JP2006175208A - チャネル数を低減するための再構成可能なリニアセンサアレイ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロマシニング加工が施されたセンサ(たとえば、光センサ、温度センサ、圧力センサ、超音波センサ)の再構成可能なリニアアレイ。この再構成可能性により、センサエレメント(32)のサイズおよび間隔を、ビーム中心からの距離の関数にすることが可能になる。この特徴により、チャネル数が限定された撮像システムの性能が向上する。この性能の向上は、複数の送信焦点ゾーンが用いられる用途では、特定の深度に対してアパーチャを調整できることによってもたらされる。
【選択図】図1
Description
deposited films)に限定されるサーフェスマイクロマシニングである。本明細書で用いられるマイクロマシニングの定義は、従来または既知のマイクロマシニング加工可能な材料を使用することを含み、そのような材料として、シリコン、サファイア、すべてのタイプのガラス材料、ポリマ(ポリイミドなど)、ポリシリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン、アルミニウム合金、銅合金、タングステンなどの薄膜金属、スピンオングラス(SOG)、埋込型ドーパントまたは拡散ドーパント、シリコン酸化物やシリコン窒化物などの成長膜などがある。
また、図16に示されるように、独立した基板(たとえば、ウェハ)にcMUTを作成し、それらを個別にASICスイッチマトリックスに接続することも可能である。ここでは、たとえば、はんだバンプ64と導電パッド65、66とを用いて、個々のcMUT音響サブエレメント32をそれらのインターフェース電子回路50に接続している。ACF(異方性導電フィルム)やフレキシブルインターコネクトなど、他のパッケージング手法も用いることが可能である。
これまで説明した、本発明の各種実施形態は、マイクロマシニング加工によって作成されたセンサエレメントのリニアアレイについて、必要なチャネル数を低減するために再構成可能性を用いる。1つの方法は、アレイを、受信時の深度に応じて動的に再構成させる方法である。送信波面が放射されると、しばらくの間(通常は200ミリ秒未満)、エコーデータが受信される。この受信の間に、伝搬する送信波面の位置に対してビーム形成を最適化するために、アパーチャの次元を変更するのが有利である。このケースは、場の深度の全体で分解能が均一になるように、アパーチャのサイズを大きくすることが可能である。これには複雑な電子回路が必要だが、再構成可能性の最大級の便益が得られる。これによって、より少ないチャネルで、遅延誤差を、標準的な固定ピッチリニアアレイと同等にすることが可能になる。
4 基板
6 絶縁支持体
8 メンブレン
10 電極
12 電極
14 キャビティ
16 サブエレメント
18 CMOSウェハ
20 超音波トランスデューサエレメント
22 サブ領域
24 サブ領域
26 サブ領域
28 マルチプレクサ
30 アクセススイッチ
30a アクセススイッチ
30b アクセススイッチ
30c アクセススイッチ
32 音響サブエレメント
32a 音響サブエレメント
32b 音響サブエレメント
32c 音響サブエレメント
34a アクセス線
34b アクセス線
34c アクセス線
36a マトリックススイッチ
36b マトリックススイッチ
36c マトリックススイッチ
40 エレメント
42 エレメント
44 音響サブエレメント
46 エレメント
48 音響サブエレメント
50 インターフェース電子回路セル
52 スイッチ制御回路
54 プログラミング回路
56 単一バイア
58 システムチャネル
62 音響裏打ち層
64 はんだバンプ
65 導電パッド
66 導電パッド
Claims (10)
- 列を形成する線に沿って隣り合って配置された多数のセンササブエレメント(32)であって、前記各センササブエレメントがそれぞれ、ほぼ長方形の領域を占める、マイクロマシニング加工が施された電気機械デバイスを多数含み、マイクロマシニング加工が施された前記各電気機械デバイスが、それぞれの第1の電極を含み、任意の特定のセンササブエレメントを構成する、マイクロマシニング加工が施された電気機械デバイスの前記第1の電極が、電気的に相互接続されていて、スイッチングによる接続解除ができない、多数のセンササブエレメント(32)と、
多数の導電性アクセス線(34)と、
多数のアクセススイッチ(30)であって、前記各アクセススイッチが、オンにされたときに、それぞれの、前記センササブエレメントの1つと、前記アクセス線の1つとを電気的に接続する、多数のアクセススイッチ(30)と、
多数のマトリックススイッチ(36)であって、前記各マトリックススイッチが、オンにされたときに、それぞれの、前記センササブエレメントの1つと、それぞれの隣接する、前記センササブエレメントの1つとを電気的に接続する、多数のマトリックススイッチ(36)と、
多数のスイッチ状態制御回路(52)であって、前記各スイッチ状態制御回路が、それぞれの、前記アクセススイッチの1つの状態と、それぞれの、前記マトリックススイッチの1つの状態とを制御する、多数のスイッチ状態制御回路(52)と
それぞれのアパーチャに対応する、選択されたスイッチ構成に従って前記スイッチ状態制御回路をプログラミングするために電気的に接続されたプログラミング回路(54)とを備える装置。 - マイクロマシニング加工が施された前記各電気機械デバイスがさらに、それぞれのキャビティの上に重なるそれぞれのメンブレンを含み、前記それぞれの第1の電極が前記それぞれのメンブレンによって支持される、請求項1記載の装置。
- マイクロマシニング加工が施された前記各電気機械デバイスがそれぞれのcMUTセルを含む、請求項1記載の装置。
- 前記各cMUTセルが六角形である、請求項3記載の装置。
- 前記各スイッチ状態制御回路(52)が、前記プログラミング回路から受け取った、複数のスイッチ構成に対応するスイッチ状態制御データを格納するローカルバッファリング回路を含む、請求項1記載の装置。
- それぞれがほぼ長方形のアクティブ領域を有する超音波トランスデューササブエレメント(32)のリニアアレイと、
選択的にオンにされたときに、超音波トランスデューササブエレメント同士を選択的に電気的に結合して超音波トランスデューサエレメントを形成するように配置された、多数のマトリックススイッチ(36)と、
実質的に前記リニアアレイと平行に伸びている、多数の導電性アクセス線(34)と、
選択的にオンにされたときに、超音波トランスデューササブエレメントとアクセス線とを選択的に電気的に結合するように配置された、多数のアクセススイッチ(30)と、
多数のシステムチャネル(58)と、
マルチプレクサ(28)であって、前記各アクセス線が前記マルチプレクサを介して、それぞれの、前記システムチャネルの1つに電気的に結合される状態を有するマルチプレクサ(28)とを備え、
前記各超音波トランスデューササブエレメント(32)が、それぞれの多数の電気的に接続された、スイッチによる接続解除ができないcMUTセルを含むシステム。 - 多数のスイッチ状態制御回路であって、前記各スイッチ状態制御回路が、それぞれの、前記アクセススイッチの1つの状態と、それぞれの、前記マトリックススイッチの1つの状態とを制御する、多数のスイッチ状態制御回路と
選択されたスイッチ構成に従って前記スイッチ状態制御回路をプログラムするために電気的に接続されたプログラミング回路とをさらに含む、請求項6記載のシステム。 - 第1の時間間隔の間に、センササブエレメントがアクセス線に結合されて、第1の受信アパーチャを構成する、センサエレメントの第1のセットが形成され、前記第1の時間間隔に続く第2の時間間隔の間に、センササブエレメントがアクセス線に結合されて、前記第1の受信アパーチャと異なる第2の受信アパーチャを構成する、センサエレメントの第2のセットが形成されるように、前記プログラミング回路が前記スイッチ状態制御回路をプログラミングする、請求項6記載のシステム。
- それぞれがほぼ長方形のアクティブ領域を有する超音波トランスデューササブエレメント(32)のリニアアレイと、
多数のアクセス線(34)と、
スイッチングネットワークとを備え、前記スイッチングネットワークが、選択された超音波トランスデューササブエレメント同士を電気的に接続して超音波トランスデューサエレメントを形成する、第1のスイッチセット(36)と、前記超音波トランスデューサエレメントを、選択されたアクセス線と電気的に結合する、第2のスイッチセット(52)とを含み、前記第1および第2のスイッチセットが、アパーチャを形成するスイッチング構成に従って設定され、前記アパーチャを構成する前記超音波トランスデューサエレメントのピッチおよび幅が、前記リニアアレイ全体にわたって一様でないシステム。 - 多数のビームフォーマチャネル(54)と、
選択されたアクセス線と、選択されたビームフォーマチャネルとを電気的に結合するマルチプレクサ(28)とをさらに備える、請求項9記載のシステム。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012117825A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 超音波センサおよび超音波探傷装置 |
JP2012152317A (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-16 | Fujifilm Corp | 超音波プローブおよび超音波診断装置 |
US8764662B2 (en) | 2012-06-29 | 2014-07-01 | General Electric Company | Ultrasound imaging system and method for temperature management |
JP5575907B2 (ja) * | 2011-06-15 | 2014-08-20 | 株式会社東芝 | 超音波プローブ及び超音波診断装置 |
Families Citing this family (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050096545A1 (en) * | 2003-10-30 | 2005-05-05 | Haider Bruno H. | Methods and apparatus for transducer probe |
US8309428B2 (en) * | 2004-09-15 | 2012-11-13 | Sonetics Ultrasound, Inc. | Capacitive micromachined ultrasonic transducer |
US7888709B2 (en) * | 2004-09-15 | 2011-02-15 | Sonetics Ultrasound, Inc. | Capacitive micromachined ultrasonic transducer and manufacturing method |
US8658453B2 (en) * | 2004-09-15 | 2014-02-25 | Sonetics Ultrasound, Inc. | Capacitive micromachined ultrasonic transducer |
WO2006123300A2 (en) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Kolo Technologies, Inc. | Micro-electro-mechanical transducers |
US8105941B2 (en) * | 2005-05-18 | 2012-01-31 | Kolo Technologies, Inc. | Through-wafer interconnection |
WO2006134580A2 (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Kolo Technologies, Inc. | Micro-electro-mechanical transducer having an insulation extension |
US7880565B2 (en) * | 2005-08-03 | 2011-02-01 | Kolo Technologies, Inc. | Micro-electro-mechanical transducer having a surface plate |
US8105239B2 (en) * | 2006-02-06 | 2012-01-31 | Maui Imaging, Inc. | Method and apparatus to visualize the coronary arteries using ultrasound |
EP2088932B1 (en) | 2006-10-25 | 2020-04-08 | Maui Imaging, Inc. | Method and apparatus to produce ultrasonic images using multiple apertures |
US20080242979A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Rayette Ann Fisher | Combined X-ray detector and ultrasound imager |
US9636707B2 (en) | 2007-04-27 | 2017-05-02 | Hitachi, Ltd. | Capacitive micromachined ultrasonic transducer and ultrasonic imaging apparatus |
WO2008149296A1 (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Beamforming system comprising a transducer assembly |
US7557489B2 (en) * | 2007-07-10 | 2009-07-07 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Embedded circuits on an ultrasound transducer and method of manufacture |
US9247926B2 (en) | 2010-04-14 | 2016-02-02 | Maui Imaging, Inc. | Concave ultrasound transducers and 3D arrays |
US9282945B2 (en) * | 2009-04-14 | 2016-03-15 | Maui Imaging, Inc. | Calibration of ultrasound probes |
US20090182233A1 (en) * | 2008-01-10 | 2009-07-16 | Robert Gideon Wodnicki | Ultrasound System With Integrated Control Switches |
US8602993B2 (en) | 2008-08-08 | 2013-12-10 | Maui Imaging, Inc. | Imaging with multiple aperture medical ultrasound and synchronization of add-on systems |
US8176787B2 (en) * | 2008-12-17 | 2012-05-15 | General Electric Company | Systems and methods for operating a two-dimensional transducer array |
US8315125B2 (en) * | 2009-03-18 | 2012-11-20 | Sonetics Ultrasound, Inc. | System and method for biasing CMUT elements |
JP5485373B2 (ja) | 2009-04-14 | 2014-05-07 | マウイ イマギング,インコーポレーテッド | 複数開口の超音波アレイ位置合せ装置 |
KR101593994B1 (ko) | 2009-09-04 | 2016-02-16 | 삼성전자주식회사 | 고출력 초음파 트랜스듀서 |
KR102322776B1 (ko) | 2010-02-18 | 2021-11-04 | 마우이 이미징, 인코포레이티드 | 초음파 이미지를 구성하는 방법 및 이를 위한 다중-개구 초음파 이미징 시스템 |
DE102010027780A1 (de) * | 2010-04-15 | 2011-10-20 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Ansteuern eines Ultraschallsensors und Ultraschallsensor |
US8409102B2 (en) | 2010-08-31 | 2013-04-02 | General Electric Company | Multi-focus ultrasound system and method |
WO2012051305A2 (en) | 2010-10-13 | 2012-04-19 | Mau Imaging, Inc. | Multiple aperture probe internal apparatus and cable assemblies |
JP5250056B2 (ja) * | 2011-02-01 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 超音波診断装置および超音波画像生成方法 |
JP5661489B2 (ja) * | 2011-02-07 | 2015-01-28 | 株式会社東芝 | 超音波診断装置 |
JP6407719B2 (ja) | 2011-12-01 | 2018-10-17 | マウイ イマギング,インコーポレーテッド | ピングベース及び多数開口ドップラー超音波を用いた運動の検出 |
CN104080407B (zh) | 2011-12-29 | 2017-03-01 | 毛伊图像公司 | 任意路径的m模式超声成像 |
CN107028623B (zh) | 2012-02-21 | 2020-09-01 | 毛伊图像公司 | 使用多孔超声确定材料刚度 |
KR101387225B1 (ko) * | 2012-02-24 | 2014-04-21 | 경북대학교 산학협력단 | 2d 배열형 초음파 프로브의 소형화 기술 |
JP6399999B2 (ja) | 2012-03-26 | 2018-10-03 | マウイ イマギング,インコーポレーテッド | 重み付け係数を適用することによって超音波画像の質を改善するためのシステム及び方法 |
US10217045B2 (en) * | 2012-07-16 | 2019-02-26 | Cornell University | Computation devices and artificial neurons based on nanoelectromechanical systems |
EP2883079B1 (en) | 2012-08-10 | 2017-09-27 | Maui Imaging, Inc. | Calibration of multiple aperture ultrasound probes |
US9986969B2 (en) | 2012-08-21 | 2018-06-05 | Maui Imaging, Inc. | Ultrasound imaging system memory architecture |
US9096422B2 (en) | 2013-02-15 | 2015-08-04 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Piezoelectric array employing integrated MEMS switches |
WO2014160291A1 (en) | 2013-03-13 | 2014-10-02 | Maui Imaging, Inc. | Alignment of ultrasound transducer arrays and multiple aperture probe assembly |
TWI624678B (zh) | 2013-03-15 | 2018-05-21 | 美商蝴蝶網路公司 | 超音波裝置和系統 |
US9667889B2 (en) | 2013-04-03 | 2017-05-30 | Butterfly Network, Inc. | Portable electronic devices with integrated imaging capabilities |
TWI682817B (zh) | 2013-07-23 | 2020-01-21 | 美商蝴蝶網路公司 | 可互連的超音波換能器探頭以及相關的方法和設備 |
US9437802B2 (en) | 2013-08-21 | 2016-09-06 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Multi-layered thin film piezoelectric devices and methods of making the same |
US9883848B2 (en) | 2013-09-13 | 2018-02-06 | Maui Imaging, Inc. | Ultrasound imaging using apparent point-source transmit transducer |
US9475093B2 (en) | 2013-10-03 | 2016-10-25 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Piezoelectric ultrasonic transducer array with switched operational modes |
US9525119B2 (en) | 2013-12-11 | 2016-12-20 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Flexible micromachined transducer device and method for fabricating same |
JP6265758B2 (ja) * | 2014-01-27 | 2018-01-24 | キヤノン株式会社 | 静電容量型トランスデューサ |
CN106461767B (zh) | 2014-04-18 | 2019-05-28 | 蝴蝶网络有限公司 | 单衬底超声成像装置的架构、相关设备和方法 |
AU2015247501B2 (en) | 2014-04-18 | 2018-11-29 | Butterfly Network, Inc. | Ultrasonic imaging compression methods and apparatus |
KR102430449B1 (ko) | 2014-08-18 | 2022-08-05 | 마우이 이미징, 인코포레이티드 | 네트워크-기반 초음파 이미징 시스템 |
US11147531B2 (en) | 2015-08-12 | 2021-10-19 | Sonetics Ultrasound, Inc. | Method and system for measuring blood pressure using ultrasound by emitting push pulse to a blood vessel |
CN113729764A (zh) | 2016-01-27 | 2021-12-03 | 毛伊图像公司 | 具有稀疏阵列探测器的超声成像 |
JP6712917B2 (ja) * | 2016-07-14 | 2020-06-24 | 株式会社日立製作所 | 半導体センサチップアレイ、および超音波診断装置 |
KR102078870B1 (ko) * | 2018-12-28 | 2020-02-19 | 삼성전자주식회사 | 초음파 변환기 |
CN111182429B (zh) * | 2020-01-03 | 2021-04-02 | 武汉大学 | 高填充率mems换能器 |
WO2021195826A1 (zh) * | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 声波换能器及其制备方法 |
CN114376616A (zh) * | 2022-03-23 | 2022-04-22 | 聚融医疗科技(杭州)有限公司 | 透声耦合装置及其制备方法以及乳腺超声诊断设备 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6283656A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Hitachi Medical Corp | 超音波撮像装置 |
JPH0484943A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-18 | Shimadzu Corp | 電子走査型超音波診断装置 |
JPH06237930A (ja) * | 1993-02-12 | 1994-08-30 | Toshiba Corp | 超音波診断装置 |
JPH11221215A (ja) * | 1997-11-24 | 1999-08-17 | General Electric Co <Ge> | 超音波イメージング・システムおよびそのトランスジューサ・アレイの作動方法 |
WO2001021072A1 (fr) * | 1999-09-17 | 2001-03-29 | Hitachi Medical Corporation | Sonde a ultrasons et appareil de diagnostic a ultrasons la contenant |
WO2004075165A1 (en) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Sensant Corporation | Microfabricated ultrasonic transducers with bias polarity beam profile control |
JP2004274756A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | General Electric Co <Ge> | 超微細加工超音波トランスデューサを用いたモザイク型アレイ |
JP2004350701A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-16 | Olympus Corp | 超音波内視鏡装置 |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US48219A (en) * | 1865-06-13 | Improvement in submerged pumps | ||
US4159462A (en) * | 1977-08-18 | 1979-06-26 | General Electric Company | Ultrasonic multi-sector scanner |
US4180790A (en) * | 1977-12-27 | 1979-12-25 | General Electric Company | Dynamic array aperture and focus control for ultrasonic imaging systems |
US4307613A (en) * | 1979-06-14 | 1981-12-29 | University Of Connecticut | Electronically focused ultrasonic transmitter |
DE3019409A1 (de) | 1980-05-21 | 1982-01-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Ultraschallwandleranordnung |
FR2516751B1 (fr) * | 1981-11-20 | 1987-10-30 | Pujol Yves | Machine automatique permettant de ligaturer selon un cycle preetabli, au moyen d'un fil, ficelle ou analogues, des objets pleins ou creux |
FR2553521B1 (fr) | 1983-10-18 | 1986-04-11 | Cgr Ultrasonic | Sonde d'echographie, procede de fabrication de cette sonde et appareil d'echographie incorporant une telle sonde |
US4658176A (en) * | 1984-07-25 | 1987-04-14 | Hitachi, Ltd. | Ultrasonic transducer using piezoelectric composite |
DE3580848D1 (de) * | 1985-09-24 | 1991-01-17 | Hewlett Packard Gmbh | Schaltmatrix. |
US5146435A (en) * | 1989-12-04 | 1992-09-08 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Acoustic transducer |
JP2940110B2 (ja) * | 1990-09-10 | 1999-08-25 | 富士通株式会社 | 超音波探触子 |
AU6953994A (en) * | 1993-06-04 | 1995-01-03 | Regents Of The University Of California, The | Microfabricated acoustic source and receiver |
US5452268A (en) * | 1994-08-12 | 1995-09-19 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Acoustic transducer with improved low frequency response |
US5596222A (en) * | 1994-08-12 | 1997-01-21 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Wafer of transducer chips |
US5619476A (en) * | 1994-10-21 | 1997-04-08 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Jr. Univ. | Electrostatic ultrasonic transducer |
US5894452A (en) * | 1994-10-21 | 1999-04-13 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Microfabricated ultrasonic immersion transducer |
US5558623A (en) * | 1995-03-29 | 1996-09-24 | Rich-Mar Corporation | Therapeutic ultrasonic device |
US6159149A (en) | 1996-03-22 | 2000-12-12 | Lockheed Martin Corporation | Ultrasonic camera |
US5732706A (en) * | 1996-03-22 | 1998-03-31 | Lockheed Martin Ir Imaging Systems, Inc. | Ultrasonic array with attenuating electrical interconnects |
DE19643893A1 (de) * | 1996-10-30 | 1998-05-07 | Siemens Ag | Ultraschallwandler in Oberflächen-Mikromechanik |
US5982709A (en) * | 1998-03-31 | 1999-11-09 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Acoustic transducers and method of microfabrication |
GB9815992D0 (en) | 1998-07-23 | 1998-09-23 | Secr Defence | Improvements in and relating to microchemical devices |
US6120449A (en) * | 1998-11-25 | 2000-09-19 | General Electric Company | Method and apparatus for compensating for inoperative elements in ultrasonic transducer array |
US6183419B1 (en) | 1999-02-01 | 2001-02-06 | General Electric Company | Multiplexed array transducers with improved far-field performance |
US6292435B1 (en) * | 1999-05-11 | 2001-09-18 | Agilent Technologies, Inc. | Circuit and method for exciting a micro-machined transducer to have low second order harmonic transmit energy |
US6381197B1 (en) * | 1999-05-11 | 2002-04-30 | Bernard J Savord | Aperture control and apodization in a micro-machined ultrasonic transducer |
US6271620B1 (en) | 1999-05-20 | 2001-08-07 | Sen Corporation | Acoustic transducer and method of making the same |
US6359367B1 (en) | 1999-12-06 | 2002-03-19 | Acuson Corporation | Micromachined ultrasonic spiral arrays for medical diagnostic imaging |
US6384516B1 (en) * | 2000-01-21 | 2002-05-07 | Atl Ultrasound, Inc. | Hex packed two dimensional ultrasonic transducer arrays |
US6503204B1 (en) | 2000-03-31 | 2003-01-07 | Acuson Corporation | Two-dimensional ultrasonic transducer array having transducer elements in a non-rectangular or hexagonal grid for medical diagnostic ultrasonic imaging and ultrasound imaging system using same |
US6443901B1 (en) * | 2000-06-15 | 2002-09-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Capacitive micromachined ultrasonic transducers |
US6862254B2 (en) | 2000-10-19 | 2005-03-01 | Sensant Corporation | Microfabricated ultrasonic transducer with suppressed substrate modes |
US6589180B2 (en) | 2001-06-20 | 2003-07-08 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration, Inc | Acoustical array with multilayer substrate integrated circuits |
US6585653B2 (en) | 2001-07-31 | 2003-07-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Micro-machined ultrasonic transducer (MUT) array |
US7313053B2 (en) * | 2003-03-06 | 2007-12-25 | General Electric Company | Method and apparatus for controlling scanning of mosaic sensor array |
-
2004
- 2004-12-21 US US11/018,238 patent/US7443765B2/en active Active
-
2005
- 2005-10-14 DE DE102005049631A patent/DE102005049631A1/de not_active Withdrawn
- 2005-10-18 JP JP2005302672A patent/JP5525674B2/ja active Active
- 2005-10-20 KR KR1020050099035A patent/KR101236118B1/ko active IP Right Grant
- 2005-10-21 CN CNB2005101164870A patent/CN100555695C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6283656A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Hitachi Medical Corp | 超音波撮像装置 |
JPH0484943A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-18 | Shimadzu Corp | 電子走査型超音波診断装置 |
JPH06237930A (ja) * | 1993-02-12 | 1994-08-30 | Toshiba Corp | 超音波診断装置 |
JPH11221215A (ja) * | 1997-11-24 | 1999-08-17 | General Electric Co <Ge> | 超音波イメージング・システムおよびそのトランスジューサ・アレイの作動方法 |
WO2001021072A1 (fr) * | 1999-09-17 | 2001-03-29 | Hitachi Medical Corporation | Sonde a ultrasons et appareil de diagnostic a ultrasons la contenant |
WO2004075165A1 (en) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Sensant Corporation | Microfabricated ultrasonic transducers with bias polarity beam profile control |
JP2004274756A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | General Electric Co <Ge> | 超微細加工超音波トランスデューサを用いたモザイク型アレイ |
JP2004350701A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-16 | Olympus Corp | 超音波内視鏡装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6011012356; A. S. Ergun et al: 'Fabrication and characterization of 1-dimensional and 2-dimensional Capacitive Micromachined Ultraso' Oceans 2002 MTS/IEEE Conference Proceedings vol.4, 200210, pp.2361-2367 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012117825A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 超音波センサおよび超音波探傷装置 |
JP2012152317A (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-16 | Fujifilm Corp | 超音波プローブおよび超音波診断装置 |
JP5575907B2 (ja) * | 2011-06-15 | 2014-08-20 | 株式会社東芝 | 超音波プローブ及び超音波診断装置 |
JPWO2012173227A1 (ja) * | 2011-06-15 | 2015-02-23 | 株式会社東芝 | 超音波プローブ及び超音波診断装置 |
US8764662B2 (en) | 2012-06-29 | 2014-07-01 | General Electric Company | Ultrasound imaging system and method for temperature management |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101236118B1 (ko) | 2013-02-21 |
US20050237858A1 (en) | 2005-10-27 |
KR20060071304A (ko) | 2006-06-26 |
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JP5525674B2 (ja) | 2014-06-18 |
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