JP2006124761A - 蒸着装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 マスクに弛みやシワが無い状態を維持できるようにして、長期に亘って安定した蒸着パターンを得ることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】 マスクストック室４６とこれに連通している蒸着室３６とを有し、マスクストック室４６あるいは蒸着室３６の少なくとも何れか一方が、収容されているマスク１を加熱する加熱手段を有することを特徴とする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、マスクストック室と蒸着室が連通している蒸着装置に関する。

近年、真空蒸着にて、有機材料を基板の所定の場所に蒸着するためには、真空チャンバー内で、シャドーマスクを基板に当接させて用いる方法が一般的である。

このシャドーマスクは、厚さが０．０２ｍｍ程度から０．２ｍｍ程度と、ごく薄い物が一般的であり、その製作には、板材から開口部のパターンをエッチングにて抜く方法と、電鋳にて開口パターンを持ったマスクを製作する方法がよく用いられている。

したがって、シャドーマスク単体では、その厚みが薄いため、他の部材を用いて保持する必要がある。

シャドーマスクの保持方法で、取り外し可能な方法としては、磁石を内蔵したマスクホルダーがよく知られている。この構成は、板状のホルダー内に、マグネットが内蔵してあって、かつシャドーマスクの材質を磁性体とし、この磁力を用いて、シャドーマスクをマスクホルダーに固定して用いるものである。

また、もう一つの方法として、厚み２〜１０ｍｍ程度のステンレス鋼あるいは鉄にてマスクフレームを構成し、これにシャドーマスクを接着あるいは溶接にて固定する方法が良く用いられている。

しかしながら、真空蒸着装置内にて上記従来例のマスクを有機材料の蒸着に用いると、坩堝等の蒸着源からの熱放射と蒸着物自体の熱によって、マスク全体が暖められ、それによって、シャドーマスクとマスクホルダーの温度が上昇する。その後、蒸着が終了すると、シャドーマスクとマスクホルダー自体の温度が常温に戻る、という熱履歴を受ける。

上記において、マグネットを内蔵したマスクホルダーを用いた場合は、シャドーマスクとマスクホルダーとの材質が異なる場合は、その線膨張係数も異なるため、その膨張率の差から、シャドーマスクがマスクホルダーに磁石によって吸着して固定している場所で、マスクホルダーとシャドーマスクとのすべりが生じる。

その後、シャドーマスク及びマスクホルダーが冷却すると、シャドーマスクとマスクホルダーが収縮し、高温時に線膨張係数の差からシャドーマスクとマスクホルダーとの相対位置にズレが生じた分が、シャドーマスクの弛みとなって、シワや波打ちが発生してしまう。

したがって、上記の温度履歴によって、発生したシャドーマスクの弛みやシワは、蒸着を複数回行なう場合は、１回使用する毎に、そのシワを矯正するために、一旦シャドーマスクをマスクホルダーから取り外して、調整する必要があり、メンテナンス時間の増大を招いていた。

また、マスクフレームにシャドーマスクを接着あるいは溶接して固定して用いる場合においては、その接着または溶接を行なう場合に、シャドーマスクに治具などで張力を与えた状態にして、接着または溶接を行なう必要があることがよく知られている。

上記、接着あるいは溶接時には、より簡単に固定するために、上記張力を与えずに固定する方法も検討されている。この場合は、その固定時に、接着剤が固まる速度の不均一によるシワの発生があり、また溶接の場合は、その溶接の熱がシャドーマスクに不均一に伝導することで、シャドーマスクの局所的な熱膨張により、どうしても全体を均一に固定することが困難であり、作業時間の増大や、歩留まりの低下を招いていた。

一方、特許文献１では、メタルマスク（シャドーマスク）の周囲部にメタルマスクの熱膨張係数より大きい材料をマスクフレームとして用いることで、坩堝等の蒸着源からの熱放射と蒸着物自体の熱によってマスクが暖められた際に、メタルマスクに張力を与えることができると記載されている。

特開２０００−６８０５３号公報

特許文献１に記載のマスク構成によれば、蒸着時の温度上昇によってもシャドーマスクが弛むことがなく、短期的にはシワや波打ちの発生を防止して所望の蒸着パターンを得ることができる。

しかしながら、特許文献１に記載のマスク構成においても、複数回の蒸着を行ううちに前述したような温度履歴を繰り返すことによってシャドーマスクには繰り返し応力（張力）が作用し、シャドーマスクに撓みやシワが生じてしまう問題がある。また、一般に蒸着に用いるマスクは、複数のマスクを収納できるマスクストック室から蒸着室に搬送して用いられるため、マスクストック室に収納されている間にもマスクに弛みが生じる問題がある。

そこで本発明は、上記のような問題点を解決し、マスクに弛みやシワが無い状態を維持できるようにして、長期に亘って安定した蒸着パターンを得ることができる蒸着装置の提供を目的とするものである。

上記の目的を達成すべく成された本発明の構成は以下のとおりである。
即ち本発明は、マスクストック室と前記マスクストック室と連通している蒸着室とを有する蒸着装置において、
前記マスクストック室あるいは前記蒸着室の少なくとも何れか一方が、収容されているマスクを加熱する加熱手段を有することを特徴とするものである。

上記本発明の蒸着装置は、
「前記マスクは、複数のストライプあるいは複数の矩形状のマスク開口部を有するメタルマスクが、開口部を有する板状のマスクフレームに溶接によって固着してなるマスクであって、前記マスクフレームの線膨張係数が、前記メタルマスクの線膨張係数よりも大きいこと」、
「前記メタルマスクは前記マスク開口部を有する面とは異なる面において前記マスクフレームに溶接されていること」、
「前記メタルマスクの材質をインバー鋼とし、前記マスクフレームの材質がステンレス鋼であること」、
「前記マスクフレームの外形は、略八角形であること」、
「前記マスクフレームの外形角部にスリットが設けられていること」、
「前記メタルマスクの外形を略八角形とし、この外形角部にスリットが設けられていること」、
「前記マスク開口部以外の場所に、前記メタルマスクの張力の分散を行なうための穴がさらに設けられていること」、
「前記マスクストック室が前記マスクを加熱する加熱手段を有し、該加熱手段は、前記マスクを所定の温度まで加熱し、かつその温度を一定に保つ手段であること」、
「前記マスクストック室が有する前記加熱手段は、電磁誘導加熱方式の加熱手段であること」、
「前記蒸着室は、有機材料を加熱蒸発させるための加熱蒸発手段を有し、真空蒸着が行なえる真空チャンバーであり、前記蒸着室が前記マスクを加熱する加熱手段を有し、該加熱手段は、前記マスクを加熱及び温調を行なう手段であること」、
「前記蒸着室が有する加熱手段は、電磁誘導加熱方式の加熱手段であること」、
をその好ましい態様として含むものである。

本発明の蒸着装置によれば、マスクストック室と蒸着室の少なくとも何れか一方にマスクを加熱する加熱手段を有することにより、蒸着を複数回繰り返し行う場合にもマスクに弛みやシワが無い状態を維持することができ、長期に亘って安定した蒸着パターンを得ることができる。

また、前記マスクは、複数のストライプあるいは複数の矩形状のマスク開口部を有するメタルマスクが、開口部を有する板状のマスクフレームに溶接によって固着してなるマスクであって、前記マスクフレームの線膨張係数が、前記メタルマスクの線膨張係数よりも大きい場合には、その熱膨張量の差によって、メタルマスクに張力が発生し、効果的にメタルマスクの弛みやシワの発生を防ぐことができる。

また、前記メタルマスクは前記マスク開口部を有する面とは異なる面において前記マスクフレームに溶接されている場合には、蒸着を行なうための基板を、溶接バリの影響を受けずに、メタルマスクに密着して取り付けることができるので、基板への蒸着をより良好に行なうことができる。

また、前記メタルマスクの材質をインバー鋼とし、前記マスクフレームの材質がステンレス鋼である場合には、この両者の線膨張係数の差は約１０倍であって、これらの比較的に入手し易い材料を用いて、メタルマスクへ張力を安定して発生させることができる。

また、前記マスクフレームの外形が略八角形である場合には、メタルマスクに８方向の張力を与えることができ、この張力の分布をより安定化させることができる。また、前記マスクフレームの外形角部にスリットが設けられている場合には、メタルマスクに発生する８方向の張力の分布をより安定化させることができる。そしてまた、前記メタルマスクの外形を略八角形とし、この外形角部にスリットが設けられている場合には、メタルマスクに発生する８方向の張力の分布をより一層安定化させることができる。

また、前記マスク開口部以外の場所に、前記メタルマスクの張力の分散を行なうための穴がさらに設けられている場合には、張力の大きさが安定して分布させることが出来、これにより、メタルマスクの弛みやシワを防止し、さらに画素開口部の変形を防ぐことができる。

また、前記加熱手段を電磁誘導加熱方式のものとした場合には、その励磁する周波数によって、例えば、マスクフレームの材質をステンレス鋼とした場合に、そのステンレス鋼だけを選択的に発熱させることができる。

以下、本発明の実施形態を具体的な実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。

（実施例１）
図１に本実施例の真空蒸着装置３５を示す。真空蒸着装置３５は、真空チャンバー３６と、マスクストック室４６、搬送シリンダー４４とから構成されている。

真空チャンバー３６には排気ポンプ３７が接続されていて、チャンバー内を真空状態することが出来る。

真空チャンバー３６内には、加熱手段および温度制御手段を配備した坩堝４３がある。坩堝４３内には、有機材料４２が入れられていて、坩堝の温度を所定の温度に設定することで、有機材料４２は真空蒸発し、基板などに真空蒸着を行なうことができる。

坩堝４３の上部には、マスク１と、有機材料４２が蒸着される基板３８が配置している。したがって、坩堝４３から、真空蒸発した材料が、マスク１の画素開口部を通過して、基板３８に蒸着を行なうことが出来る構成になっている。

マスク１は、不図示の積載台に固定されている。マスク１の下には、加熱手段３９があり、マスク１のマスクフレームを加熱可能になっている。加熱手段３９には、不図示の温度制御手段が接続されていて、設定した温度を保つ様に、制御可能になっている。

基板３８は、図からわかる様に、ロッド４０の先端部にあるハンド４０ａによって保持されている。ロッド４０は、アクチュエータ４１によって駆動され、基板３８の面内方向と面内回転方向に駆動可能になっており、マスク１の画素開口部と、基板３８の画素有効部とのアライメント調整を行なうことが出来る様になっている。

マスクストック室４６は、独立開閉バルブ４５を介して真空チャンバー３６に接続されている。また、マスクストック室４６は真空糟により構成されていて、不図示の排気ポンプを介して内部を真空状態にすることが出来る。このマスクストック室４６には、マスク１を６個搭載出来る様になっている。

マスクストック室４６において、マスク１は、真空糟内に設けられている不図示のラックに置かれていて、その下に加熱手段４７が設けられている。加熱手段４７は、不図示の温度制御装置によって温度制御が行える様になっており、マスク１を所定の温度まで加熱し、かつその温度を一定に保つことができる。

基板３８は、不図示の基板ストック室から、不図示の搬送手段を用いて真空チャンバー３６内に出し入れが可能になっていて、上記説明の様に、ロッド４０の先端部にあるハンド４０ａによって保持される。

また、真空チャンバー３６には、開閉バルブ４４ａを介して、搬送シリンダー４４が装着されており、この搬送シリンダー４４は、マスクストック室４６と真空チャンバー３６内とを行き来可能であり、マスク１は、マスクストック室４６から真空チャンバー３６内へ搬送可能になっている。

図２乃至５に本実施例のマスク１の形態を示す。図２はマスクの詳細図、図３はマスクフレームの詳細図、図４はシャドーマスク（メタルマスク）の詳細図、図５は図２中のＡ−Ａ断面図である。

マスク１は、シャドーマスク２とマスクフレーム３とから成る。図からわかるように、マスクフレーム３の上にシャドーマスク２があり、このシャドーマスク２は、多数の溶接ヶ所２ａによってマスクフレーム３に固着されている。本実施例では、この溶接にはスポット溶接を用いた。

マスクフレーム３には開口部３ａがあり、その開口部内にシャドーマスク２の多数の画素開口部２ｂが位置するようになっている。

マスクフレーム３は厚さ約１０ｍｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）からなり、線膨張係数は１４×１０^-6／℃である。一方、シャドーマスク２はＮｉ含有率が３６％のインバー鋼からなり、線膨張係数は１．４×１０^-6／℃である。

上記のＳＵＳ３０４とインバー鋼との線膨張係数の値を比べると、ＳＵＳ３０４の方がインバー鋼よりも１０倍大きい。つまり、マスクフレーム３の熱膨張は、シャドーマスク２の熱膨張よりも１０倍大きい。

本実施例では、２０℃環境でシャドーマスク２をマスクフレーム３に溶接を行なって固着している。この時、多数の溶接ヶ所２ａを結ぶ矩形の大きさは縦１００ｍｍ、横８０ｍｍである。

このように構成したマスク１を６０℃まで温めた場合のマスクフレーム３の伸びＬ_f（溶接ヶ所の内側縦方向の伸び）は、
Ｌ_f ＝Δｔ×１００×１４×１０^-6
＝（６０−２０）×１００×１４×１０^-6
＝０．０５６ｍｍ
となる。
一方、これに対して、シャドーマスク２の伸びＬ_m（溶接ヶ所の内側縦方向の伸び）は、０．００５６ｍｍである。したがって、
ΔＬ＝Ｌ_f −Ｌ_m＝０．０５６−０．００５６＝０．０５０４ｍｍ（＝約５０μｍ）
よって、マスクフレーム３が、シャドーマスク２を約５０μｍの強制変位で引っ張るということになる。これにより、シャドーマスク２には張力が生じ、この張力によって、弛みやシワを防止することができる。

次に、本実施例の蒸着装置の動作について説明を行なう。
マスク１は、大気状態において、マスクストック室４６の不図示の扉を開けて、６枚収納可能になっている。その後、不図示の排気ポンプによってマスクストック室内は真空状態に保持され、且つ、加熱手段４７によってマスク１は所定の温度に加熱される。本実施例では６０℃に加熱保持している。

真空チャンバー３６は、排気ポンプ３７によって真空状態になっており、搬送シリンダー４４内も、上記ポンプにて真空状態を維持出来る様になっている。

搬送シリンダー４４の開閉バルブ４４ａと、独立開閉バルブ４５とを開いて、マスクストック室４６内のマスク１を真空チャンバー３６内のマスク設置用の不図示のラックに装着する。

この状態で、加熱手段３９にて、マスク１の温度を６０℃に維持するように温度制御を行なう。

次にアクチュエータ４１を駆動し、基板３８の面内方向と面内回転方向に駆動し、マスク１の画素開口部と、基板３８の画素有効部とのアライメント調整を行なう。

上記アライメント調整後、坩堝４３より有機材料４２の真空蒸着を行なう。

以上の動作によって、マスク１が、マスクストック室４６では加熱手段４７にて６０℃に加熱され、次に真空チャンバー３６内に搬送されると、今度は加熱手段３９によって、再び６０℃を保つ様に加熱を行なえる様になっている。

このため本実施例の真空蒸着装置では、マスク１は、マスクストック室４６における保管中と真空チャンバー３６内でのアライメント動作中および真空蒸着中を通じて、マスクフレーム３の熱膨張により、シャドーマスク２にテンションが発生し、シャドーマスクの弛みやシワなどが発生せず、マスク開口形状通りの蒸着を良好に行なうことが出来、基板の所定の画素有効部への良好な位置及び画素形状で蒸着を行なうことができる。

なお、本実施例では、加熱手段３９及び４７として電熱線を用いたいわゆるヒータを用いたが、装置外のヒータによって水を温めて温水とし、その温水を装置内へパイプラインによって流入させ、マスク近傍にラジエーターを施した構成による加熱方法としてもよい。

また、電磁誘導加熱を行なう方法でもよい。これはコイルに高周波の交流電流を印可して、電磁界によって、金属内部の自由電子を振動させ、その内部摩擦によって生じる熱によって発熱させる方法である。

この電磁誘導加熱方法では、その発熱効率に関して、印可する周波数と暖めようとする材質との関係がある。したがって、この特性を用いて、マスクフレームの材質をＳＵＳ３０４とし、シャドーマスクの材質をインバー鋼とした場合、ＳＵＳ３０４のみを選択的に励起させて発熱させることが出来る。これにより、より少ない電力で、マスクフレームだけを加熱させることが出来る。

また、本実施例ではマスクの予熱温度を６０℃としているが、左記温度とした理由は、これ以上の温度で、真空チャンバー内で基板に当接させた場合は、例えば基板に半導体が印刷されてある物であった場合などは、その半導体を熱劣化させてしまう心配がある。また、蒸着した有機材料を熱劣化させてしまう心配もあるため、本実施例では、マスクの予熱温度を６０℃とし、基板及び蒸着された材料が熱劣化しない温度で使用した。なお、基板及び蒸着された材料に耐熱性があるものであれば、マスクの予熱温度をより高い温度で用いても差し支えないことは言うまでもない。

（実施例２）
本実施例１では真空チャンバー３６とマスクストック室４６の双方にマスクを加熱する手段を設けているが、本実施例ではマスクストック室４６にのみ設けた場合を説明する。

マスクストック室にのみマスクを加熱する手段を設けた場合には、マスクストック室から真空チャンバー内に搬送され装着されることで、マスクは加熱手段による加熱を受けられなくなるので、自然放熱によって温度の低下が始まる。しかし、真空チャンバー内には、坩堝からの放射熱があるので、蒸着中は、若干温度低下の度合いは、緩やかになる。

マスクの上記の温度低下の度合は、シャドーマスクの熱容量に比べて格段に大きいマスクフレームの熱容量によって決まるものである。本実施例では、マスクフレームは厚み１０ｍｍのものを用いたが、マスクストック室にて７０℃に加熱し、その後搬送手段を経て、真空チャンバー内に装着し、直ちに真空蒸着を開始し、所定の時間後に、真空蒸着を終了した段階で、マスクフレームの温度を測定すると、３５℃程度に低下していた。

しかし、上記のマスクフレームの温度が３５℃であっても、２０℃環境でシャドーマスクをマスクフレームに溶接を行なっているため、その熱膨張による効果は維持されており、シャドーマスクの画素開口部での弛みやシワは発生していないので、基板へ良好な蒸着パターンを得ることが出来た。

（実施例３）
本実施例１では真空チャンバー３６とマスクストック室４６の双方にマスクを加熱する手段を設けているが、本実施例では真空チャンバー３６にのみ設けた場合を説明する。

真空チャンバーにのみマスクを加熱する手段を設けた場合には、マスクストック室に収容中から真空チャンバー内に搬送・装着されるまではマスクは加熱手段による加熱を受けられなくなるので、真空チャンバー装着時にはマスクに弛みが生じている場合がある。しかし、蒸着前に予め真空チャンバー内の加熱手段３９によってマスクを例えば６０℃に加熱することで、マスクフレームの熱膨張による効果を発現でき、シャドーマスクの画素開口部での弛みやシワを無くし、基板へ良好な蒸着パターンを得ることが出来た。

また、基板３８の入れ替えを行って複数回の蒸着を続けて行う場合にも、蒸着前に予め真空チャンバー内の加熱手段３９によってマスクを所定の温度に加熱することができるため、基板へ良好な蒸着パターンを得ることが出来た。

（実施例４）
図６乃至７に本実施例のマスク５の形態を示す。図６はマスクの詳細図、図７は図６中のＢ−Ｂ断面図である。なお、真空蒸着装置は実施例１と同様である。

マスク５は、シャドーマスク６とマスクフレーム７とから成る。マスクフレーム７には開口部７ａがあり、その開口部内にシャドーマスク６の画素開口部６ａが位置するようになっている。

シャドーマスク６には４つの切り欠き部６ｄがある。このシャドーマスク６は、折り曲げ部６ｂによってマスクフレーム７の板厚方向に曲げられており、この端面において溶接部６ｃによってマスクフレーム７に固着されている。

マスクフレーム７には、シャドーマスク６の折り曲げ部６ｂが当接する角部７ｂに、図からわかる様にＲ付けが施されている。

以上の構成において、マスク５では、マスクフレーム７の線膨張係数がシャドーマスク６の線膨張係数よりも大きい材質を使用しており、これにより、マスク５全体を暖めた場合には、マスクフレーム７の膨張の方が大きいので、シャドーマスク６には、張力が発生する。

本実施例のマスク５の形態によれば、シャドーマスク６とマスクフレーム７の溶接位置を、シャドーマスクの画素開口部形成面から９０度成す面、すなわち、マスクフレームの端面にて行なうことで、シャドーマスクに生じる張力が、よりムラ無く安定して作用することがわかっている。

また、マスクフレーム端面の角部７ｂに丸み付けを施すことで、上記シャドーマスクの張力によって、角部７ｂにてヒキツレが等が生じ、シャドーマスクの破断が生するのを防止している。

さらに、溶接ヶ所を、シャドーマスクの画素開口部がある面にて行なわないことによって、蒸着を行なうための基板を、溶接バリの影響を受けずに、シャドーマスクにより密着して取り付けることが出来るので、基板への蒸着をより良好に行なうことが出来る。

（実施例５）
図８乃至１０に本実施例のマスクの形態を示す。図８はマスクフレームの詳細図、図９はシャドーマスク（メタルマスク）の詳細図、図１０はマスクの詳細図である。なお、真空蒸着装置は実施例１と同様である。

マスク１０は、シャドーマスク１２とマスクフレーム１１とから成る。マスクフレーム１１には開口部１１ａがあり、その開口部内にシャドーマスク１２の画素開口部１２ａが位置するようになっている。

図８に示すようにマスクフレーム１１は、実施例１及び４で用いたものと類似ではあるが、その角部は面取り１１ｂが施されている。また、図９に示すようにシャドーマスク１２は、実施例１及び４で用いたものと類似ではあるが、その角部はＶ字形状の切り欠き１２ｂが施されている。

シャドーマスク１２は、折り曲げ部１２ｃ及び１２ｄによって、マスクフレーム１１の端部に溶接されている。マスクフレームの端部のＲ付けの形状及び、溶接の位置は、実施例４と同じ構成としている。

以上の構成において、マスク１０では、マスクフレーム１１の線膨張係数がシャドーマスク１２の線膨張係数よりも大きい材質を使用しており、これにより、マスク１０全体を暖めた場合には、マスクフレーム１１の膨張の方が大きいので、シャドーマスク１２には、張力が発生する。

実施例４では、端面に溶接ヶ所を設け、４角形を成すマスクフレームによって、その４辺の位置が熱膨張により、シャドーマスクに４方向に張力を与える構成であったが、本実施例では、マスクフレーム１１の端面１１ｂにてシャドーマスクを折り曲げて固定しているため、長短辺部分も含めると合計で８方向に、シャドーマスクに張力を与えることが出来る。このため、８方向の張力によって、シャドーマスク１２には安定して張力が与えられ、弛みやシワをより効果的に防止することができ、基板への蒸着をより良好に行なうことが出来る。

（実施例６）
図１１及び図１２に本実施例のマスクの形態を示す。図１１はマスクフレームの詳細図、図１２はマスクの詳細図である。なお、真空蒸着装置は実施例１と同様である。

マスク１５は、シャドーマスク１２（実施例５のものと同じ）とマスクフレーム１６とから成る。マスクフレーム１６には中央に開口部１６ａがあり、その開口部内にシャドーマスク１２の画素開口部１２ａが位置するようになっている。

実施例５と異なるのは、マスクフレーム１６の角部近傍にＶ字形状の切り欠き部１６ｂが設けられていることである。

シャドーマスク１２は、折り曲げ部１２ｃ及び１２ｄによって、マスクフレーム１６の端部に溶接されている。マスクフレームの端部のＲ付けの形状及び、溶接の位置は、実施例４と同じ構成としている。

以上の構成において、マスク１５では、マスクフレーム１６の線膨張係数がシャドーマスク１２の線膨張係数よりも大きい材質を使用しており、これにより、マスク１５全体を暖めた場合には、マスクフレーム１６の膨張の方が大きいので、シャドーマスク１２には、張力が発生する。

本実施例では、マスクフレームの切り欠き部１６ｂが設けられていることで、マスクフレーム１６の８方向への各熱膨張がより安定して行われる様になり、シャドーマスクの張力をより均一化することが出来、これにより、シャドーマスクの画素開口部の弛みやシワを防止することが出来る。

（実施例７）
図１３に本実施例のマスクの形態を示す。なお、真空蒸着装置は実施例１と同様である。

マスク３０は、シャドーマスク３１とマスクフレーム１６（実施例６のものと同じ）とから成る。マスクフレーム１６には中央に開口部１６ａがあり、その開口部内にシャドーマスク３１の画素開口部３１ｂが位置するようになっている。

実施例６と異なるのは、シャドーマスク３１の角部近傍にスリット３１ａが設けられていることである。

以上の構成において、マスク３０では、マスクフレーム１６の線膨張係数がシャドーマスク３１の線膨張係数よりも大きい材質を使用しており、これにより、マスク３０全体を暖めた場合には、マスクフレーム１６の膨張の方が大きいので、シャドーマスク３１には、張力が発生する。この時、上記張力の大きさによっては、画素開口部３１ｂの穴形状の歪みが問題になる場合がある。

一方、本実施例では、シャドーマスク３１の角部近傍にスリット３１ａを設けることで、上記張力の分散を行なうことが出来、一部の画素開口部へ張力が大きく作用するということを緩和することができる。

上記スリット３１ａの位置および個数は、本実施例で示した位置に限定されることはなく、上記画素開口部への局所的な張力のムラが解消される部位であれば、どこにあっても良い。

以上の実施例では、シャドーマスクの材質をインバー鋼とし、マスクフレームの材質をＳＵＳ３０４とする場合について説明したが、この材質に限定するものではなく、上記の様に、線膨張係数が、シャドーマスクよりもマスクフレームの方が、大きいという関係があれば、シャドーマスクの弛みやシワを良好に防止することができる。

また、実施例４乃至７で用いたシャドーマスクは、その角部近傍に切り欠きを設けているが、その切り欠き形状は上記実施例に限定されるものではなく、さらに、上記切り欠きの個数も、上記実施例に限定されるものではない。

また、実施例６乃至７で用いたマスクフレームの角部近傍に切り欠き部を設けているが、その切り欠き形状は上記実施例に限定されるものではなく、さらに、上記切り欠きの個数も、上記実施例に限定されるものではない。

本発明の蒸着装置の一例を示す図である。 本発明の実施例１で用いたマスクの詳細図である。 本発明の実施例１で用いたマスクフレームの詳細図である。 本発明の実施例１で用いたシャドーマスクの詳細図である。 図２中のＡ−Ａ断面図である。 本発明の実施例４で用いたマスクの詳細図である。 図６中のＢ−Ｂ断面図である。 本発明の実施例５で用いたマスクフレームの詳細図である。 本発明の実施例５で用いたシャドーマスクの詳細図である。 本発明の実施例５で用いたマスクの詳細図である。 本発明の実施例６で用いたマスクフレームの詳細図である。 本発明の実施例６で用いたマスクの詳細図である。 本発明の実施例７で用いたマスクの詳細図である。

符号の説明

１、５、１０、１５、３０：マスク
２、６、１２、３１：シャドーマスク
２ａ、６ｃ：溶接部
２ｂ、６ａ、１２ａ、３１ｂ：シャドーマスクの画素開口部
３、７、１１、１６：マスクフレーム
３ａ、７ａ、１１ａ、１６ａ：マスクフレームの開口部
６ｂ、１２ｃ、１２ｄ：折り曲げ部
６ｄ、１２ｂ、１６ｂ：切り欠き部
７ｂ：マスクフレーム端面の角部
１１ｂ、１６ｃ：面取り部
３１ａ：スリット
３５：真空蒸着装置
３６：真空チャンバー
３７：排気ポンプ
３８：基板
３９、４７：加熱手段
４０：ロッド
４０ａ：ハンド
４１：アクチュエータ
４２：有機材料
４３：坩堝
４４：搬送シリンダー
４５：独立開閉バルブ
４６：マスクストック室

Claims (12)

1. マスクストック室と前記マスクストック室と連通している蒸着室とを有する蒸着装置において、
   前記マスクストック室あるいは前記蒸着室の少なくとも何れか一方が、収容されているマスクを加熱する加熱手段を有することを特徴とする蒸着装置。
2. 前記マスクは、複数のストライプあるいは複数の矩形状のマスク開口部を有するメタルマスクが、開口部を有する板状のマスクフレームに溶接によって固着してなるマスクであって、
   前記マスクフレームの線膨張係数が、前記メタルマスクの線膨張係数よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
3. 前記メタルマスクは前記マスク開口部を有する面とは異なる面において前記マスクフレームに溶接されていることを特徴とする請求項２に記載の蒸着装置。
4. 前記メタルマスクの材質をインバー鋼とし、前記マスクフレームの材質がステンレス鋼であることを特徴とする請求項２又は３に記載の蒸着装置。
5. 前記マスクフレームの外形は、略八角形であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の蒸着装置。
6. 前記マスクフレームの外形角部にスリットが設けられていることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
7. 前記メタルマスクの外形を略八角形とし、この外形角部にスリットが設けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載の蒸着装置。
8. 前記マスク開口部以外の場所に、前記メタルマスクの張力の分散を行なうための穴がさらに設けられていることを特徴とする請求項２乃至７のいずれかに記載の蒸着装置。
9. 前記マスクストック室が前記マスクを加熱する加熱手段を有し、該加熱手段は、前記マスクを所定の温度まで加熱し、かつその温度を一定に保つ手段であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の蒸着装置。
10. 前記マスクストック室が有する前記加熱手段は、電磁誘導加熱方式の加熱手段であること特徴とする請求項９に記載の蒸着装置。
11. 前記蒸着室は、有機材料を加熱蒸発させるための加熱蒸発手段を有し、真空蒸着が行なえる真空チャンバーであり、
    前記蒸着室が前記マスクを加熱する加熱手段を有し、該加熱手段は、前記マスクを加熱及び温調を行なう手段であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の蒸着装置。
12. 前記蒸着室が有する加熱手段は、電磁誘導加熱方式の加熱手段であること特徴とする請求項１１に記載の蒸着装置。

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