JP2006178436A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006178436A5 JP2006178436A5 JP2005338298A JP2005338298A JP2006178436A5 JP 2006178436 A5 JP2006178436 A5 JP 2006178436A5 JP 2005338298 A JP2005338298 A JP 2005338298A JP 2005338298 A JP2005338298 A JP 2005338298A JP 2006178436 A5 JP2006178436 A5 JP 2006178436A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positive photosensitive
- compound
- siloxane composition
- photosensitive siloxane
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 claims 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 5
- -1 quinonediazide compound Chemical class 0.000 claims 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 3
- 230000001476 alcoholic Effects 0.000 claims 2
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 claims 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims 1
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims 1
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005338298A JP4784283B2 (ja) | 2004-11-26 | 2005-11-24 | ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004341850 | 2004-11-26 | ||
| JP2004341850 | 2004-11-26 | ||
| JP2005338298A JP4784283B2 (ja) | 2004-11-26 | 2005-11-24 | ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006178436A JP2006178436A (ja) | 2006-07-06 |
| JP2006178436A5 true JP2006178436A5 (da) | 2009-01-15 |
| JP4784283B2 JP4784283B2 (ja) | 2011-10-05 |
Family
ID=36732562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005338298A Active JP4784283B2 (ja) | 2004-11-26 | 2005-11-24 | ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4784283B2 (da) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4725160B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-07-13 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
| EP1942150B1 (en) * | 2005-10-28 | 2018-08-22 | Toray Industries, Inc. | Siloxane resin composition and method for producing same |
| KR101390605B1 (ko) * | 2006-09-25 | 2014-04-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감방사선성 조성물, 실리카계 피막의 형성방법, 실리카계 피막, 실리카계 피막을 구비하는 장치 및 부재, 및 절연막용 감광제 |
| JP4853228B2 (ja) * | 2006-10-25 | 2012-01-11 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子、並びにパターン形成方法 |
| JP4910646B2 (ja) * | 2006-11-07 | 2012-04-04 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物およびその製造方法、感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
| KR101428718B1 (ko) | 2007-02-02 | 2014-09-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치 |
| EP2216682B1 (en) * | 2007-11-13 | 2013-07-17 | Adeka Corporation | Positive photosensitive composition, positive permanent resist, and method for producing positive permanent resist |
| JP2010008603A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Jsr Corp | 配線隔壁形成用感放射線性樹脂組成物ならびに配線隔壁およびその形成方法 |
| US20120021190A1 (en) * | 2008-10-21 | 2012-01-26 | Aoki Yousuke | Photosensitive resin composition, method for forming silica coating film, and apparatus and member each comprising silica coating film |
| JP4960330B2 (ja) * | 2008-10-21 | 2012-06-27 | 株式会社Ａｄｅｋａ | ポジ型感光性組成物及び永久レジスト |
| KR20100066808A (ko) * | 2008-12-10 | 2010-06-18 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포지티브형 감광성 유-무기 하이브리드 절연막 조성물 |
| JP5533232B2 (ja) | 2009-06-29 | 2014-06-25 | Ｊｓｒ株式会社 | ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー |
| JP5338532B2 (ja) | 2009-07-13 | 2013-11-13 | Ｊｎｃ株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
| JP5666266B2 (ja) * | 2010-11-25 | 2015-02-12 | 株式会社Adeka | ポジ型感光性樹脂組成物及び永久レジスト |
| JP5734629B2 (ja) * | 2010-11-25 | 2015-06-17 | 株式会社Adeka | ポジ型感光性樹脂組成物及び永久レジスト |
| JP5749068B2 (ja) * | 2011-05-10 | 2015-07-15 | 株式会社Adeka | 光路変換機能を有する光導波路の製造方法 |
| JP5726632B2 (ja) | 2011-05-19 | 2015-06-03 | メルクパフォーマンスマテリアルズＩｐ合同会社 | 感光性シロキサン樹脂組成物 |
| JP2013020530A (ja) * | 2011-07-13 | 2013-01-31 | Dainippon Printing Co Ltd | タッチセンサパネル部材、タッチセンサパネル部材を備えた表示装置、及びタッチセンサパネル部材の製造方法 |
| JP2015052075A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | ポリオルガノシロキサンとその製造方法 |
| JP6323225B2 (ja) | 2013-11-01 | 2018-05-16 | セントラル硝子株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた膜の製造方法および電子部品 |
| JP6582417B2 (ja) * | 2015-01-19 | 2019-10-02 | 東レ株式会社 | カラーフィルターオンアレイ基板及び表示装置 |
| JP2017173741A (ja) | 2016-03-25 | 2017-09-28 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 感光性シロキサン組成物 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4373082B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2009-11-25 | 富士通株式会社 | アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-11-24 JP JP2005338298A patent/JP4784283B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2006178436A5 (da) | ||
| JP2008107529A5 (da) | ||
| JP4655914B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
| JP2006276598A5 (da) | ||
| JP2006018249A5 (da) | ||
| TWI456352B (zh) | 圖案形成方法 | |
| JP2006293337A5 (da) | ||
| JP2014041327A5 (da) | ||
| JP2003186234A5 (da) | ||
| JP4586655B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
| JP2009258723A5 (da) | ||
| JP2010083868A5 (ja) | アントラセン誘導体、発光素子、発光装置、電子機器、及び照明装置 | |
| CN102918460B (zh) | 感光性硅氧烷组合物、由其形成的固化膜和具有固化膜的元件 | |
| JP2009048182A5 (da) | ||
| JP2008268931A5 (da) | ||
| JP2010164933A5 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
| JP2009265642A5 (da) | ||
| JP2007133377A5 (da) | ||
| JP2006276760A5 (da) | ||
| JP2008294161A5 (da) | ||
| JP2008116785A5 (da) | ||
| JP2010519375A5 (da) | ||
| JP2005043883A5 (da) | ||
| JP2009258585A5 (da) | ||
| Bratton et al. | Diazonaphthoquinone molecular glass photoresists: Patterning without chemical amplification |