JP2006171271A - 液晶注入装置 - Google Patents

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Tsuguyoshi Nakayama
胤芳 中山
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Abstract

【課題】 冷媒漏れ等を防止することができ、信頼性の高い冷却装置の提供。
【解決手段】 液晶注入動作を行う場合には、シャフト10a,10bを真空チャンバ1内に繰り出して液晶皿が載置されているヒータブロック6を液晶セル方向へと上昇させ、液晶に液晶セルを接液させる。液晶注入が終了すると、シャフト10a,10bを下げて接液状態を解除する。シャフト10a,10bには真空チャンバ1の内外に連通する貫通孔100が形成され、シャフト10a,10bのチャンバ内周面に固設された継ぎ手164には冷却装置16のパイプ161が接続されている。シャフト10a,10bの下端から貫通孔100に供給された冷媒は、継ぎ手164からパイプ161へと供給される。シャフト10a,10bが上下しても継ぎ手164とパイプ161との位置関係は不変なため、パイプ161や継ぎ手164に不要な負荷がかからず、冷媒漏れを防止できる。
【選択図】 図2

Description

本発明は、注入用液晶が充填された液晶容器を、冷却装置が設けられたステージに載置して液晶注入を行う液晶注入装置に関する。
従来から、一対のガラス基板から成る液晶セルに液晶を注入するための装置として、液晶注入装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。液晶注入を行う場合には、液晶注入装置のチャンバ内に液晶セルを搬入し、チャンバ内が所定圧力となるまで真空排気した後に、液晶容器が載置されたステージを昇降機構により上昇させて液晶セルを液晶に接液させる。その後、チャンバ内の圧力を大気圧に戻して液晶注入を開始する。液晶は、チャンバ内圧力と液晶セル内圧力との差圧により液晶セル内に注入される。
液晶注入時には、ヒータを用いて液晶セルや液晶を加熱して、注入の速度を速めるようにしている。液晶注入終了後はヒータをオフし、チャンバ内に設けられた冷却水ジャケットによりチャンバ内および液晶セルを冷却してそれらを常温に戻してから、注入済みの液晶セルを搬出するとともに、新たな液晶セルを搬入する。
特開2003−29276号公報
ところで、高温状態のステージを冷却水ジャケットで冷却する場合、ステージに冷却水ジャケットを接触させるように設けて冷却を行うのが一般的である。しかし、冷却水をチャンバ壁面からチューブ等により冷却水ジャケットに供給するような構成とすると、ステージの上下移動に合わせて折れ曲がるようにチューブが移動するため、チューブに繰り返し負荷が作用してそれらの信頼性が低下するとともに、接続部分において冷媒の漏れが発生しやすくなる。また、チューブが移動するためのスペースが必要となる。
本発明は、真空チャンバ内に配設され、注入液晶が充填された液晶容器を載置するステージと、ステージを真空チャンバ内で昇降する昇降装置と、ステージを加熱する加熱装置と、冷媒によりステージを冷却する冷却装置と、冷却装置へ冷媒を供給/排出するための冷媒通路とを備える液晶注入装置であって、昇降装置は、ステージに連結されて真空チャンバ外へ貫通して設けられ、内部に冷媒通路を設けた支柱と、支柱に昇降駆動力を与える駆動機構とを有することを特徴とする。
本発明によれば、冷却装置へ冷媒を供給/排出するための冷媒通路が昇降装置の支柱の内部に設けられているので、ステージを昇降装置で昇降しても冷媒通路と冷却装置との位置関係が変化しない。その結果、冷媒漏れ等を防止することができ、冷却装置の信頼性向上を図ることができる。
以下、図を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は本発明による液晶注入装置の一実施の形態を示す図であり、液晶注入装置の概略構成を示したものである。図1の液晶注入装置では、真空チャンバ1内で一連の注入動作が行われ、真空チャンバ1にはチャンバ内を真空排気する真空ポンプ2と、真空チャンバ1内を大気圧に戻すための窒素ガスを供給する窒素ガス源3が接続されている。真空ポンプ2は真空バルブ4を介して接続され、窒素ガス源3はガス導入バルブ5を介して接続されている。
真空チャンバ1内には、内部にヒータHを有するヒータブロック6が設けられており、このヒータブロック6上に液晶8を収容した液晶皿7が載置される。ヒータブロック6は昇降装置9によって上下に駆動することができる。昇降装置9は、ヒータブロック6を支持する一対のシャフト10a,10bと、各シャフト10a,10bの下端に取り付けられた連結板11と、連結板11を図示上下方向に駆動するボールネジ12およびモータ13を備えている。
真空チャンバ1の底面に回転可能に取り付けられたボールネジ12は、連結板11と螺合している。そのため、モータ13によりボールネジ12を回転駆動すると、ボールネジ12に螺動している連結板11が上下に移動し、シャフト10a,10bおよびヒータブロック6が上下する。
ヒータブロック6の裏面側には冷却装置16が固定されている。冷却装置16は冷却水を用いてヒータブロック6を冷却するものであり、冷媒が流れるパイプ161と、パイプ161をヒータブロック6に密着するように固定する伝熱ブロック162とを有している。パイプ161はステンレスパイプや銅パイプが用いられ、伝熱ブロック162にはアルミ等の熱伝導性に優れた金属が用いられる。
冷却水導入部はシャフト10aに取り付けられた継ぎ手164に接続され、冷却水排出部はシャフト10bに取り付けられた継ぎ手164に接続されている。シャフト10a,10bの軸中心には、後述するように冷媒通路(貫通孔100)が形成されており、この冷媒通路を介して冷媒の供給および排出が行われる。
真空チャンバ1内には複数の液晶セル17を保持したカセット18が不図示の搬入口から搬入され、所定の位置に装填される。液晶セル17は液晶注入工程前の液晶パネルであって、スペーサを挟んで2枚のガラス基板が配置され、ガラス基板の周囲は封止部材によって封止されている。封止部材には液晶注入のための注入口が形成されており、各液晶セル17は注入口が図示下方を向くようにカセット18に保持されている。
図2は、シャフト10aの部分を詳細に示す図である。シャフト10aは、真空チャンバ1の壁部を貫通するように設けられている。真空チャンバ壁部には一対の滑り軸受14が設けられており、シャフト10aはこれらの滑り軸受14に対して上下に往復動する。また、シャフト10aと真空チャンバ壁部との真空シールは、Oリングシール等の軸シール15によって行われる。
シャフト10aの下端部はナット20により連結板11に固定されており、上端部はフランジ21が溶接により固定されている。そして、このフランジ21はヒータブロック6の下面にボルト固定されている。シャフト10aの軸中心部には上下に貫通する孔100が形成されており、貫通孔100の上端は封止部材22により封止されている。貫通孔100の下端には継ぎ手23が設けられており、この継ぎ手23に冷媒供給用のフレキシブルチューブ24が接続されている。一方、真空チャンバ1内に設けられたシャフト上端の側周面には、貫通孔100と連通するようにパイプ25が溶接されており、パイプ25には継ぎ手164が取り付けられている。冷却装置6(図1参照)のパイプ161の冷媒導入側は、継ぎ手164に接続されている。
すなわち、冷媒は、真空チャンバ1の壁部を貫通するシャフト10a内に形成された貫通孔100を介して真空チャンバ1の外側から真空チャンバ1内に導入され、ヒータブロック6に固定された冷却装置16のパイプ161に供給される。よって、シャフト10aを上下駆動しても継ぎ手164とパイプ161との位置関係は不変に保たれ、継ぎ手164やパイプ161に負荷がかかるようなことがない。その結果、真空チャンバ1内での冷媒漏れを確実に防止することができる。
また、図4に示すように真空チャンバ1の壁面からチューブ30等により冷媒を冷却装置6に供給するような構成とした場合には、ヒータブロック6の上下移動に合わせてチューブ30が移動するためのスペースが必要である。また、上下動によってチューブ30やパイプ161に繰り返し負荷が作用してそれらの信頼性が低下するとともに、接続部分において冷媒の漏れが発生しやすくなる。
しかし、本実施の形態では上述したようなチャンバ壁面と接続されるチューブ30が不要なため、デッドスペースであるチューブ用スペースを確保する必要が無く、その分だけ真空チャンバ1を小型化することができる。なお、冷媒排出用の貫通孔100が形成されているシャフト10bの構造も上述したシャフト10aと同様の構造を有しており、ここでは説明を省略する。
次に、液晶セル17への液晶注入動作について、概略を説明する。図3は液晶注入手順を模式的に示したものであり、図示の関係上、真空ポンプ2および窒素ガス源3は真空チャンバ1の上方に図示した。まず、図3(a)に示すように真空チャンバ1内に液晶セル17を保持したカセット18を装填し、バルブ4を開けて真空ポンプ2により真空チャンバ1内を真空排気する。上述したように液晶セル17には注入口17aが形成されているので、ガラス基板間の液晶注入空間は真空状態となる。
このとき、ヒータブロック6による加熱を行って液晶皿7内の液晶8を昇温する。これにより、液晶8に溶け込んでいるガスの脱泡が行われるとともに、液晶8の粘度が小さくなって液晶セル17への注入がより速やかに行われる。
次いで、バルブ4を閉じて真空排気を停止した後、昇降装置9を駆動してヒータブロック6に載置された液晶皿7を上方に移動し、液晶セル17の注入口17aに液晶8を接液させる(図3(b)参照)。そして、バルブ5を開けて真空チャンバ1内に窒素ガス源3の窒素ガス(加圧ガス)を導入する。その結果、液晶セル17内と真空チャンバ1内の圧力差によって、液晶皿7の液晶8が液晶セル17内へと注入される。
その後、液晶セル17への液晶注入が完了するまで、図3(b)の状態を保持する。なお、液晶注入をより速やかに行わせる目的で、窒素ガスを加熱してから真空チャンバ1内に導入したり、真空チャンバ1をヒータで加熱してチャンバ内の窒素ガスを加熱するなどして液晶セル17を加熱する場合もある。液晶注入が完了したならば、冷却装置16に冷媒を供給してヒータブロック6を冷却するとともに液晶皿7等の冷却も行う。充分な冷却が行われてカセット搬出作業が容易となったならば、昇降装置9を下方に下げ、真空チャンバ1を大気解放して液晶セル17が収められたカセット18を真空チャンバ1から搬出する。なお、液晶セル17の注入口17aは接着剤等により封止される。
以上説明した実施の形態と特許請求の範囲の要素との対応において、液晶皿7は液晶容器を、ヒータブロック6はステージを、ヒータHは加熱装置を、貫通孔100は冷媒通路を、シャフト10a,10bは支柱を、連結板11,ボールネジ12およびモータ13は駆動機構をそれぞれ構成する。なお、以上の説明はあくまでも一例であり、発明を解釈する際、上記実施の形態の記載事項と特許請求の範囲の記載事項の対応関係に何ら限定も拘束もされない。
本発明による液晶注入装置の一実施の形態を示す、概略構成図である。 シャフト10aの部分を詳細に示す図である。 液晶注入動作を説明する図である。 チャンバ壁面から冷却水を供給する液晶注入装置の概略構成図である。
符号の説明
1 真空チャンバ
2 真空ポンプ
3 窒素ガス源
6 ヒータブロック
7 液晶皿
8 液晶
9 昇降装置
10a,10b シャフト
11 連結板
12 ボールネジ
13 モータ
14 滑り軸受
15 軸シール
16 冷却装置
17 液晶セル
17a 注入口
23,164 継ぎ手
25,161 パイプ
100 貫通孔
162 伝熱ブロック
H ヒータ

Claims (1)

  1. 真空チャンバ内に配設され、注入液晶が充填された液晶容器を載置するステージと、
    前記ステージを前記真空チャンバ内で昇降する昇降装置と、
    前記ステージを加熱する加熱装置と、
    冷媒により前記ステージを冷却する冷却装置と、
    前記冷却装置へ前記冷媒を供給/排出するための冷媒通路とを備える液晶注入装置であって、
    前記昇降装置は、
    前記ステージに連結されて前記真空チャンバ外へ貫通して設けられ、内部に前記冷媒通路を設けた支柱と、前記支柱に昇降駆動力を与える駆動機構とを有することを特徴とする液晶注入装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276714A (ja) * 2009-05-26 2010-12-09 Shimadzu Corp 液体注入装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62178930A (ja) * 1986-02-03 1987-08-06 Ulvac Corp 液晶注入装置のトレ−位置決め装置
JP2000089236A (ja) * 1998-09-11 2000-03-31 Shimadzu Corp 液晶注入装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62178930A (ja) * 1986-02-03 1987-08-06 Ulvac Corp 液晶注入装置のトレ−位置決め装置
JP2000089236A (ja) * 1998-09-11 2000-03-31 Shimadzu Corp 液晶注入装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276714A (ja) * 2009-05-26 2010-12-09 Shimadzu Corp 液体注入装置

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