JP2006111760A - ガスハイドレート生成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】設備を単純化してコスト低減が可能で、生成したガスハイドレートの付着水を脱水しつつ、円滑に排出することができる排出機構を有するガスハイドレート生成装置を提供する。
【解決手段】生成したガスハイドレートHを、耐圧容器1内側面に沿って上方搬送装置5のらせん状の搬送路5aを回転させて上方に搬送した後、排出羽根6の上方に配置した通気性のある回転円盤7で、ハイドレート形成ガスGの循環を確保しつつ、ガスハイドレートHがさらに上方に移動することを防ぎ、回転する排出羽根6で耐圧容器1の内側面の排出路2の開口部2aに向けて導入して排出路2の排出フィーダ3で排出する。
【選択図】 図1
【解決手段】生成したガスハイドレートHを、耐圧容器1内側面に沿って上方搬送装置5のらせん状の搬送路5aを回転させて上方に搬送した後、排出羽根6の上方に配置した通気性のある回転円盤7で、ハイドレート形成ガスGの循環を確保しつつ、ガスハイドレートHがさらに上方に移動することを防ぎ、回転する排出羽根6で耐圧容器1の内側面の排出路2の開口部2aに向けて導入して排出路2の排出フィーダ3で排出する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ガスハイドレート生成装置に関し、さらに詳しくは設備を単純化してコスト低減が可能で、生成したガスハイドレートの付着水を脱水しつつ、円滑に排出することができる排出機構を有するガスハイドレート生成装置に関するものである。
近年、水分子の作るカゴの中にガスを取り込んでなる安定な固形状のガスハイドレートが新たなガスの輸送、貯蔵手段等として注目されている。ガスハイドレートは、その結晶構造により高いガス包蔵性を有し、また、液化天然ガスのように極低温にする必要がなく、常圧・低温(−10数℃程度)で輸送、貯蔵ができる。
このガスハイドレートの生成方法の一つとして、所定の加圧状態の耐圧容器の中で、所温度に冷却された水にハイドレート形成ガス、例えばメタンガスや天然ガスなどを気泡状態で供給して生成する方法がある。
この方法によるガスハイドレートの生成装置は、種々提案されているが、例えば内筒容器と外筒容器との二重構造として、この両容器のすき間を生成したガスハイドレートの搬送路としたものがある(特許文献1参照)。
しかしながら、この装置ではガスハイドレートの生成に寄与しない耐圧構造の外筒容器が必要となり、設備が大型化、コスト高となる。また、外筒容器と内筒容器とのすき間はガスが充満しているため、内筒容器のガスハイドレートの生成熱を除去しにくく、外側からも効率的な冷却が困難であるという問題がある。生成したガスハイドレートが、付着水分率等の程度によって付着性の高い性状となっている場合には、容器壁面に固着して円滑にガスハイドレートが搬送できないという問題も生じる。
また、特許文献1の図5にはガスハイドレート生成容器の上部を絞って垂直スクリューコンベアと水平スクリューコンベアとを設けて、生成したガスハイドレートを搬送する装置が提案されている。
しかしながら、この装置においても生成したガスハイドレートが生成容器の内側面に固着して円滑な排出ができないという問題が生じる。
特開2004―10686号
本発明の目的は、設備を単純化してコスト低減が可能で、生成したガスハイドレートの付着水を脱水しつつ、円滑に排出することができる排出機構を有するガスハイドレート生成装置を提供することにある。
上記目的を達成するため本発明のガスハイドレート生成装置は、耐圧容器と該耐圧容器内部の下方に攪拌羽根を有し、該耐圧容器内部を所定の圧力および温度条件下として水にハイドレート形成ガスを気泡として供給してガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、生成したガスハイドレートを前記耐圧容器内側面に沿って接触させつつ、上方に搬送する上方搬送装置と、前記耐圧容器の内側面に一端を開口した排出路と該排出路に内設した排出フィーダとからなる排出装置とを備えて、前記上方搬送装置によって搬送されたガスハイドレートを前記排出路に導入するための上下方向を回転軸方向として回転する排出羽根を設け、前記上方搬送装置は、帯状らせん体からなる搬送路を前記耐圧容器内側面に沿って前記耐圧容器内を上下方向を回転軸方向として回転させることを特徴とするものである。
本発明のガスハイドレート生成装置によれば、耐圧容器とこの耐圧容器内部の下方に攪拌羽根を有し、耐圧容器内部を所定の圧力および温度条件下として水にハイドレート形成ガスを気泡として供給してガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、生成したガスハイドレートを耐圧容器内側面に沿って接触させつつ、上方に搬送する上方搬送装置と、耐圧容器の内側面に一端を開口した排出路と排出路に内設した排出フィーダとからなる排出装置とを備えて、上方搬送装置によって搬送されたガスハイドレートを排出路に導入するための上下方向を回転軸方向として回転する排出羽根を設け、上方搬送装置は、帯状らせん体からなる搬送路を耐圧容器内側面に沿って耐圧容器内を上下方向を回転軸方向として回転させるので、外筒容器が不要となり、耐圧容器を1つにしてガスハイドレートを生成、排出することができ、設備を単純化して大幅なコスト低減が可能となる。
また、生成したガスハイドレートを帯状らせん体からなる搬送路によって、耐圧容器内側面に沿って接触させながら上方に搬送するので、耐圧容器の内側面にガスハイドレートを固着させることなく、搬送中に重力によって付着水分を落下させて脱水しつつ、円滑に排出することができる。
そして、上方搬送されたガスハイドレートは、回転する排出羽根で内側面の排出路の開口部に向けて導入されて、排出路の排出フィーダで円滑に排出することができる。
以下、本発明のガスハイドレート生成装置を図に示した実施形態に基づいて説明する。図1にガスハイドレート生成装置の全体概要を示す。
円筒状の耐圧容器1には、冷却された水Wを供給する水供給路10とハイドレート形成ガスG(メタンガス、天然ガス等)を供給するガス供給路11が接続されている。ハイドレート形成ガスGはブロワ9を備えたガス循環路12を介して循環し、耐圧容器1の上方から排出されて再度、耐圧容器1の下方から供給される。
耐圧容器1の側面外周には、図示するように冷却ジャケット8を設けてもよい。耐圧容器1の内部下方には駆動モータMで耐圧容器1の内部の液を回転させる攪拌羽根4が設けられている。この攪拌羽根4の上方には、生成したガスハイドレートHを上方に搬送する上方搬送装置5が備わっている。この上方搬送装置5は、耐圧容器1の内側面に沿って帯状らせん体からなる搬送路5aが、上下方向に延びて配置され、耐圧容器1内部を内側面に沿って回転可能な構造となっている。その詳細は後述する。
耐圧容器1内部の上方には、上下方向に延び、駆動モータMによって回転する回転軸6aに固定された排出羽根6が配置されている。排出羽根6の平面方向羽根形状は、回転軸6aを中心として放射状の延びた直線羽根、湾曲羽根等、排出路2に効率よくガスハイドレートHを排出できる形状を適宜、採用することができる。羽根枚数もガスハイドレートHの排出効率等を考慮して適宜、決定する。
排出羽根6とほぼ同じ高さの耐圧容器1の内側面には、駆動モータMで作動する排出フィーダ3を内設する排出路2の開口部2aが設けられている。円滑にガスハイドレートHを排出路2の導入するために、開口部2aをベルマウス形状にすることができる。
排出羽根6の上方には、排出羽根6と同じ回転軸6aに固定され、通気部を有する回転円盤7が配置されている。この回転円盤7の一例を図3に示す。図3(a)に示す平面方向においては、回転軸6aに一端を固定した分割片7aが放射状に多数設けられている。この分割片7aは側面方向においては、図3(b)に示すように上下方向に通気性を確保するためにすき間が設けられている。各分割片7aの端部を鍵状に曲げることによって、生成したガスハイドレートHの上方移動を規制しつつ、ハイドレート形成ガスGの循環を妨げないようにしている。
上方搬送装置5の構造を図2に基づいて説明する。帯状のらせん体に形成された搬送路5aは、上端を排出羽根6に固定して上下方向に延びる保持支柱5bに所定の位置に固定されて、らせん形状を保ちながら、排出羽根6とともに回転可能となっている。
帯状らせん体の搬送路5aの保持は、この構造に限定されず、例えば、回転軸6aを下方に延設して回転軸6aから搬送路5aに平面放射状に保持支柱5bを延ばして、らせん形状に搬送路5aを保持しながら回転可能にすることもできる。また、搬送路5aは排出羽根6と別の回転軸によって回転させるようにしてもよい。
搬送路5aの幅は、搬送効率、回転数、らせんのピッチ等を考慮して適宜決定するが、回転中心部に中空となる空間を設けることによって、この空間から上方搬送する間にガスハイドレートHの付着水分が重力によって落下して、脱水されることになる。
搬送路5aの上面にゴム、ゴム混合物等の上面部材5cを外側に膨らむように配置して、耐圧容器1の内側面に接するもしくは、ほぼ接するようにしてもよい。このようにすることによって、耐圧容器1の内側面に付着したガスハイドレートHを掻くように上方に搬送することでき、耐圧容器1の内側面に付着したまま残るガスハイドレートHの量を減らすことができる。
次に図1に基づいて、この生成装置によるガスハイドレートHの生成、排出過程を説明する。耐圧容器1内部の所定温度に冷却された水Wに、耐圧容器1の下方に固定されたスパージャ13からハイドレート形成ガスGが気泡として供給される。この際に攪拌羽根4の攪拌によって、水Wとハイドレート形成ガスGが頻繁に接触して、ガスハイドレートHが生成する。この攪拌によって生成率を向上させることができる。
生成したガスハイドレートHは、水面に浮かんでガスハイドレート層を形成し、徐々にその層を厚くして耐圧容器1の内部に留まることになるので、順次、上方に搬送して耐圧容器1の外部へ連続して排出しないと水Wとハイドレート形成ガスGとの接触が妨げられてガスハイドレートHの生成効率が低下する場合がある。また、生成したガスハイドレートHは付着水量等の程度によって耐圧容器1の内側面に固着しやすい性状となる。
そこで、上方搬送装置5によって生成したガスハイドレートHの上方への搬送を促すようにする。搬送路5aの下端部は、ガスハイドレートHの層と水Wの層の境界付近となるように配置する。
搬送路5aが回転することによって、ガスハイドレートHが搬送路5aの上面に載って耐圧容器1の内側面に沿って接触しながら上方に搬送される。また、内側面に沿いながら搬送するので、ガスハイドレートHが内側面に固着したたままの状態になることを防ぐことができ、搬送中に重力によって付着水分を搬送路5aから落とすことによってガスハイドレートHの脱水効果も生じる。
上方搬送されたガスハイドレートHは、回転する排出羽根6によって耐圧容器1の内側面に向けて押出されて、耐圧容器1の内側面に開口した排出路2に導入される。ここで、排出羽根6の上方に回転円盤7が設置されているので、ガスハイドレートHのさらなる上方移動が回転円盤7によって規制されて、円滑にガスハイドレートHを排出路2に導入できる。特に、この生成装置ではハイドレート形成ガスGの循環気流によって、ガスハイドレートHがさらに上方に移動しようとするが、回転円盤7がガスハイドレートHの上方移動を規制するとともに、そのすき間が上下方向にハイドレート形成ガスGの通気を確保してハイドレート形成ガスGの循環が妨げられることがないので、ガスハイドレートHの生成に悪影響が生じることがない。
この実施形態では、ガスハイドレートHの上方移動の規制体として多数の分割片7aからなる回転円盤7を採用しているが、これに限定されず多数の貫通孔を有する回転円盤としてもよく、耐圧容器1の内側面から規制体を突出させて設けるようにしてもよい。
開口部2aから導入されたガスハイドレートHは、駆動モータMで駆動される排出フィーダ3によって排出路2を経て次工程に搬送される。排出フィーダ3としては、リボンフィーダやスクリューフィーダ等を用いる。
排出路2は図4に示すように、ガスハイドレートHの生成量に応じて複数設けることで排出効率を向上させることができる。このとき、平面方向において、耐圧容器1に対して円周方向に均等に設置するのが好ましい。排出路2の方向は、円周方向に限定されず、放射線方向に設置してもよい。
以上のように、本発明のガスハイドレート生成装置では、耐圧容器1に外筒容器が不要となり、設備を単純化してコスト低減が可能となる。また、生成したガスハイドレートHを耐圧容器1の内側面に固着した状態になることを防ぐことができ、付着水を脱水しつつ円滑に排出することができる。特に、連続してガスハイドレートHを生成する生成装置においては、効率的に連続してガスハイドレートの生成、排出をすることができる。
1 耐圧容器
2 排出路 2a 開口部
3 排出フィーダ
4 攪拌羽根
5 上方搬送装置 5a 搬送路
5b 保持支柱 5c 上面部材
6 排出羽根 6a 回転軸
7 回転円盤(規制体) 7a 分割片
8 冷却ジャケット
9 ブロア
10 水供給路
11 ガス供給路
12 ガス循環路
13 スパージャ
H ガスハイドレート
G ハイドレート形成ガス
W 水
2 排出路 2a 開口部
3 排出フィーダ
4 攪拌羽根
5 上方搬送装置 5a 搬送路
5b 保持支柱 5c 上面部材
6 排出羽根 6a 回転軸
7 回転円盤(規制体) 7a 分割片
8 冷却ジャケット
9 ブロア
10 水供給路
11 ガス供給路
12 ガス循環路
13 スパージャ
H ガスハイドレート
G ハイドレート形成ガス
W 水
Claims (4)
- 耐圧容器と該耐圧容器内部の下方に攪拌羽根を有し、該耐圧容器内部を所定の圧力および温度条件下として水にハイドレート形成ガスを気泡として供給してガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、生成したガスハイドレートを前記耐圧容器内側面に沿って接触させつつ、上方に搬送する上方搬送装置と、前記耐圧容器の内側面に一端を開口した排出路と該排出路に内設した排出フィーダとからなる排出装置とを備えて、前記上方搬送装置によって搬送されたガスハイドレートを前記排出路に導入するための上下方向を回転軸方向として回転する排出羽根を設け、前記上方搬送装置は、帯状らせん体からなる搬送路を前記耐圧容器内側面に沿って前記耐圧容器内を上下方向を回転軸方向として回転させることを特徴とするガスハイドレート生成装置。
- 前記排出羽根の上方に通気性を有しつつ、ガスハイドレートの上方移動を規制する規制体を設けた請求項1に記載のガスハイドレート生成装置。
- 前記規制体が前記排出羽根の回転軸に固定された回転円盤である請求項2に記載のガスハイドレート生成装置。
- 前記排出路を複数設けた請求項1〜3のいずれかに記載のガスハイドレート生成装置。
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