JP2006136457A - 高生体親和性を持つ多孔質インプラント及びその製造方法 - Google Patents
高生体親和性を持つ多孔質インプラント及びその製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】多孔質インプラントを構成するインプラント基体11は多孔質層12を備えており、前記多孔質層12中には多数の空孔13a、13bが三次元的に分布している。また、多孔質層12には、表面側に開口している空孔13aとインプラント基体側の空孔13bとが連通してなる開気孔13が存在しており、開気孔13を構成するインプラント基体11側の空孔表面13bの表面まで、生体親和性セラミックスからなる薄膜14が被覆している。なお、生体親和性セラミックスによる被覆は、レーザーアブレーション法によって、雰囲気ガスのガス圧が高い条件下で行う。
【選択図】図2
Description
イノバ社製エンドポア・インプラント(φ3.5×9mm)を多孔質インプラントとして使用して、ArFエキシマレーザー(λ=193nm、パルス幅=20n秒)アブレーション法をレーザーアブレーション装置(近畿大学生物理工学部本津研究室設計、誠南工業株式会社作製)により40時間行い、HAp薄膜を被覆した。このときヒーター温度は300℃、使用した雰囲気ガスは酸素−水蒸気混合ガス、混合ガスのガス圧力は8〜10mTorrであった。つぎに、被覆したHApを結晶化させるため、多孔質インプラントを電気炉に入れ、酸素−水蒸気混合ガス雰囲気下で450℃、1時間熱処理を行った。なお、この実施例では薄膜の存在を明瞭にするため、HApを本来必要な厚さと比べて過剰に厚く被覆した。
このようにして、作製した多孔質インプラントのX線回折パターンを2θ―θ法による粉末X線回折によって測定した。その結果を図6に示す。図6のX線回折パターンから、ポストアニール法を用いることで450℃の温度条件下で結晶化できることが確認できた。
多孔質インプラントをポリエステル樹脂(株式会社マルトー製)とアセトンの1:1混合液に脱気しながら8時間浸漬し、同じポリエステル樹脂とアセトンの2:1混合液に脱気しながら8時間浸漬したのち、60℃で24時間放置して樹脂包埋試料を作製した。この樹脂包埋試料を長軸方向に割断して割断面を研磨し、エネルギー分散型X線分析装置(EDX)によりHApの主要構成元素であるカルシウムの所在を調べた。その結果を図7に示す。なお、図7(a)は多孔質層断面のSEM画像であり、(b)はそのEDX画像である。また、図の上側は多孔質インプラントの表面側であり、下側は多孔質インプラントのインプラント基体側である。
(1)で作製した多孔質インプラント、HApをコーティングしていない多孔質インプラント(比較対照)を高圧滅菌したのち、雄5歳のビーグル犬の下顎骨に埋め込み、5週および9週間飼育した。実験期間終了後、インプラントを取り出して生理食塩水で完全脱血させ、3%ホルマリンで潅流固定を行い、アクリル樹脂微細血管注入法によって両側総頸動脈からアクリル樹脂を注入した。その後、2%次亜塩素酸ナトリウム溶液を用いて軟組織のみを処理し、骨組織を残存させた微細血管鋳型標本を作製した。その後、X線マイクロフォーカスコンピュータ断層撮影法(μCT)により空孔内への骨の進入状況を観察した。
11 インプラント基体
12 多孔質層
13 空孔
Claims (9)
- インプラント基体の表面の一部又は全部に多孔質層を備え、多孔質層中に多数の空孔が三次元的に分布しているとともに、多孔質層の表面側に開口している空孔とインプラント基体側の空孔とが連通してなる開気孔が存在する多孔質インプラントにおいて、
開気孔を構成するインプラント基体側の空孔表面の少なくとも一部を、生体親和性セラミックスからなる薄膜が被覆していることを特徴とする多孔質インプラント。 - 薄膜を異なる複数の材料により構成することを特徴とする請求項1に記載の多孔質インプラント。
- 薄膜をハイドロキシアパタイトにより構成することを特徴とする請求項1又は2に記載の多孔質インプラント。
- 薄膜をリン酸三カルシウムにより構成することを特徴とする請求項1又は2に記載の多孔質インプラント。
- 多孔質層をインプラント基体の表面に純チタン又はチタン合金からなるビーズを数層焼き付けて形成することを特徴とする請求項1から請求項4の何れかに記載の多孔質インプラント。
- インプラント基体と多孔質層とが一体化しており、多孔質インプラントの形状に細線を圧縮成形して製造することを特徴とする請求項1から請求項4の何れかに記載の多孔質インプラント。
- インプラント基体の表面の一部又は全部に多孔質層を備え、前記多孔質層中に多数の空孔が三次元的に分布しているとともに、多孔質層の表面側に開口する空孔とインプラント基体側の空孔とが連通してなる開気孔が存在する多孔質インプラントに、レーザーアブレーション法により、雰囲気ガスのガス圧が高い条件下で生体親和性セラミックスからなる薄膜を形成することを特徴とする多孔質インプラントの製造方法。
- 多孔質インプラントを回転しながら、薄膜を形成することを特徴とする請求項7に記載の多孔質インプラントの製造方法。
- 薄膜を形成したのち、高温水蒸気中で熱処理を行うことを特徴とする請求項8に記載の多孔質インプラントの製造方法。
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