JP2006108681A - リソグラフィ装置及び位置測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置において、周囲空間の圧力を正確に測定することによって、周囲空間に存在する物体の、周囲空間の圧力変化の影響を受ける物体位置測定系による位置測定が修正される。所定の流動特性で周囲空間と流体接続した基準圧力体積を提供することができる。基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差が測定される。基準圧力体積の絶対圧力が圧力差に加算され、周囲空間の圧力変化が決定される。別法としては、圧力差が時間で積分され、それにより基準圧力体積の圧力変化が決定され、基準圧力体積のこの圧力変化が圧力差に加算され、周囲空間の圧力変化が決定される。流体接続には、開閉可能な弁を使用することも可能である。
【選択図】図2
Description
上式で、
D=0.27651754・10−3(1+53.5・10−8(C−300))であり、
Pは、(空気の)圧力[Pa]
Tは、(空気の)温度[℃]
Fは、水蒸気分圧[Pa]
Cは、CO2濃度[ppm]
に対応している。
ΔP(t)=P(t)−Pv(t)
であり、
ΔPsin ce_t0(t1)=P(t1)−P0
Claims (34)
- 基準圧力体積と流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力と前記圧力差を加算することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。 - 前記基準圧力体積の圧力と雰囲気圧の間の前記圧力差が前記周囲空間の少なくとも2つの位置で測定され、前記圧力変化が前記少なくとも2つの異なる位置で決定される、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも2つの位置が物体位置測定系の測定経路に沿って位置している、請求項2に記載の方法。
- 基準圧力体積と流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記基準圧力体積の圧力変化を決定するために、前記圧力差を所定の時間にわたって積分することと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定の時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。 - 前記圧力差の測定に先立って前記周囲空間の初期雰囲気圧を測定することと、前記初期雰囲気圧を前記所定時間の終了時における前記圧力差及び前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算することとをさらに含む、請求項4に記載の方法。
- 前記基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、前記積分ことを較正するために前記基準圧力体積の前記絶対圧力の測値を使用することとをさらに含む、請求項4に記載の方法。
- 基準圧力体積と開閉可能に流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記流体接続を開くことと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記接続を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。 - 前記圧力差の測定に先立って前記周囲空間の初期雰囲気圧を測定することと、前記初期雰囲気圧を前記圧力変化に加算することとをさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 基準圧力体積と開閉可能に流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記接続を開くことと、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記接続を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。 - 周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力を前記圧力差に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。 - 前記物体位置測定系がレーザ干渉計系である、請求項10に記載の装置。
- 前記接続が毛管である、請求項10に記載の装置。
- 前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を、前記物体位置測定系の測定経路に沿って位置する少なくとも2つの位置で測定するように形成された少なくとも2つの差圧センサを備えた、請求項10に記載の装置。
- 前記基準圧力体積が導電材料を含んでいる、請求項10に記載の装置。
- 前記導電材料が導電性に優れた微細メッシュを含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記導電材料が温度制御されている、請求項14に記載の装置。
- 前記基準圧力体積が非膨張材料で作られている、請求項10に記載の装置。
- 前記基準圧力体積がインバールで作られている、請求項17に記載の装置。
- 前記基準圧力体積が炭素繊維で作られている、請求項17に記載の装置。
- 周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差を所定の時間にわたって積分するように形成された、前記基準圧力体積の圧力変化を決定するための積分器と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定の時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。 - 前記周囲空間の雰囲気圧を測定するように形成された絶対圧力センサをさらに備え、前記加算器が、前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記雰囲気圧をさらに加算するように形成されている、請求項20に記載の装置。
- 周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。 - 周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。 - 放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように形成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの1つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記1つの支持体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力を前記圧力差に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。 - 前記基準圧力体積が前記投影系の投影レンズである、請求項24に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように形成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの1つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記1つの支持体の位置を測定するように形成されたレーザ干渉計系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差を所定の時間にわたって積分するように形成された、前記基準圧力体積の圧力変化を決定するための積分器と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記レーザ干渉計系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように形成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの1つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記1つの支持体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように構成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの1つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記1つの支持体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。 - パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力を前記圧力差に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。 - パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差を所定の時間にわたって積分するように形成された、前記基準圧力体積の圧力変化を決定するための積分器と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。 - パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。 - パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。 - 周囲空間に存在する物体の位置を測定するための方法であって、
基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記圧力差に基づいて前記周囲空間の圧力変化を決定することと、
決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体の位置測定を修正することと含む方法。 - 周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差に基づいて前記周囲空間の圧力変化を決定するように形成された計算ユニットと、
決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正するように形成された位置測定修正器とを備えた装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009054730A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光及び装置、並びにデバイス製造方法 |
KR101929864B1 (ko) * | 2009-07-31 | 2018-12-17 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | 저압 및 고압 근접 센서 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7271917B2 (en) * | 2005-05-03 | 2007-09-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, position quantity detection system and method |
US7443483B2 (en) * | 2006-08-11 | 2008-10-28 | Entegris, Inc. | Systems and methods for fluid flow control in an immersion lithography system |
US7710540B2 (en) * | 2007-04-05 | 2010-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL1036080A1 (nl) * | 2007-11-01 | 2009-05-07 | Asml Netherlands Bv | Position measurement system and Lithographic Apparatus. |
NL2006057A (en) * | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method for correcting a position of an stage of a lithographic apparatus. |
WO2012023918A1 (en) * | 2010-08-19 | 2012-02-23 | Halliburton Energy Services, Inc. | Optical pressure sensor |
NL2009378A (en) * | 2011-10-07 | 2013-04-09 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method of cooling a component in a lithographic apparatus. |
DE102013213525B3 (de) | 2013-07-10 | 2014-08-21 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren zum Kalibrieren eines Positionsmeßsystems und Positionsmeßsystem |
NL2014832A (en) * | 2014-06-19 | 2016-03-31 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, object positioning system and device manufacturing method. |
NL2016557B1 (en) * | 2016-04-06 | 2017-10-17 | Fugro Eng B V | Pressure measurement device. |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61160934A (ja) * | 1985-01-10 | 1986-07-21 | Canon Inc | 投影光学装置 |
US4750808A (en) * | 1987-08-05 | 1988-06-14 | Sigma Design Group | Projection screen |
US5063324A (en) | 1990-03-29 | 1991-11-05 | Itt Corporation | Dispenser cathode with emitting surface parallel to ion flow |
DE4237123C2 (de) * | 1992-11-03 | 1995-02-16 | Hans Georg Huber | Vorrichtung zum Reinigen großer Wassermengen von Rechengut |
JP3500619B2 (ja) * | 1993-10-28 | 2004-02-23 | 株式会社ニコン | 投影露光装置 |
JPH09115800A (ja) * | 1995-10-16 | 1997-05-02 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH09186065A (ja) | 1995-12-29 | 1997-07-15 | Nikon Corp | 露光装置 |
EP1020897A4 (en) * | 1997-08-26 | 2004-10-27 | Nikon Corp | ALIGNMENT DEVICE, LIGHTING METHOD, METHOD FOR PRINTING AN OPTICAL PROJECTION SYSTEM, AND METHOD FOR COMPOSING THIS ALIGNMENT DEVICE |
US6144442A (en) * | 1997-10-23 | 2000-11-07 | U.S. Philips Corp | Pneumatic support device with a controlled gas supply, and lithographic device provided with such a support device |
JP3387861B2 (ja) * | 1999-09-09 | 2003-03-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP3728217B2 (ja) * | 2000-04-27 | 2005-12-21 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法 |
JP4666747B2 (ja) * | 2000-11-06 | 2011-04-06 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
US6856399B2 (en) * | 2001-04-11 | 2005-02-15 | Modern Optical Technologies L.L.C. | Method and apparatus for measuring pressure |
US7268888B2 (en) | 2002-11-04 | 2007-09-11 | Zygo Corporation | Compensation of refractivity perturbations in an interferometer path |
TWI304157B (en) | 2002-11-27 | 2008-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4677174B2 (ja) | 2003-02-03 | 2011-04-27 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置 |
-
2004
- 2004-10-05 US US10/957,755 patent/US7310130B2/en active Active
-
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