における露光光の反射を防止する反射防止膜を備えている。従って、透過光学素子と液体との界面における露光光の反射を防止することができるため、所望の光学特性を得ることができる。

また、請求項９記載の投影露光装置は、前記反射防止膜が多層膜により構成され、少なくとも該多層膜の最表面層が酸化物膜により構成されていることを特徴とする。

また、請求項１０記載の投影露光装置は、前記最表面層の酸化物膜が酸化シリコン（SiO₂）膜であることを特徴とする。

この請求項９及び請求項１０記載の投影露光装置によれば、多層膜の反射防止膜の最表面層が酸化物膜、例えば、酸化シリコン（SiO₂）膜により構成されている。従って、反射防止膜の表面の酸化を防止することができるため透過光学素子と液体との界面における露光光の反射を長期間適切に防止することができ、適切な結像性能を得ることができる。

また、請求項１１記載の投影露光装置によれば、前記反射防止膜が酸化物膜から成る多層膜により構成されていることを特徴とする。この請求項１１記載の投影露光装置によれば、酸化物膜からなる多層膜により反射防止膜が構成されているため、反射防止膜の酸化を防止することができ、透過光学素子と液体との界面における露光光の反射を長期間適切に防止することができる。

また、請求項１２記載の投影露光装置は、前記露光ビームがＡｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする。

また、請求項１３記載の投影露光装置は、前記露光ビームがＫｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする。

この請求項１２及び請求項１３記載の投影露光装置によれば、ＡｒＦエキシマレーザ光（１９３ｎｍ）や、ＫｒＦエキシマレーザ光（２４８ｎｍ）を露光ビームとして用いた場合に、透過型光学素子の表面と液体との界面における露光光の反射を適切に防止し、適切な結像特性を得ることができる。

また、請求項１４記載の投影露光装置は、前記液体が純水もしくは純水を主成分とする液体であることを特徴とする。この請求項１４記載の投影露光装置によれば、基板と投影光学系との間に純水もしくは純水を主成分とする液体を介在させた場合においても、透過型光学素子の表面と液体との界面における露光光の反射を適切に防止し、適切な結像特性を得ることができる。

この発明の光学素子によれば、基材として合成石英ガラスが用いられた投影光学系の透過光学素子の表面に反射防止膜が成膜されているため、光学素子と液体とが接する界面での露光光の反射を適切に防止することができる。従って、ゴーストやフレア等の発生を抑制することができ、所望の光学特性を得ることができる。

この発明の投影露光装置によれば、基材として合成石英ガラスが用いられた投影光学系の基板側の光学素子の表面に反射防止膜を備えているため、液体と接する界面での露光光の反射を適切に防止することができる。従って、ゴーストやフレア等の発生が抑制され、高い解像度を実現することができるため、最適な状態で露光を行うことができる。

以下、図面を参照して、この発明の第１の実施の形態にかかる投影露光装置の説明を行う。図１は、第１の実施の形態にかかるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置の概略構成を示す図である。以下の説明においては、図１中に示すＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウエハＷに対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がウエハＷに対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。

この実施の形態にかかる投影露光装置は、図１に示すように、露光光源であるＡｒＦエキシマレーザ光源を含み、オプティカル・インテグレータ（ホモジナイザー）、視野絞り、コンデンサレンズ等から構成される照明光学系１を備えている。光源から射出された波長１９３ｎｍの紫外パルス光よりなる露光光（露光ビーム）ＩＬは、照明光学系１を通過し、レチクル（マスク）Ｒに設けられたパターンを照明する。レチクルＲを通過した光は、両側（又はウエハＷ側に片側）テレセントリックな投影光学系ＰＬを介して、フォトレジストが塗布されたウエハ（基板）Ｗ上の露光領域に所定の投影倍率β（例えば、βは１／４、１／５等）で縮小投影露光する。

なお、露光光ＩＬとしては、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）、Ｆ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）や水銀ランプのｉ線（波長３６５ｎｍ）等を使用してもよい。

また、レチクルＲはレチクルステージＲＳＴ上に保持され、レチクルステージＲＳＴにはＸ方向、Ｙ方向及び回転方向にレチクルＲを微動させる機構が組み込まれている。レチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置は、レチクルレーザ干渉計（図示せず）によってリアルタイムに計測、且つ制御されている。

また、ウエハＷはウエハホルダ（図示せず）を介してＺステージ９上に固定されている。Ｚステージ９は、投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行なＸＹ平面に沿って移動するＸＹステージ１０上に固定されており、ウエハＷのフォーカス位置（Ｚ方向の位置）及び傾斜角を制御する。Ｚステージ９のＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置は、Ｚステージ９上に位置する移動鏡１２を用いたウエハレーザ干渉計１３によってリアルタイムに計測、且つ制御されている。また、ＸＹステージ１０は、ベース１１上に載置されており、ウエハＷのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向を制御する。

この投影露光装置に備えられている主制御系１４は、レチクルレーザ干渉計により計測された計測値に基づいてレチクルＲのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置の調整を行なう。即ち、主制御系１４は、レチクルステージＲＳＴに組み込まれている機構に制御信号を送信し、レチクルステージＲＳＴを微動させることによりレチクルＲの位置調整を行なう。

また、主制御系１４は、オートフォーカス方式及びオートレベリング方式によりウエハＷ上の表面を投影光学系ＰＬの像面に合わせ込むため、ウエハＷのフォーカス位置（Ｚ方向の位置）及び傾斜角の調整を行なう。即ち、主制御系１４は、ウエハステージ駆動系１５に制御信号を送信し、ウエハステージ駆動系１５によりＺステージ９を駆動させることによりウエハＷのフォーカス位置及び傾斜角の調整を行なう。更に、主制御系１４は、ウエハレーザ干渉計１３により計測された計測値に基づいてウエハＷのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置の調整を行なう。即ち、主制御系１４は、ウエハステージ駆動系１５に制御信号を送信し、ウエハステージ駆動系１５によりＸＹステージ１０を駆動させることによりウエハＷのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置調整を行なう。

露光時には、主制御系１４は、ウエハステージ駆動系１５に制御信号を送信し、ウエハステージ駆動系１５によりＸＹステージ１０を駆動させることによりウエハＷ上の各ショット領域を順次露光位置にステップ移動させる。即ち、ステップ・アンド・リピート方式によりレチクルＲのパターン像をウエハＷ上に露光する動作を繰り返す。

この投影露光装置においては、露光波長を実質的に短くし、且つ解像度を向上させるために液浸法が適用されている。ここで、液侵法を適用した液浸型の投影露光装置においては、少なくともレチクルＲのパターン像をウエハＷ上に転写している間は、ウエハＷの表面と投影光学系ＰＬのウエハＷ側の透過光学素子４との間に所定の液体７が満たされている。投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬを構成する合成石英ガラス等により形成された複数の光学素子を収納する鏡筒３を備えている。この投影光学系ＰＬにおいては、最もウエハＷ側の透過光学素子４が合成石英ガラスにより形成されており、透過光学素子４の表面のみが液体７と接触するように構成されている。これによって、金属からなる鏡筒３の腐食等が防止されている。

また、透過光学素子４の先端部４Ａ、即ち、露光光が透過する部分には、露光光の反射を防止する反射防止膜が成膜されている。反射防止膜は、多層膜により構成されており、例えば、基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子４のウエハＷ側の表面に第１層としてフッ化ランタン（LaF₃）膜、第２層として酸化シリコン（SiO₂）膜を積層させた多層膜により構成されている。

また、液体７としては、半導体製造工場等で容易に大量に入手できる純水または純水を主成分とする液体が使用されている。なお、純水は不純物の含有量が極めて低いため、ウエハＷの表面を洗浄する作用が期待できる。

図２は、投影光学系ＰＬの透過光学素子４のウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４Ｂ並びにウエハＷと、そのウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４ＢをＸ方向に挟む２対の排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。また、図３は、投影光学系ＰＬの透過光学素子４のウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４Ｂと、そのウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４ＢをＹ方向に挟む２対の排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。この実施の形態にかかる投影露光装置は、液体７の供給を制御する液体供給装置５及び液体７の排出を制御する液体回収装置６を備えている。

液体供給装置５は、液体７のタンク（図示せず）、加圧ポンプ（図示せず）、温度制御装置（図示せず）等により構成されている。また、液体供給装置５には、図２に示すように、供給管２１を介してウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４Ｂの＋Ｘ方向側に細い先端部を有する排出ノズル２１ａが、供給管２２を介してウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４Ｂの−Ｘ方向側に細い先端部を有する排出ノズル２２ａが接続されている。また、液体供給装置５には、図３に示すように、供給管２７を介してウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４Ｂの＋Ｙ方向側に細い先端部を有する排出ノズル２７ａが、供給管２８を介してウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４Ｂの−Ｙ方向側に細い先端部を有する排出ノズル２８ａが接続されている。液体供給装置５は、温度制御装置により液体７の温度を調整し、排出ノズル２１ａ、２２ａ、２７ａ、２８ａの中の少なくとも１つの排出ノズルより、供給管２１、２２、２７、２８の中の少なくとも１つの供給管を介して温度調整された液体７をウエハＷ上に供給する。なお、液体７の温度は、温度制御装置により、例えば、この実施の形態にかかる投影露光装置が収納されているチャンバ内の温度と同程度に設定される。

液体回収装置６は、液体７のタンク（図示せず）、吸引ポンプ（図示せず）等により構成されている。また、液体回収装置６には、図２に示すように、回収管２３を介してテーパー面４Ｂの−Ｘ方向側に広い先端部を有する流入ノズル２３ａ，２３ｂが、回収管２４を介してテーパー面４Ｂの＋Ｘ方向側に広い先端部を有する流入ノズル２４ａ，２４ｂが接続されている。なお、流入ノズル２３ａ、２３ｂ、２４ａ、２４ｂは、ウエハＷ側の先端部４Ａの中心を通りＸ軸に平行な軸に対して扇状に開いた形で配置されている。また、液体回収装置６には、図３に示すように、回収管２９を介してテーパー面４Ｂの−Ｙ方向側に広い先端部を有する流入ノズル２９ａ，２９ｂが、回収管３０を介してテーパー面４Ｂの＋Ｙ方向側に広い先端部を有する流入ノズル３０ａ，３０ｂが接続されている。なお、流入ノズル２９ａ、２９ｂ、３０ａ、３０ｂは、ウエハＷ側の先端部４Ａの中心を通りＹ軸に平行な軸に対して扇状に開いた形で配置されている。

液体回収装置６は、流入ノズル２３ａ及び２３ｂ、２４ａ及び２４ｂ、２９ａ及び２９ｂ、３０ａ及び３０ｂの中の少なくとも１つの流入ノズルより、回収管２３、２４、２９、３０の中の少なくとも１つの回収管を介して液体７をウエハＷ上から回収する。

次に、液体７の供給及び回収方法について説明する。図２において、実線で示す矢印２５Ａの方向（−Ｘ方向）にウエハＷをステップ移動させる際には、液体供給装置５は、供給管２１及び排出ノズル２１ａを介して透過光学素子４のウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４ＢとウエハＷとの間に液体７を供給する。液体回収装置６は、回収管２３及び流入ノズル２３ａ，２３ｂを介してウエハＷ上から液体供給装置５によりウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４ＢとウエハＷとの間に供給された液体７を回収する。この場合においては、液体７はウエハＷ上を矢印２５Ｂの方向（−Ｘ方向）に流れており、ウエハＷと透過光学素子４との間は液体７により安定に満たされている。

一方、図２において、鎖線で示す矢印２６Ａの方向（＋Ｘ方向）にウエハＷをステップ移動させる際には、液体供給装置５は、供給管２２及び排出ノズル２２ａを介して透過光学素子４のウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４ＢとウエハＷとの間に液体７を供給する。液体回収装置６は、回収管２４及び流入ノズル２４ａ，２４ｂを介して、液体供給装置５によりウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４ＢとウエハＷとの間に供給された液体７を回収する。この場合においては、液体７はウエハＷ上を矢印２６Ｂの方向（＋Ｘ方向）に流れており、ウエハＷと透過光学素子４との間は液体７により安定に満たされている。

また、ウエハＷをＹ方向にステップ移動させる際には、Ｙ方向から液体７の供給及び回収を行なう。即ち、図３において、実線で示す矢印３１Ａの方向（−Ｙ方向）にウエハＷをステップ移動させる際には、液体供給装置５は、供給管２７及び排出ノズル２７ａを介して、液体７を供給する。液体回収装置６は、回収管２９及び流入ノズル２９ａ，２９ｂを介して、液体供給装置５によりウエハＷ側の先端部４Ａ及びテーパー面４ＢとウエハＷとの間に供給された液体７を回収する。この場合においては、露光領域上を矢印３１Ｂの方向（−Ｙ方向）に流れており、ウエハＷと透過光学素子４との間は液体７により安定に満たされている。

また、ウエハＷを＋Ｙ方向にステップ移動させる際には、液体供給装置５は、供給管２８及び排出ノズル２８ａを介して、液体７を供給する。液体回収装置６は、回収管３０及び流入ノズル３０ａ，３０ｂを介して、液体供給装置５によりウエハＷ側の先端部４ＡとウエハＷとの間に供給された液体７を回収する。この場合においては、液体７は、露光領域上を＋Ｙ方向に流れており、ウエハＷと透過光学素子４との間は液体７により安定に満たされている。

なお、Ｘ方向またはＹ方向から液体７の供給及び回収を行うノズルだけでなく、例えば斜めの方向から液体７の供給及び回収を行うためのノズルを設けてもよい。

次に、液体７の供給量及び回収量の制御方法について説明する。図４は、投影光学系ＰＬを構成する透過光学素子４とウエハＷの間に液体７を供給及び回収している状態を示す図である。図４に示すように、ウエハＷが矢印２５Ａの方向（−Ｘ方向）に移動している場合において、排出ノズル２１ａより供給された液体７は、矢印２５Ｂの方向（−Ｘ方向）に流れ、流入ノズル２３ａ，２３ｂにより回収される。ウエハＷが移動中であっても透過光学素子４とウエハＷとの間に充填される液体７の量を一定に保つため、液体７の供給量と回収量とを等しくする。また、ＸＹステージ１０（ウエハＷ）の移動速度に基づいて液体７の供給量及び回収量を調整することにより、液体７は透過光学素子４とウエハＷとの間に常時満たされる。

この第１の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、投影光学系ＰＬの透過光学素子４のウエハＷ側の表面に反射防止膜が成膜されているため、透過光学素子と液体とが接する界面における露光光の反射を防止することができる。従って、ゴーストやフレア等の発生を抑制することができ、所望の光学特性を得ることができる。

また、この第１の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、波長が２００ｎｍ程度の露光光に対する純水の屈折率ｎは約１．４４であり、波長１９３ｎｍであるＡｒＦエキシマレーザ光は、ウエハＷ上において１／ｎ、即ち１３４ｎｍに短波長化されるため、高い解像度を得ることができる。

また、Ｘ方向及びＹ方向に互いに反転した２対の排出ノズルと流入ノズルとを備えているため、ウエハを＋Ｘ方向、−Ｘ方向、＋Ｙ方向または−Ｙ方向に移動する場合においても、ウエハと光学素子との間を液体により安定に満たし続けることができる。

また、液体がウエハ上を流れるため、ウエハ上に異物が付着している場合であっても、その異物を液体により流し去ることができる。また、液体が液体供給装置により所定の温度に調整されているため、ウエハ表面の温度も一定となり、露光の際に生じるウエハの熱膨張による重ね合わせ精度の低下を防止することができる。従って、ＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）方式のアライメントのように、アライメントと露光とに時間差のある場合であっても、ウエハの熱膨張による重ね合わせ精度の低下を防ぐことができる。

また、この第１の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、ウエハを移動させる方向と同一の方向に液体が流れているため、異物や熱を吸収した液体を透過光学素子の表面の直下の露光領域上に滞留させることなく液体回収装置により回収することができる。

なお、この第１の実施の形態にかかる投影露光装置においては、投影光学系の透過光学素子のウエハ側の表面に反射防止膜として第１層がフッ化ランタン（LaF₃）膜、第２層が酸化シリコン（SiO₂）膜により構成される多層膜を成膜しているが、第１層が酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜、第２層が酸化シリコン（SiO₂）膜、第３層が酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜、第４層が酸化シリコン（SiO₂）膜により構成される多層膜を反射防止膜として成膜してもよい。なお、多層膜の最表面層、即ち、液体と接する層は酸化物膜、例えば酸化シリコン（SiO₂）膜により構成されていることが好ましい。

また、露光ビームとして用いられるレーザ光に応じて、例えば、露光ビームとしてＡｒＦエキシマレーザ光を用いる場合と、ＫｒＦエキシマレーザ光を用いる場合とにおいて、何れのエキシマレーザ光を用いるかにより反射防止膜を構成する各層の膜厚は調整される。

次に、図面を参照して、本発明の第２の実施の形態にかかる投影露光装置について説明する。図５は、第２の実施の形態にかかるステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置の投影光学系ＰＬＡの下部、液体供給装置５及び液体回収装置６等を示す正面図である。以下の説明においては、図５中に示すＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウエハＷに対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がウエハＷに対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。なお、図５においては、第１の実施の形態にかかる投影露光装置と同一の構成には、第１の実施の形態で用いたのと同一の符号を付して説明を行なう。

この投影露光装置においては、投影光学系ＰＬＡの最下端の透過光学素子３２は、ウエハＷ側の先端部３２Ａが走査露光に必要な部分だけを残してＹ方向（非走査方向）に細長い矩形に削られている。走査露光時には、ウエハＷ側の先端部３２Ａの直下の矩形の露光領域にレチクル（図示せず）の一部のパターン像が投影され、投影光学系ＰＬＡに対して、レチクル（図示せず）が−Ｘ方向（又は＋Ｘ方向）に速度Ｖで移動するのに同期して、ＸＹステージ１０を介してウエハＷが＋Ｘ方向（又は−Ｘ方向）に速度β・Ｖ（βは投影倍率）で移動する。そして、１つのショット領域への露光終了後に、ウエハＷのステッピングによって次のショット領域が走査開始位置に移動し、以下ステップ・アンド・スキャン方式で各ショット領域への露光が順次行われる。

また、透過光学素子３２の基材は合成石英ガラスであり、透過光学素子３２のウエハ側の先端部３２Ａ、即ち、露光光が透過する部分には、露光光の反射を防止する反射防止膜が成膜されている。反射防止膜は、多層膜により構成されており、基材として合成石英ガラスが用いられる透過光学素子４のウエハＷ側の表面に第１層としてフッ化ランタン（LaF₃）膜、第２層として酸化シリコン（SiO₂）膜を積層させた多層膜により構成されている。

この第２の実施の形態においても第１の実施の形態と同様に、液浸法が適用されるため、走査露光中に透過光学素子３２とウエハＷの表面との間に液体７が満たされる。液体７としては、純水または、純水を主成分とする液体が使用されている。液体７の供給及び回収は、それぞれ液体供給装置５及び液体回収装置６によって行われる。

図６は、投影光学系ＰＬＡの透過光学素子３２の表面（ウエハＷ側の先端部３２Ａ及びテーパー面３２Ｂ）と液体７をＸ方向に供給及び回収するための排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。液体供給装置５には、図６に示すように、供給管２１を介してＹ方向に細長い矩形状である先端部３２Ａ及びテーパー面３２Ｂの＋Ｘ方向側に３個の排出ノズル２１ａ〜２１ｃが、先端部３２Ａ及びテーパー面３２Ｂの−Ｘ方向側に３個の排出ノズル２２ａ〜２２ｃが接続されている。また、液体回収装置６には、図６に示すように、回収管２３を介して先端部３２Ａ及びテーパー面３２Ｂの−Ｘ方向側に２個の流入ノズル２３ａ，２３ｂが、回収管２４を介して先端部３２Ａ及びテーパー面３２Ｂの＋Ｘ方向側に２個の流入ノズル２４ａ，２４ｂが接続されている。

実線の矢印で示す走査方向（−Ｘ方向）にウエハＷを移動させて走査露光を行う場合には、液体供給装置５は、供給管２１及び排出ノズル２１ａ〜２１ｃを介して透過光学素子３２の先端部３２Ａ及びテーパー面３２ＢとウエハＷとの間に液体７を供給する。液体回収装置６は、回収管２３及び流入ノズル２３ａ，２３ｂを介して、液体供給装置５により先端部３２Ａ及びテーパー面３２ＢとウエハＷとの間に供給された液体７を回収する。この場合においては、液体７はウエハＷ上を−Ｘ方向に流れており、透過光学素子３２とウエハＷとの間は液体７により満たされる。

また、鎖線の矢印で示す方向（＋Ｘ方向）にウエハＷを移動させて走査露光を行う場合には、液体供給装置５は、供給管２２及び排出ノズル２２ａ〜２２ｃを介して透過光学素子３２の先端部３２Ａ及びテーパー面３２ＢとウエハＷとの間に液体７を供給する。液体回収装置６は、回収管２４及び流入ノズル２４ａ，２４ｂを介して、液体供給装置５により先端部３２Ａ及びテーパー面３２ＢとウエハＷとの間に供給された液体７を回収する。この場合においては、液体７はウエハＷ上を＋Ｘ方向に流れており、透過光学素子３２とウエハＷとの間は液体７により満たされる。また、液体７の供給量及び回収量を調整することにより、走査露光中においても透過光学素子３２とウエハＷとの間に液体７は安定に満たされる。また、ウエハＷをＹ方向にステップ移動させる際には、第１の実施の形態と同一の方法によりＹ方向から液体７の供給及び回収を行なう。

図７は、投影光学系ＰＬＡの透過光学素子３２の先端部３２ＡとＹ方向用の排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。図７に示すように、ウエハＷを走査方向に直交する非走査方向（−Ｙ方向）にステップ移動させる場合には、Ｙ方向に配列された排出ノズル２７ａ及び流入ノズル２９ａ，２９ｂを使用して液体７の供給及び回収を行なう。また、ウエハＷを＋Ｙ方向にステップ移動させる場合には、Ｙ方向に配列された排出ノズル２８ａ及び流入ノズル３０ａ，３０ｂを使用して液体７の供給及び回収を行なう。第１の実施の形態と同様に、Ｙ方向にステップ移動させる際にもウエハＷの移動速度に応じて液体７の供給量を調整することにより、透過光学素子３２とウエハＷとの間を液体７により満たし続けることができる。

この第２の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、投影光学系ＰＬの透過光学素子４のウエハＷ側の表面に反射防止膜が成膜されているため、透過光学素子と液体とが接する界面における露光光の反射を防止することができる。従って、ゴーストやフレア等の発生を抑制することができ、所望の光学特性を得ることができる。

また、この第２の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、波長が２００ｎｍ程度の露光光に対する純水の屈折率ｎは約１．４４であり、波長１９３ｎｍであるＡｒＦエキシマレーザ光は、ウエハＷ上において１／ｎ、即ち１３４ｎｍに短波長化されるため、高い解像度を得ることができる。

また、Ｘ方向及びＹ方向に互いに反転した２対の排出ノズルと流入ノズルとを備えているため、ウエハを＋Ｘ方向、−Ｘ方向、＋Ｙ方向または−Ｙ方向に移動する場合においても、ウエハと光学素子との間を液体により安定に満たし続けることができる。

また、液体がウエハ上を流れるため、ウエハ上に異物が付着している場合であっても、その異物を液体により流し去ることができる。また、液体が液体供給装置により所定の温度に調整されているため、ウエハ表面の温度も一定となり、露光の際に生じるウエハの熱膨張による重ね合わせ精度の低下を防止することができる。従って、ＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）方式のアライメントのように、アライメントと露光とに時間差のある場合であっても、ウエハの熱膨張による重ね合わせ精度の低下を防ぐことができる。

また、この第２の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、ウエハを移動させる方向と同一の方向に液体が流れているため、異物や熱を吸収した液体を透過光学素子の表面の直下の露光領域上に滞留させることなく液体回収装置により回収することができる。

なお、この第２の実施の形態にかかる投影露光装置においては、透過光学素子の先端部に反射防止膜として第１層がフッ化ランタン（LaF₃）膜、第２層が酸化シリコン（SiO₂）膜により構成される多層膜を成膜しているが、第１層が酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜、第２層が酸化シリコン（SiO₂）膜、第３層が酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜、第４層が酸化シリコン（SiO₂）膜により構成される多層膜を反射防止膜として成膜してもよい。また、露光ビームとして用いられるレーザ光に応じて、例えば、露光ビームとしてＡｒＦエキシマレーザ光を用いる場合と、ＫｒＦエキシマレーザ光を用いる場合とにおいて、何れのエキシマレーザ光をもちいるかにより反射防止膜を構成する各層の膜厚は調整される。

図８は、実施例１にかかる透過光学素子の構成を模式的に示した図である。図８に示すように、合成石英ガラス基板１０１上に第１層としてフッ化ランタン（LaF₃）膜１０２、第２層として酸化シリコン（SiO₂）膜１０３が積層された多層膜が成膜されている。また、合成石英ガラス基板１０１とレジストを塗布したシリコン基板（ウエハ）１０６との間に介在する液体は、水（純水）１０５である。以下に、λ（波長１９３ｎｍ）を設計主波長とする場合のフッ化ランタン（LaF₃）膜１０２、酸化シリコン（SiO₂）膜１０３、合成石英ガラス基板１０１、水１０６の屈折率および各層の光学的膜厚を示す。

媒質 水 １．４４
２層目 ＳｉＯ_２ １．５４ ０．３３λ
１層目 ＬａＦ_３ １．６９ ０．５７λ
基板 合成石英ガラス １．５０
なお、フッ化ランタン（LaF₃）膜及び酸化シリコン（SiO₂）膜の成膜は、真空蒸着法により行ったが、反射防止膜の成膜方法は、真空蒸着法に限定されるものではなく、各種スパッタリング法、イオンビームアシスト法、イオンプレーティング法により成膜してもよい。

図９は、実施例１の光学素子のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）における、反射率と出射角との関係を示す図である。図９に示すように、Ｓ偏光の反射率（Ｒｓ）とＰ偏光の反射率（Ｒｐ）との平均反射率（Ｒａ）は、出射角θが０〜６５度の範囲において約０．５％以下となっており、非常に良好な性能となっている。従って、この光学素子は、投影光学系と液体とが接する界面において十分使用可能である。

図１０は、実施例１の光学素子のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）における、反射率と開口数ＮＡとの関係を示す図である。図１０に示すように、開口数ＮＡが１．３程度まで平均反射率Ｒａが０．５％以下を維持しており、非常に良好な性能となっている。従って、この光学素子は、投影光学系の液体と接する界面において十分使用可能である。

図１１は、実施例２にかかる透過光学素子の構成を模式的に示した図である。図１１に示すように、合成石英ガラス基板１１１上に、反射防止膜として多層膜１１４が成膜されている。多層膜１１４は４層構成で合成石英ガラス基板１１１側から順に第１層として酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜１１２、第２層として酸化シリコン（SiO₂）膜１１３、第３層として酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜１１２、第４層（最表面層）として酸化シリコン（SiO₂）膜１１３の順に成膜され構成されている。また、合成石英ガラス基板１１１とレジストを塗布したシリコン基板（ウエハ）１１６との間に介在する液体は、水（純水）１１５である。以下に、λ（波長１９３ｎｍ）を設計主波長とする場合の第１層及び第３層の酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜１１２、第２層及び第４層の酸化シリコン（SiO₂）膜１１３、合成石英ガラス基板１１１、水１１５の屈折率および各層の光学的膜厚を示す。

媒質 水 １．４４
４層目 ＳｉＯ_２ １．５４ ０．３５λ
３層目 Ａｌ_２Ｏ_３ １．８５ ０．６０λ
２層目 ＳｉＯ_２ １．５４ ０．１６λ
１層目 Ａｌ_２Ｏ_３ １．８５ ０．０６λ
基板 合成石英ガラス １．５５
なお、酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜及び酸化シリコン（SiO₂）膜の成膜は、イオンビームスパッタリング法により行ったが、反射防止膜の成膜方法は、特にイオンビームスパッタリング法に限定されるものではなく、その他の各種スパッタリング法、蒸着法、イオンビームアシスト法、イオンプレーティング法により成膜してもよい。

図１２は、実施例２の光学素子のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）における、反射率と出射角との関係を示す図である。図１２に示すように、Ｓ偏光の反射率（Ｒｓ）とＰ偏光の反射率（Ｒｐ）との平均反射率（Ｒａ）は、出射角θが０〜６５度の範囲において約０．３％以下となっており、非常に良好な性能となっている。従って、この光学素子は、投影光学系の液体と接する界面において十分使用可能である。

図１３は、実施例２の光学素子のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）における、反射率と開口数ＮＡとの関係を示す図である。図１３に示すように、開口数ＮＡが１．３程度まで平均反射率Ｒａが０．３％以下を維持しており、非常に良好な性能となっている。従って、この光学素子は、投影光学系の液体と接する界面において十分使用可能である。

図１４は、実施例３にかかる透過光学素子の構成を模式的に示した図である。図１４に示すように、合成石英ガラス基板１２１上に、反射防止膜として多層膜１２４が成膜されている。多層膜１２４は４層構成で合成石英ガラス基板１２１側から順に第１層として酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜１２２、第２層として酸化シリコン（SiO₂）膜１２３、第３層として酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜１２２、第４層（最表面層）として酸化シリコン（SiO₂）膜１２３の順に成膜され構成されている。また、合成石英ガラス基板１２１とレジストを塗布したシリコン基板（ウエハ）１２６との間に介在する液体は、水（純水）１２５である。以下に、λ（波長２４８ｎｍ）を設計主波長とする場合の第１層及び第３層の酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜１２２、第２層及び第４層の酸化シリコン（SiO₂）膜１２３、合成石英ガラス基板１２１、水１２５の屈折率および各層の光学的膜厚を示す。

媒質 水 １．３８
４層目 ＳｉＯ_２ １．４９ ０．３４λ
３層目 Ａｌ_２Ｏ_３ １．７１ ０．６１λ
２層目 ＳｉＯ_２ １．４９ ０．１６λ
１層目 Ａｌ_２Ｏ_３ １．７１ ０．０６λ
基板 合成石英ガラス １．５１
なお、酸化アルミニウム（Al₂O₃）膜及び酸化シリコン（SiO₂）膜の成膜は、イオンビームスパッタリング法により行ったが、反射防止膜の成膜方法は、イオンビームスパッタリング法に限定されるものではなく、その他の各種スパッタリング法、蒸着法、イオンビームアシスト法、イオンプレーティング法を用いて成膜してもよい。

図１５は、実施例３の光学素子のＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）における、反射率と出射角との関係を示す図である。図１５に示すように、Ｓ偏光の反射率（Ｒｓ）とＰ偏光の反射率（Ｒｐ）との平均反射率（Ｒａ）は、出射角θが０〜６５度の範囲において約０．３％以下となっており、非常に良好な性能となっている。従って、この光学素子は、投影光学系の液体との界面において十分使用可能である。

図１６は、実施例３の光学素子のＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）における、反射率と開口数ＮＡとの関係を示す図である。図１６に示すように、開口数ＮＡが１．３程度まで平均反射率Ｒａが０．３％以下を維持しており、非常に良好な性能となっている。従って、この光学素子は、投影光学系の液体との界面において十分使用可能である。

本発明の第１の実施の形態において使用される投影露光装置の概略構成を示す図である。 第１の実施の形態にかかる投影光学系ＰＬの光学素子４の先端部４ＡとＸ方向用の排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。 第１の実施の形態にかかる投影光学系ＰＬの光学素子４の先端部４Ａと、Ｙ方向から液体の供給及び回収を行う排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。 第１の実施の形態にかかる光学素子４とウエハＷとの間への液体７の供給及び回収の様子を示す要部の拡大図である。 本発明の第２の実施の形態において使用される投影露光装置の投影光学系ＰＬＡの下端部、液体供給装置５、及び液体回収装置６等を示す正面図である。 第２の実施の形態にかかる投影光学系ＰＬＡの光学素子３２の先端部３２ＡとＸ方向用の排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。 第２の実施の形態にかかる投影光学系ＰＬＡの光学素子３２の先端部３２Ａと、Ｙ方向から液体の供給及び回収を行う排出ノズル及び流入ノズルとの位置関係を示す図である。 実施例１の透過光学素子の構成を示す図である。 実施例１の透過光学素子の波長１９３ｎｍにおける角度反射特性を示す図である。 実施例１の透過光学素子の波長１９３ｎｍにおける開口数ＮＡに対する反射特性を示す図である。 実施例２の透過光学素子の構成を示す図である。 実施例２の透過光学素子の波長１９３ｎｍにおける角度反射特性を示す図である。 実施例２の透過光学素子の波長１９３ｎｍにおける開口数ＮＡに対する反射特性を示す図である。 実施例３の透過光学素子の構成を示す図である。 実施例３の透過光学素子の波長２４８ｎｍにおける角度反射特性を示す図である。 実施例第３の透過光学素子の波長２４８ｎｍにおける開口数ＮＡに対する反射特性を示す図である。 従来例の透過光学素子の構成を示す図である。 従来例の透過光学素子の波長１９３ｎｍにおける角度反射特性を示す図である。 従来例の透過光学素子の波長１９３ｎｍにおける開口数ＮＡに対する反射特性を示す図である。

符号の説明

Ｒ・・・レチクル、ＰＬ・・・投影光学系、Ｗ・・・ウエハ、１・・・照明光学系、４，３２・・・透過光学素子、４Ａ，３２Ａ・・・透過光学素子のウエハ側の先端部、４Ｂ，３２Ｂ・・・透過光学素子のテーパー面、５・・・液体供給装置、６・・・液体回収装置、７・・・液体、９・・・Ｚステージ、１０・・・ＸＹステージ、１４・・・主制御系、２１，２２・・・供給管、２１ａ〜２１ｃ，２２ａ〜２２ｃ・・・排出ノズル、２３，２４・・・回収管、２３ａ，２３ｂ，２４ａ，２４ｂ・・・流入ノズル。

Claims (14)

1. 露光ビームでマスクを照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写し、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた投影露光装置に使用される光学素子であって、
   前記投影光学系の前記基板側の、基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子の表面に露光光の反射を防止する反射防止膜が成膜されていることを特徴とする光学素子。
2. 前記反射防止膜は、多層膜により構成され、少なくとも該多層膜の最表面層が酸化物膜により構成されていることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
3. 前記最表面層の酸化物膜は、酸化シリコン（SiO₂）膜であることを特徴とする請求項２記載の光学素子。
4. 前記反射防止膜は、酸化物膜から成る多層膜により構成されていることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
5. 前記露光ビームは、ＡｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の光学素子。
6. 前記露光ビームは、ＫｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の光学素子。
7. 前記液体は、純水もしくは純水を主成分とする液体であることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか一項に記載の光学素子。
8. 露光ビームでマスクを照明し、前記マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写し、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた投影露光装置であって、
   前記投影光学系の前記基板側の、基材として合成石英ガラスが用いられている透過光学素子の表面に露光光の反射を防止する反射防止膜を備えることを特徴とする投影露光装置。
9. 前記反射防止膜は、多層膜により構成され、少なくとも該多層膜の最表面層が酸化物膜により構成されていることを特徴とする請求項８記載の投影露光装置。
10. 前記最表面層の酸化物膜は、酸化シリコン（SiO₂）膜であることを特徴とする請求項９記載の投影露光装置。
11. 前記反射防止膜は、酸化物膜から成る多層膜により構成されていることを特徴とする請求項８記載の投影露光装置。
12. 前記露光ビームは、ＡｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする請求項８乃至請求項１１の何れか一項に記載の投影露光装置。
13. 前記露光ビームは、ＫｒＦエキシマレーザ光であることを特徴とする請求項８乃至請求項１１の何れか一項に記載の投影露光装置。
14. 前記液体は、純水もしくは純水を主成分とする液体であることを特徴とする請求項８乃至請求項１３の何れか一項に記載の投影露光装置。

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