JP2006148123A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影ビーム110が所定の走査方向に基板114にわたって走査されるように、移動システムが基板114と投影システム108を相対運動させる。投影システム108はアレイ104内の各レンズが個々のビームを基板114上の目標領域へ導くように配置されたレンズのアレイを含む。投影システム108は種々のグループのアレイ104内のレンズが種々のビームの一部を、走査方向に整列された基板114の種々の領域へ導くようにグループで配置される。投影システムのグループは走査方向に離間され、各グループは連続しかつ基板11の個々の連続する区間を占める目標領域へビームを導く。したがって、基板114の種々の区間は投影システム108の種々のグループによって露光されて、比較的遅い基板移動速度及び比較的小さな基板移動で、高い処理量が得られる。
【選択図】図1
Description
この本文では、集積回路(IC)の製造でリソグラフィ装置を使用することを具体的に参照するかもしれないが、本明細書に記載するリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁区メモリ用誘導検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、ミクロ及びマクロ流体素子等の製造などの他の用途があるかもしれないことを理解すべきである。当業者は、そのような代替的用途の関係で、本願明細書で使う「ウエハ」又は「ダイ」という用語のどれも、それぞれより一般的な用語である「基板」又は「目的部分」と同義であると考えられ得ることがわかるであろう。ここで言及する基板は、露出の前又は後に、例えば、トラック(典型的には基板にレジストの層を付け、かつ露出したレジストを現像する器具)、若しくは計測器具又は検査器具で処理してもよい。該当すれば、この開示をそのような及び他の基板処理器具に適用してよい。さらに、この基板を、例えば、多層ICを作製するために、2回以上処理することができるので、本願明細書で使う基板という用語は既に多重処理した層を含む基板も指すことがあり得る。
図1は本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置100を概略的に示している。装置100は、少なくとも放射線システム102、個々に制御可能な素子のアレイ104、物体テーブル106(例えば、基板テーブル)、及び投影システム(「レンズ」)108を含む。
Noc=光学カラムの数、
Ls=走査方向の基板の長さ、
Locg=走査方向の光学カラム・グループの長さ、
Lp=走査方向に露光される各画素の長さ、
f=個々の画素がアドレス指定され得る最大周波数、
ET=処理量、即ち基板全体を露光しなければならない時間である。
Locg=Noc.Loc
Noc=4.17となる。
Noc=3.77
本発明の種々の実施例を上に記載してきたが、それは単なる例示であり、限定ではないことを理解されたい。当業者であれば、形式及び詳細の種々の変更が本発明の精神及び範囲から逸脱することなくなされてよいことは明白であろう。したがって、本発明の広さ及び範囲は上記の例示的実施例のいずれによっても制限されるべきではないが、添付の特許請求の範囲及びその同等物によってのみ定められるべきである。詳細な説明の項は、本願明細書のサマリー及びアブストラクトの項ではなく添付の特許請求の範囲を解釈する場合に限り用いられることを理解されたい。
3 ビーム・スプリッタ
4 照明源
6、7、8 レンズ
9 マイクロレンズ・アレイ
17、18、19、20 光点
22、50、114 基板
25、41 光学カラム
27 トラック
30 画素の列
36、37 光学エンジン
100 リソグラフィ投影装置
102 放射線システム
104 個々に制御可能な素子のアレイ
106 物体テーブル
108 投影システム
110 投影ビーム
112 放射線源
116 位置決め装置
118 スプリッタ
118 ビーム・スプリッタ
122 放射線のビーム
124 照明システム
128 調整装置
136 ベース・プレート
138 干渉ビーム
C120 目標部分
Claims (22)
- リソグラフィ装置であって、
複数の放射線ビームを供給する照明システムと、
前記複数の放射線ビームをパターン化する個々に制御可能な素子のアレイと、
前記パターン化されたビームの個々の1つを基板の上に投影する複数の投影システムであり、レンズのアレイ内の各レンズが前記個々のパターン化されたビームの一部を前記基板上の個々の目標領域に導くように配置された各々レンズのアレイを備えた投影システムと、
前記個々のパターン化されたビームが所定の走査方向に前記基板にわたって走査されるように、前記基板と前記投影システムとの間に相対的移動を生じさせる移動システムとを備え、
種々の投影システム・グループのレンズのアレイ内のレンズが前記パターン化されたビームの種々のパターン化されたビームの一部を走査方向に整列された前記基板の個々の目標領域の異なる1つへ導くように、前記投影システムは投影システムのグループとして配置され、
前記基板及び前記投影システムが相互に対して移動されるときに、前記投影システム・グループの各々が前記基板の個々の領域にわたって前記パターン化されたビームの個々の1つを走査するように、前記投影システム・グループは走査方向に離間して配置され、かつ
走査方向に相互に隣接する前記投影システム・グループの個々の投影システム・グループからの前記パターン化されたビームの個々のパターン化されたビームによって走査される前記個々の領域は連続しているリソグラフィ装置。 - 前記連続する領域の各々は略矩形である請求項1に記載の装置。
- N個の前記投影システムのグループがL/Nの間隔の走査方向に分配され、Lは露光される基板の長さである請求項2に記載の装置。
- 2つの投影システムのグループを備え、
前記2つのグループの各々は前記投影システムのアレイを含み、前記投影システムのアレイの各々は走査方向の基板の長さの半分を操作し、
前記2つのグループ間の間隔は露光される基板の長さの半分である請求項1に記載の装置。 - 前記2つのグループの各々は前記投影システムのアレイを備え、前記2つのアレイの各々は前記基板の幅にわたって延在する前記基板の個々の目標領域を露光する請求項4に記載の装置。
- 3つの前記投影システムのグループを備え、該グループの各々は走査方向の基板の長さの1/3を露光する前記投影システムのアレイを含み、かつ前記グループの各々の間の間隔は露光される基板の長さの1/3である請求項1に記載の装置。
- 前記連続する領域の各々は略矩形の主要部分及び該主要部分から走査方向に延在する少なくとも1つの端部を有し、前記連続する領域の前記少なくとも1つの端部は、前記少なくとも1つの端部が前記連続する領域の鋸歯形状に重なり合っている鋸歯形状を有する請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの端部の各々は、前記投影システムのグループの各々の走査方向の長さに等しい走査方向の長さを有する請求項7に記載の装置。
- (L+l)/Nの間隔で走査方向に分配された前記投影システムのN個のグループを備え、Lは基板の長さであり、lは前記投影システムのグループの各々の走査方向の長さである請求項8に記載の装置。
- 前記移動システムは前記基板の移動を生じさせ、かつ前記投影システムは静止している請求項1に記載の装置。
- 前記レンズのアレイの各々は、前記基板の表面上のトラックを露光する前記パターン化されたビームの光点を投影し、かつ前記レンズのアレイの1つによって露光されたトラックは連続している請求項1に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
個々に制御可能な素子のアレイを用いて複数のビームの各々をパターン化する工程と、
前記パターン化されたビームを基板の上に投影する工程と、
前記パターン化されたビームが所定の走査方向で前記基板にわたって走査されるように、前記パターン化されたビームに対して前記基板を移動する工程と、
レンズのアレイ内の各レンズが個々のパターン化されたビームの個々の一部を前記基板上の個々の目標領域に導くように配置されたレンズのアレイを用いて、前記基板の方に前記パターン化されたビームを導く工程と、
前記投影システム・グループの種々の投影システム・グループのレンズのアレイ内のレンズの各々が前記パターン化されたビームの種々のパターン化されたビームの一部を走査方向に整列された前記基板の種々の領域へ導くように、前記投影システムをグループで配置する工程と、
前記基板及び前記投影システムが相互に対して移動されるときに前記前記投影システム・グループの各々が前記基板の前記領域にわたって前記パターン化されたビームを走査するように、前記投影システム・グループを走査方向に離間させる工程とを含み、走査方向に相互に隣接する前記投影システムからの前記パターン化されたビームによって走査される前記個々の領域は連続しているデバイス製造方法。 - 前記連続する領域を実質的に矩形にする工程をさらに含む請求項12に記載の方法。
- N個の前記投影システムのグループをL/Nの間隔で走査方向に分配する工程をさらに含み、Lは前記基板の長さである請求項13に記載の方法。
- 前記投影システムのグループの2つを前記基板の長さの半分の間隔で走査方向に離間する工程と、
前記基板の1/2が前記投影システムのグループの1つの全幅にわたって移動されるように、かつ前記基板の前記1/2が他方の投影システム・グループの全幅にわたって移動されるように、前記投影システム・グループに対して前記基板を移動させる工程とをさらに含む請求項12に記載の方法。 - 前記グループの各々の投影システムの2つのアレイを用いる工程をさらに含み、前記グループの各々の投影システムの2つのアレイは前記基板の個々の半分を露光し、かつ前記投影システムの2つのアレイの各々は前記基板の個々の部分の走査方向の交互になった画素領域を露光する請求項15に記載の方法。
- 前記投影システムのグループの3つを前記基板の長さの1/3の間隔で走査方向に離間する工程、及び前記基板の個々の1/3が各グループの全幅にわたって移動されるように、前記グループに対して前記基板を移動させる工程をさらに含む請求項12に記載の方法。
- 前記連続する領域の各々は略矩形の主要部分及び該主要部分から走査方向に延在する少なくとも1つの端部を有し、前記連続する領域の前記少なくとも1つの端部は、前記少なくとも1つの端部が前記連続する領域の鋸歯形状に重なり合っている鋸歯形状を有する請求項12に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの端部の各々は、前記投影システムのグループの各々の走査方向の長さに等しい走査方向の長さを有する請求項18に記載の方法。
- (L+l)/Nの間隔で走査方向に前記投影システムのN個のグループを分配する工程をさらに含み、Lは基板の長さであり、lは前記投影システムのグループの各々の走査方向の長さである請求項19に記載の方法。
- 前記基板を移動する工程と、前記投影システムを静止させる工程とをさらに含む請求項12に記載の方法。
- 前記レンズのアレイの各々を用いて前記パターン化されたビームの光点を投影して、前記基板の表面上の連続するトラックの個々のトラックを露光する工程をさらに含む請求項12に記載の方法。
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