JP2006178213A - 型の製造方法およびその型を用いて成形された光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 この発明は、所定構造を有する光学素子を成形するための型を製造する製造方法であって、前記型となる基材の表面上にレジスト膜を形成し、このレジスト膜にマスクパターン領域10が細分化され、各マスクパターン領域10,10間には未露光とするブラインド領域11が設けられている1ショットのマスクパターン1を用いてステッピング露光して前記レジスト膜に所定のパターン形状を描画し、描画されたレジスト膜に現像処理を施し前記所定のパターン形状を形成し、この所定のパターン形状が形成されたレジスト膜を用いてエッチング処理し、前記基材の表面に所定のパターン形状を形成する。
【選択図】 図2
Description
R0=R1×S1/(S1+S2)+R2×S2/(S1+S2)≦0.01
を満足するように、前記ブラインド領域のライン幅を設定するとよい。
A≧10×2×(b+a/2)…(1)
10 マスクパターン領域
11 ブラインド領域
Claims (5)
- 所定構造を有する光学素子を成形するための型を製造する製造方法であって、基材の表面上にレジスト膜を形成し、このレジスト膜にマスクパターン領域が細分化され、各マスクパターン領域間には未露光とするブラインド領域が設けられている1ショットのマスクパターンを用いてステッピング露光して前記レジスト膜に所定のパターン形状を描画し、描画されたレジスト膜に現像処理を施し前記所定のパターン形状を形成することを特徴とする型の製造方法。
- 所定構造を有する光学素子を成形するための型を製造する製造方法であって、前記型となる基材の表面上にレジスト膜を形成し、このレジスト膜にマスクパターン領域が細分化され、各マスクパターン領域間には未露光とするブラインド領域が設けられている1ショットのマスクパターンを用いてステッピング露光して前記レジスト膜に所定のパターン形状を描画し、描画されたレジスト膜に現像処理を施し前記所定のパターン形状を形成し、この所定のパターン形状が形成されたレジスト膜を用いてエッチング処理し、前記基材の表面に所定のパターン形状を形成することを特徴とする型の製造方法。
- 前記マスクパターンはマスクパターン領域間にブラインド領域が規則正しく配列され、前記ブラインド領域のライン幅をショット重ね合わせ時に生じる変位量の10倍以上に設定したことを特徴とする請求項1または2に記載の型の製造方法。
- 前記マスクパターン領域の反射率をR1、面積をS1、前記ブラインド領域の反射率をR2、面積をS2、平均の反射率R0とすると、
R0=R1×S1/(S1+S2)+R2×S2/(S1+S2)≦0.01
を満足するように、前記ブラインド領域のライン幅を設定することを特徴とする請求項3に記載の型の製造方法。 - 請求項1ないし4のいずれかの製造方法により製造された型を用いて成形された光学素子。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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JP2006178213A true JP2006178213A (ja) | 2006-07-06 |
JP4383338B2 JP4383338B2 (ja) | 2009-12-16 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A521 | Written amendment |
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