JP2006138997A - マイクロレンズ付基板の製造方法、及び液晶表示パネル用対向基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロレンズ付基板の製造方法であって、所定のエッチャントにより実質的にエッチングされる材料からなるエッチング非耐性膜32を、凹部10の開口部となるべき多角形の領域の各頂点を含む領域上に形成するエッチング速度調整部形成工程と、エッチング耐性膜34を、透光性基板12の表面上に形成するエッチング耐性膜形成工程と、凹部10の開口部となるべき領域の中央位置に孔部36を形成する孔部形成工程と、孔部36に所定のエッチャントを導入して透光性基板12をエッチングすることにより、凹部10を形成するエッチング工程とを有する。
【選択図】図4
Description
(構成1)レンズ形状をなした複数の凹部を、エッチングにより、透光性基板上に縦横均等に配列状に並べて形成する凹部形成工程と、透光性基板と異なる屈折率の媒体を凹部に充填してマイクロレンズ部を形成するマイクロレンズ形成工程とを備えるマイクロレンズ付基板の製造方法であって、凹部形成工程において形成される凹部の開口部の形状は多角形或いは略多角形であり、凹部形成工程は、透光性基板を準備する基板準備工程と、凹部を形成するためのエッチングの少なくとも終点直前において、凹部の開口部の辺方向に対して垂直方向に進むエッチングの速度よりも、開口部の中心と多角形の各頂点とを結ぶ対角方向に進むエッチング速度が速くなるように、透光性基板の表面にエッチング速度調整部を形成するエッチング速度調整部形成工程と、透光性基板を実質的にエッチングする所定のエッチャントにより実質的にエッチングされない材料からなるエッチング耐性膜を、透光性基板の表面上に形成するエッチング耐性膜形成工程と、凹部の開口部となるべき領域の中央位置上のエッチング耐性膜を除去することにより、エッチング耐性膜に孔部を形成する孔部形成工程と、エッチング耐性膜の孔部に所定のエッチャントを導入して透光性基板をエッチングすることにより、凹部を形成するエッチング工程とを有する。
凹部の開口部の辺に対して垂直な方向とは、例えば、エッチングが終了した時点の凹部における、多角形或いは略多角形の開口部の辺の方向に対して垂直な方向である。開口部の対角方向とは、例えば、エッチングが終了した時点の凹部における、多角形の開口部の中心と多角形の各頂点とを結ぶ対角線の方向である。
しかし、開口部が多角形である凹部を、例えば1回の等方性エッチングで行うのは困難である。等方性エッチングにおいては、透光性基板の面内方向と板厚方向とでエッチング速度が等しくなるため、例えば辺方向にエッチング終了を合わせると、対角方向の頂点に土手ができてしまうこととなる。また、対角方向にエッチング終了を合わせた場合、辺方向に対して垂直方向では透光性基板の板厚方向にエッチングが進行してしまい、光の利用効率の点で不利になる。また、凹部を形成するエッチングを、例えば2段階にわけて行うとすれば、製造工程の複雑化により、マイクロレンズ付基板の製造コストが増大することとなる。
尚、エッチング工程におけるエッチングの少なくとも開始時点において、透光性基板は等方性エッチングされるのが好ましい。凹部の開口部は、厳密に多角形でなくとも、上記のようなマイクロレンズを形成するのに十分な精度で、略多角形であればよい。略多角形には、例えば、多角形の頂点が丸みを帯びた形状が含まれる。また、開口部の形状が略多角形である場合、上記の多角形の各頂点とは、例えば、この略多角形に最も近い多角形の各頂点である。
エッチング速度調整部形成工程は、対角方向にエッチングを速くする機能膜、又は辺方向に対して垂直方向にエッチング速度を遅くする機能膜を透光性基板の表面に形成してよい。エッチング速度調整部形成工程は、イオンを透光性基板にドープすることによって、エッチングの速度を変化させてもよい。
多角形としては、三角形、四角形、五角形、六角形、八角形等が挙げられる。設計上、四角形、六角形、八角形がよく、なかでも四角形、六角形が好ましい。
このようにした場合、透光性基板の表面は、エッチング非耐性膜及びエッチング耐性膜という、エッチング特性の異なる複数種類のエッチング膜で覆われることとなる。また、孔部付近にはエッチング非耐性膜が形成されていないため、孔部から進入するエッチャントにより、透光性基板は等方性エッチングされる。この等方性エッチングにより、透光性基板には、孔部直下を中心とするほぼ半球状の窪みが形成される。
そして、エッチングが更に進み、この窪みの縁部がエッチング非耐性膜の下に達すると、透光性基板とともに、エッチング非耐性膜がエッチングされることとなる。エッチング非耐性膜がエッチングされると、エッチング非耐性膜に覆われていた領域は、透光性基板の面内方向のエッチング速度が板厚方向よりも速くなるように、異方性エッチングされる。また、エッチング非耐性膜に最初から覆われていない領域は、引き続き等方性エッチングされる。
そのため、構成2のようにすれば、エッチングの終点直前において、凹部の開口部の対角方向に進むエッチング速度を、開口部の辺方向に対して垂直方向に進むエッチングの速度よりも速めることができる。従って、このようにすれば、エッチング速度を適切に制御できる。
図1は、本発明の一実施形態に係る液晶表示パネル用対向基板200の製造方法の一例を示す。本例は、凹部の開口部の形状が略四角形であって、対角方向にエッチングを速くする機能膜を形成した場合の例である。本例の製造方法は、凹部形成工程、マイクロレンズ形成工程、遮光層形成工程、及び透明電極層形成工程を備える。
VCr・tCr+VSi・tSi=√2・(VCr・ttot)
を満たすのが好ましい。このようにすれば、対角方向及び辺方向のエッチングを同時に終了させることができる。エッチング非耐性膜32のパターニング形状は、上記の関係を満たすように、適宜設定される。
以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明する。
透光性基板12として、縦127mm、横127mm、厚さ1.1mmの合成石英ガラス基板の両面を精密研磨したものを用いた。波長587.6nmの光に対する透光性基板12の屈折率は1.458である。
その後、エッチング耐性膜34であるクロム膜をクロム用のエッチャントで除去して、透光性基板12上に縦横均等に配列状に並んだ凹部10を形成した(図6)。
例えば、マイクロレンズ部の光軸方向に対して光線の方向が5°程度ずれている場合、マイクロレンズ部は、入射光のうちの10%程度を、遮光層上に集光してしまう。そのため、比較例においては、マイクロレンズ部の入射光の利用効率が大きく低下してしまう。
本実施例においては、例えばマイクロレンズ部20の光軸方向に対して光線の方向が5°程度ずれている場合であっても、マイクロレンズ部20は、ほとんど全ての光を遮光層22の隙間に集光し、遮光層22上への集光は2.17%である。そのため、本実施例によれば、マイクロレンズ部20の入射光を効率よく利用できる。
実際にプロジェクタで使用されるランプ(入射光−20〜20°)を想定し、透過率のシミュレーションを行った結果、比較例では79.65%、本実施例では84.24%となった。
Claims (5)
- レンズ形状をなした複数の凹部を、エッチングにより、透光性基板上に縦横均等に配列状に並べて形成する凹部形成工程と、前記透光性基板と異なる屈折率の媒体を前記凹部に充填してマイクロレンズ部を形成するマイクロレンズ形成工程とを備えるマイクロレンズ付基板の製造方法であって、
前記凹部形成工程において形成される前記凹部の開口部の形状は多角形或いは略多角形であり、
前記凹部形成工程は、
前記透光性基板を準備する基板準備工程と、
前記凹部を形成するためのエッチングの少なくとも終点直前において、前記凹部の前記開口部の辺方向に対して垂直方向に進むエッチングの速度よりも、前記開口部の中心と多角形の各頂点とを結ぶ対角方向に進むエッチング速度が速くなるように、前記透光性基板の表面にエッチング速度調整部を形成するエッチング速度調整部形成工程と、
前記透光性基板を実質的にエッチングする所定のエッチャントにより実質的にエッチングされない材料からなるエッチング耐性膜を、前記透光性基板の前記表面上に形成するエッチング耐性膜形成工程と、
前記凹部の前記開口部となるべき領域の中央位置上の前記エッチング耐性膜を除去することにより、前記エッチング耐性膜に孔部を形成する孔部形成工程と、
前記エッチング耐性膜の前記孔部に前記所定のエッチャントを導入して前記透光性基板をエッチングすることにより、前記凹部を形成するエッチング工程と
を有することを特徴とするマイクロレンズ付基板の製造方法。 - 前記エッチング速度調整部形成工程は、前記所定のエッチャントにより実質的にエッチングされる材料からなるエッチング非耐性膜を、前記透光性基板の前記表面における、前記凹部の前記開口部となるべき多角形或いは略多角形の領域の各頂点を含む領域上に形成し、
前記エッチング耐性膜形成工程は、前記エッチング非耐性膜を覆う前記エッチング耐性膜を形成することを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ付基板の製造方法。 - 前記エッチング非耐性膜は、珪素を含む材料ならなる膜であり、
前記エッチング耐性膜は、クロムを含む材料からなる膜であることを特徴とする請求項2に記載のマイクロレンズ付基板の製造方法。 - 前記エッチング速度設定工程は、前記透光性基板の前記表面における、前記凹部の前記開口部となるべき多角形或いは略多角形の領域の各頂点を含む領域にイオンをドープすることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ付基板の製造方法。
- 液晶表示パネル用対向基板の製造方法であって、
請求項1から4のいずれかに記載のマイクロレンズ付基板の製造方法によってマイクロレンズ付基板を製造するマイクロレンズ付基板製造工程と、
前記マイクロレンズ付基板の各マイクロレンズ部の光軸上の位置であって前記マイクロレンズ付基板の他方の面側に、透明電極層を設ける透明電極層形成工程と
を備えることを特徴とする液晶表示パネル用対向基板の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014119628A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
US8951821B2 (en) | 2012-12-07 | 2015-02-10 | Seiko Epson Corporation | Method for producing oscillator |
JP2015225210A (ja) * | 2014-05-28 | 2015-12-14 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器 |
JP2016012150A (ja) * | 2015-10-06 | 2016-01-21 | リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 | 凹型レンズの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07106537A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-21 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置の製造方法 |
JP2000155202A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Nec Corp | マイクロレンズアレイの製造方法 |
JP2003279949A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07106537A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-21 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置の製造方法 |
JP2000155202A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Nec Corp | マイクロレンズアレイの製造方法 |
JP2003279949A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8951821B2 (en) | 2012-12-07 | 2015-02-10 | Seiko Epson Corporation | Method for producing oscillator |
JP2014119628A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
JP2015225210A (ja) * | 2014-05-28 | 2015-12-14 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器 |
JP2016012150A (ja) * | 2015-10-06 | 2016-01-21 | リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 | 凹型レンズの製造方法 |
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