JP2006108424A - 露光方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ワークに形成されるパターンの数が、マスクに形成されたパターンの数で割り切れないような場合であっても、本来使用を想定した個数のアライメントマークを使用して位置合せし、露光できるようにすること。
【解決手段】 マスクＭには複数の同一パターンが形成されている。マスクＭとワークＷを相対的に移動させ、アライメント顕微鏡２により、マスクＭのアライメントマークと、ワークＷのアライメントマークを検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行い、マスクＭ上の複数の同一パターンをワークＷ上に繰り返し露光する。マスクＭと光照射部１の間には、マスキングブレード６が設けられ、マスクＭに形成されたパターンをワークＷ上に露光する際、予め設定された手順でマスキングブレード６により、マスクＭに形成された複数の同一パターンのうちの一部のパターンを遮光して露光する。
【選択図】 図１
【解決手段】 マスクＭには複数の同一パターンが形成されている。マスクＭとワークＷを相対的に移動させ、アライメント顕微鏡２により、マスクＭのアライメントマークと、ワークＷのアライメントマークを検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行い、マスクＭ上の複数の同一パターンをワークＷ上に繰り返し露光する。マスクＭと光照射部１の間には、マスキングブレード６が設けられ、マスクＭに形成されたパターンをワークＷ上に露光する際、予め設定された手順でマスキングブレード６により、マスクＭに形成された複数の同一パターンのうちの一部のパターンを遮光して露光する。
【選択図】 図１
Description
本発明は、プリント基板や液晶基板等の基板の製造に用いられる露光方法に関し、特に、基板を複数の長方形状の露光区域に分割し、各露光区域を逐次露光する露光方法に関する。
半導体製造装置の生産工程において、マスクに形成されているマスクパターンを処理基板であるウエハに露光処理する時、ウエハ上の露光領域を複数に分割し、該分割した領域にマスクパターンを投影し、ウエハが載置されたワークステージを、所定量ずつ移動させることにより、上記分割した露光領域を露光位置に順次移動させ、順番に露光する方法が取られている。これは、一般に逐次露光、ステップ・アンド・リピート露光と呼ばれている（以下逐次露光と呼ぶ）。
従来、上記半導体製造装置以外の分野、例えば、プリント基板・液晶基板等の生産において露光処理を行なう時は、基板とほぼ同じ大きさのマスクを準備し、基板の露光領域全体を一括して露光処理する、一括露光が行なわれてきた。しかし、最近は、基板の大型化に伴うマスクの大型化を防ぐために、上記分野においても、逐次露光が採用されるようになってきた。
マスクが大型化すると、マスク製作のコストアップやマスク自重による露光精度の低下等の問題がある。逐次露光を採用することにより、マスクの大きさを基板の大きさよりも小さく作ることができるので、上記の問題を解決できる。
上記プリント基板や液晶基板等を逐次露光する露光装置については、例えば特許文献１や、特許文献２などに開示されている。
従来、上記半導体製造装置以外の分野、例えば、プリント基板・液晶基板等の生産において露光処理を行なう時は、基板とほぼ同じ大きさのマスクを準備し、基板の露光領域全体を一括して露光処理する、一括露光が行なわれてきた。しかし、最近は、基板の大型化に伴うマスクの大型化を防ぐために、上記分野においても、逐次露光が採用されるようになってきた。
マスクが大型化すると、マスク製作のコストアップやマスク自重による露光精度の低下等の問題がある。逐次露光を採用することにより、マスクの大きさを基板の大きさよりも小さく作ることができるので、上記の問題を解決できる。
上記プリント基板や液晶基板等を逐次露光する露光装置については、例えば特許文献１や、特許文献２などに開示されている。
上記のような逐次露光において、１枚の基板に複数の同一パターンを形成する場合であって、該基板がプリント基板のような大型の基板である場合、基板一枚あたりの露光回数を減らして処理時間を短くするために、マスクが大型化しない程度に複数の同一パターンを並べて形成し、いくつかまとめて露光するという方法が取られることがある。
図１２は、従来の逐次露光装置の概略構成図であり、本図を用いて説明する。
マスクＭには２行×２列の同一パターン（図中Ｐで示す）が形成されており、２行×２列の各パターンの四隅には、位置合せのためのマスク・アライメントマーク（以下マスクマークと略記する）ＭＡＭが形成されている。なお、ここではマスクＭの横方向のパターンの並びを行といい、縦方向の並びを列と呼ぶ。
露光を行なう基板（ワーク）Ｗには、４行×４列の同一パターンが形成されるようレイアウトされ、マスクマークＭＡＭに対応するように、各パターンの四隅にはあらかじめワーク・アライメントマーク（以下ワークマークと略記する）ＷＡＭが形成されている。
図１２は、従来の逐次露光装置の概略構成図であり、本図を用いて説明する。
マスクＭには２行×２列の同一パターン（図中Ｐで示す）が形成されており、２行×２列の各パターンの四隅には、位置合せのためのマスク・アライメントマーク（以下マスクマークと略記する）ＭＡＭが形成されている。なお、ここではマスクＭの横方向のパターンの並びを行といい、縦方向の並びを列と呼ぶ。
露光を行なう基板（ワーク）Ｗには、４行×４列の同一パターンが形成されるようレイアウトされ、マスクマークＭＡＭに対応するように、各パターンの四隅にはあらかじめワーク・アライメントマーク（以下ワークマークと略記する）ＷＡＭが形成されている。
ワークＷにマスクパターンＰを露光するにあたり、まず、マスクＭとワークＷの位置合せが行なわれる。
このため、露光領域内（図中ワーク上の点線囲みで示す）にアライメントマークを検出するためのアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄが挿入される。アライメント顕微鏡２ａ〜２ｄは、マスクＭとワークＷの縦横回転（ＸＹθ）方向の位置合せを行うために、少なくとも２台以上必要である。本例では４台使用する場合を示しており、４台のアライメント顕微鏡を使用して、マスクＭ上の２行×２列のパターンの四隅のマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ２，ＭＡＭ３，ＭＡＭ４（同図で黒丸で示している）と、ワークＷ上の２行×２列のパターンの四隅のワークマークＷＡＭ１１，ＷＡＭ１２，ＷＡＭ１３，ＷＡＭ１４（同図で黒丸で示している）の位置合わせを行う。
なお、マスクＭとワークＷの位置合わせは、理論的には２個のマスクマークとそれに対応したワークマークを用いて行うことも可能であるが、位置合わせ精度を確保する上で、できるだけ多くのマークを用いて行うのが望ましい。ここでは、マスクＭの四隅に設けられた４個のマスクマークとそれに対応した４個のワークマークを用いて行う。
このため、露光領域内（図中ワーク上の点線囲みで示す）にアライメントマークを検出するためのアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄが挿入される。アライメント顕微鏡２ａ〜２ｄは、マスクＭとワークＷの縦横回転（ＸＹθ）方向の位置合せを行うために、少なくとも２台以上必要である。本例では４台使用する場合を示しており、４台のアライメント顕微鏡を使用して、マスクＭ上の２行×２列のパターンの四隅のマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ２，ＭＡＭ３，ＭＡＭ４（同図で黒丸で示している）と、ワークＷ上の２行×２列のパターンの四隅のワークマークＷＡＭ１１，ＷＡＭ１２，ＷＡＭ１３，ＷＡＭ１４（同図で黒丸で示している）の位置合わせを行う。
なお、マスクＭとワークＷの位置合わせは、理論的には２個のマスクマークとそれに対応したワークマークを用いて行うことも可能であるが、位置合わせ精度を確保する上で、できるだけ多くのマークを用いて行うのが望ましい。ここでは、マスクＭの四隅に設けられた４個のマスクマークとそれに対応した４個のワークマークを用いて行う。
マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１１〜ＷＡＭ１４の像がアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄの画像センサＳに受像されることにより検出され、画像処理部１１において画像処理される。
制御部１２は、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１１〜ＷＡＭ１４の像が所定の位置関係になるように、ワークステージ制御部１３により、ワークＷが載置されたワークステージ（図示せず）を移動させる。なお、ワークＷを移動させる代わりに、マスクＭを移動させてもよいが、以下では、ワークＷを移動させる場合について説明する。
これにより、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１１〜ＷＡＭ１４のそれぞれが所定の位置関係になるように位置合せされる。なおこの位置合せは、目視によって行なわれる場合もある。
制御部１２は、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１１〜ＷＡＭ１４の像が所定の位置関係になるように、ワークステージ制御部１３により、ワークＷが載置されたワークステージ（図示せず）を移動させる。なお、ワークＷを移動させる代わりに、マスクＭを移動させてもよいが、以下では、ワークＷを移動させる場合について説明する。
これにより、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１１〜ＷＡＭ１４のそれぞれが所定の位置関係になるように位置合せされる。なおこの位置合せは、目視によって行なわれる場合もある。
マスクＭとワークＷの位置合せが済むと、アライメント顕微鏡２ａ〜２ｄが退避し、ランプ１ａと反射鏡１ｂを備えた光照射部１からマスクＭに露光光を含む光が照射され、マスクＭに形成された２行×２列の同一パターンＰが、領域Ａ１（ワークＷ上の太線で囲まれた４つのパターン領域Ｐ１〜Ｐ４で形成される領域）に投影され、ワーク上の領域Ａ１には２行×２列の同一パターンＰがまとめて露光される。
ワークＷの領域Ａ１の露光が終わると、ワークＷを図面左方向にパターンＰの２列分移動させ、ワークＷの領域Ａ２（領域Ａ１に隣り合う４パターン領域で形成される領域）の露光を行う。
領域Ａ２の露光の際にも、領域Ａ１の位置合わせと同様に、アライメント顕微鏡２ａ〜２ｄにより、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４と、領域Ａ２の四隅に設けられたワークマークＷＡＭを検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行う。なお、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４の相対位置は変わらないので、アライメント顕微鏡２ａ〜２ｄの位置は、領域Ａ１の位置合わせの場合と同じである。
ついで、光照射部１からマスクＭに露光光を含む光を照射し、ワークＷの領域Ａ２に２行×２列のマスクパターンＰを露光する。これで２行×４列の露光が終了する。
ワークＷの領域Ａ１の露光が終わると、ワークＷを図面左方向にパターンＰの２列分移動させ、ワークＷの領域Ａ２（領域Ａ１に隣り合う４パターン領域で形成される領域）の露光を行う。
領域Ａ２の露光の際にも、領域Ａ１の位置合わせと同様に、アライメント顕微鏡２ａ〜２ｄにより、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４と、領域Ａ２の四隅に設けられたワークマークＷＡＭを検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行う。なお、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４の相対位置は変わらないので、アライメント顕微鏡２ａ〜２ｄの位置は、領域Ａ１の位置合わせの場合と同じである。
ついで、光照射部１からマスクＭに露光光を含む光を照射し、ワークＷの領域Ａ２に２行×２列のマスクパターンＰを露光する。これで２行×４列の露光が終了する。
続いて、ワークＷを図面上方向にパターンＰの２行分上方向に移動させ、ワークＷの領域Ａ３の露光を行う。すなわち、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークＷの領域Ａ３の四隅に設けられたワークマークＷＡＭを検出して位置合せし、領域Ａ３に２行×２列のパターンＰを露光する。
さらに、ワークＷを図面右方向にパターンＰの２列分移動させ、ワークＷの領域Ａ４の露光を行う。すなわち、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークＷの領域Ａ４の四隅に設けられたワークマークＷＡＭを検出して位置合せし、領域Ａ４に２行×２列のパターンＰを露光する。以上でワークＷ上に４行×４列のパターンが露光される。
１個ずつパターンＰを露光すると、１６回の位置合せと露光の手順を繰り返さなければならないが、このように、マスクに同一パターンを２行×２列形成することにより、位置合せと露光の手順は４回の繰り返しで済む。
特許第２９０４７０９号公報
特許第２９９４９９１号公報
特開平４−３２６５０７号公報
特開平９−２３０６１０公報
さらに、ワークＷを図面右方向にパターンＰの２列分移動させ、ワークＷの領域Ａ４の露光を行う。すなわち、マスクマークＭＡＭ１〜ＭＡＭ４とワークＷの領域Ａ４の四隅に設けられたワークマークＷＡＭを検出して位置合せし、領域Ａ４に２行×２列のパターンＰを露光する。以上でワークＷ上に４行×４列のパターンが露光される。
１個ずつパターンＰを露光すると、１６回の位置合せと露光の手順を繰り返さなければならないが、このように、マスクに同一パターンを２行×２列形成することにより、位置合せと露光の手順は４回の繰り返しで済む。
しかし、このようにマスクに複数のパターンを形成してまとめて露光する方法の場合、ワークに形成するパターンのレイアウトの都合で、余りが出ることがある。例えば、上記従来例の場合において、図１３に示すように、ワークの各行に形成されるパターンが４行×５列である場合、同図右端の１列が余ってしまう。
図１３の場合、ワークＷの領域Ａ１〜Ａ４については、上記従来例と同様の手順で露光できる。しかし、ワークＷ上に形成されるべき５列目の余りの領域Ａ５（同図のハッチングで示した領域）については、領域Ａ１〜Ａ４と同様な露光を行うことはできない。
すなわち、領域Ａ５にはパターンが１列しかない。このため、ワークマークもマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ３に対応するＷＡＭ５１，ＷＡＭ５３はあるが、マスクマークＭＡＭ２，ＭＡＭ４に対応すべきワークマークがない。したがって、本来使用を想定していた４個のアライメントマークが使用できないことになる。
アライメントマークが２個だけでも位置合わせはできるが、マスクとワークの精度良い位置合せができず、領域Ａ５の露光精度が悪化する。
なお、領域Ａ５の一列のパターンの図面右側にもワークマークＷＡＭ５２，ＷＡＭ５４が形成されているので、このワークマークと、これに対応するマスクＭ上のマスクマーク（マスクＭの１列目のパターンの右側に形成されたマスクマーク）をアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄにより検出すれば位置合せができる。
しかし、そのためには、図面右側の２台のアライメント顕微鏡２ｃ，２ｄを、ワークマークＷＡＭ５１，ＷＡＭ５３とそれに対応したマスクマークが検出できる位置まで移動させなければならず、アライメント顕微鏡２ａ，２ｂと２ｃ，２ｄの相対位置を変える必要がある。このためには、新たにそのための移動機構が必要となるとともに、そのための操作が必要であり、装置の構造や制御が複雑になる。
図１３の場合、ワークＷの領域Ａ１〜Ａ４については、上記従来例と同様の手順で露光できる。しかし、ワークＷ上に形成されるべき５列目の余りの領域Ａ５（同図のハッチングで示した領域）については、領域Ａ１〜Ａ４と同様な露光を行うことはできない。
すなわち、領域Ａ５にはパターンが１列しかない。このため、ワークマークもマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ３に対応するＷＡＭ５１，ＷＡＭ５３はあるが、マスクマークＭＡＭ２，ＭＡＭ４に対応すべきワークマークがない。したがって、本来使用を想定していた４個のアライメントマークが使用できないことになる。
アライメントマークが２個だけでも位置合わせはできるが、マスクとワークの精度良い位置合せができず、領域Ａ５の露光精度が悪化する。
なお、領域Ａ５の一列のパターンの図面右側にもワークマークＷＡＭ５２，ＷＡＭ５４が形成されているので、このワークマークと、これに対応するマスクＭ上のマスクマーク（マスクＭの１列目のパターンの右側に形成されたマスクマーク）をアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄにより検出すれば位置合せができる。
しかし、そのためには、図面右側の２台のアライメント顕微鏡２ｃ，２ｄを、ワークマークＷＡＭ５１，ＷＡＭ５３とそれに対応したマスクマークが検出できる位置まで移動させなければならず、アライメント顕微鏡２ａ，２ｂと２ｃ，２ｄの相対位置を変える必要がある。このためには、新たにそのための移動機構が必要となるとともに、そのための操作が必要であり、装置の構造や制御が複雑になる。
以上のように、ワークＷに形成されるパターンの数が、マスクに形成されたパターンの数で割り切れないような場合、各領域の露光毎にマスクとワークの位置合わせを行って露光しようとすると、従来の逐次露光方法では、余った露光領域を露光する際、使用するアライメントマークの数を減らして位置合わせをするか、アライメント顕微鏡の位置を変更して位置合わせを行う必要があり、位置合わせ精度が低下したり、装置の構造や制御あるいは操作が複雑になるといった問題が生じた。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、マスクに複数の同一パターンが形成され、この複数の同一パターンをワークに逐次露光する方法において、ワークに形成されるパターンの数が、マスクに形成されたパターンの数で割り切れないような場合であっても、アライメント顕微鏡の位置を変更することなく、本来使用を想定した個数のアライメントマークを使用して位置合せし、露光できるようにすることを目的とする。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、マスクに複数の同一パターンが形成され、この複数の同一パターンをワークに逐次露光する方法において、ワークに形成されるパターンの数が、マスクに形成されたパターンの数で割り切れないような場合であっても、アライメント顕微鏡の位置を変更することなく、本来使用を想定した個数のアライメントマークを使用して位置合せし、露光できるようにすることを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明においては、複数の同一パターンと各パターンに対応してマスク・アライメントマークとが形成されたマスクとワークとを相対的に移動させ、一つのワークに対し、マスクに形成された上記複数の同一パターンを、繰り返して露光を行う際、上記マスク・アライメントマークとワークに形成されたワーク・アライメントマークとの位置合せを、同一位置に固定されたアライメント顕微鏡を用いて行ない、最初のパターンを露光する時から最後のパターンを露光するまでの間のどこかの時点において、上記マスクに形成された複数の同一パターンのうち少なくとも一つのパターンを遮光して露光する。
本発明においては、以下の効果を得ることができる。
（１）ワークに形成されるパターンの数が、マスクに形成されたパターンの数で割り切れないような場合であっても、本来使用を想定した個数のアライメントマークを使用して位置合せをし、露光することができる。
（２）余った領域を露光する際にも、アライメント顕微鏡の位置を変更することなくマスクとワークの位置合わせができるので、位置合わせの際にアライメント顕微鏡を移動させる操作などが不要であり、装置の構成や制御が複雑となることがない。
（３）露光手順を適切に選定すれば、同じ露光回数のワーク・アライメントマークの組合わせを使用して位置合わせを行うことができるので、ワーク・アライメントマークを検出しにくくなるといった問題は生じない。
（１）ワークに形成されるパターンの数が、マスクに形成されたパターンの数で割り切れないような場合であっても、本来使用を想定した個数のアライメントマークを使用して位置合せをし、露光することができる。
（２）余った領域を露光する際にも、アライメント顕微鏡の位置を変更することなくマスクとワークの位置合わせができるので、位置合わせの際にアライメント顕微鏡を移動させる操作などが不要であり、装置の構成や制御が複雑となることがない。
（３）露光手順を適切に選定すれば、同じ露光回数のワーク・アライメントマークの組合わせを使用して位置合わせを行うことができるので、ワーク・アライメントマークを検出しにくくなるといった問題は生じない。
図１は本発明の実施例の露光装置の構成を示す図である。
図１において、１は露光光を照射する光照射部であり、紫外線を含む光を放射するランプ１ａと、ランプ１ａの光を集光する反射鏡１ｂを備えている。
３はマスクステージであり、マスクステージ３にはマスクＭが載置される。マスクＭには、前記したように複数の同一パターンが形成され、各パターンの四隅に位置合せのためのマスクマークが形成されている。
また、マスクＭと光照射部１の間であってマスクＭの近傍には、マスクＭの一部を遮光するためのマスキングブレード６が設けられている。マスキングブレード６は、２乃至４枚の遮光板から構成され、マスキングブレード制御部１４により制御され、同図左右方向、同図垂直方向に移動可能であり、マスク上の一部の領域に露光光が照射されないように遮光する。同図では、同図の左右方向に移動するマスキングブレード６（Ａ，Ｂ）と、同図の垂直方向に移動するマスキングブレード６（Ｃ）が示されている。
なお、マスキングブレードとは、パターンを形成したマスクの光入射側に挿入する遮光部材のことであり、マスクに複数のパターンが形成されている場合、必要なパターンのみをワークに露光するために、露光装置においては一般的に用いられる。
マスキングブレードを用いた先行技術として、例えば特許文献３のマスキングブレード２２や特許文献４の遮光板５などがある。
光照射部１から照射される光は、マスクＭ上に照射され、マスクＭ上に設けられたマスクパターンは、投影レンズ４を介してワークステージ５上のワークＷに投影される。
図１において、１は露光光を照射する光照射部であり、紫外線を含む光を放射するランプ１ａと、ランプ１ａの光を集光する反射鏡１ｂを備えている。
３はマスクステージであり、マスクステージ３にはマスクＭが載置される。マスクＭには、前記したように複数の同一パターンが形成され、各パターンの四隅に位置合せのためのマスクマークが形成されている。
また、マスクＭと光照射部１の間であってマスクＭの近傍には、マスクＭの一部を遮光するためのマスキングブレード６が設けられている。マスキングブレード６は、２乃至４枚の遮光板から構成され、マスキングブレード制御部１４により制御され、同図左右方向、同図垂直方向に移動可能であり、マスク上の一部の領域に露光光が照射されないように遮光する。同図では、同図の左右方向に移動するマスキングブレード６（Ａ，Ｂ）と、同図の垂直方向に移動するマスキングブレード６（Ｃ）が示されている。
なお、マスキングブレードとは、パターンを形成したマスクの光入射側に挿入する遮光部材のことであり、マスクに複数のパターンが形成されている場合、必要なパターンのみをワークに露光するために、露光装置においては一般的に用いられる。
マスキングブレードを用いた先行技術として、例えば特許文献３のマスキングブレード２２や特許文献４の遮光板５などがある。
光照射部１から照射される光は、マスクＭ上に照射され、マスクＭ上に設けられたマスクパターンは、投影レンズ４を介してワークステージ５上のワークＷに投影される。
投影レンズ４とワークＷの間にはアライメント顕微鏡２が設けられており、アライメント顕微鏡２により、マスクマークとワークＷのワークマークを検出し、前記したようにマスクマークとワークマークが一致するようにワークステージ５を移動させてマスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
アライメント顕微鏡２は、２乃至４台設けられ、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークと、それに対応したワークＷ上の２乃至４個のワークマークを検出する。アライメント顕微鏡２は、同図矢印方向に退避可能に構成されている。
アライメント顕微鏡２の画像センサＳで受像されたマスクマーク像とワークマーク像は、画像処理部１１に送られ、画像処理部１１でマスクマーク像とワークマーク像の位置を検出する。画像処理部１１で検出された位置データは制御部１２に送られ、制御部１２はマスクマークとワークマークの位置が所定の位置関係になるように、例えば一致するように、ワークステージ制御部１３によりワークステージ５を移動させる。
また制御部１２は、マスクＭに形成されたパターンをワーク上に露光する際、予め設定された手順でワークステージ５を移動させるとともに、マスキングブレード制御部１４によりマスキングブレード６を駆動して、マスクＭに形成された複数の同一パターンのうちの一部のパターンを遮光する。
アライメント顕微鏡２は、２乃至４台設けられ、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークと、それに対応したワークＷ上の２乃至４個のワークマークを検出する。アライメント顕微鏡２は、同図矢印方向に退避可能に構成されている。
アライメント顕微鏡２の画像センサＳで受像されたマスクマーク像とワークマーク像は、画像処理部１１に送られ、画像処理部１１でマスクマーク像とワークマーク像の位置を検出する。画像処理部１１で検出された位置データは制御部１２に送られ、制御部１２はマスクマークとワークマークの位置が所定の位置関係になるように、例えば一致するように、ワークステージ制御部１３によりワークステージ５を移動させる。
また制御部１２は、マスクＭに形成されたパターンをワーク上に露光する際、予め設定された手順でワークステージ５を移動させるとともに、マスキングブレード制御部１４によりマスキングブレード６を駆動して、マスクＭに形成された複数の同一パターンのうちの一部のパターンを遮光する。
図２は、マスキングブレード６の移動機構の構成例を示す図である。同図（ａ）は光照射部１側からマスキングブレード６とマスクＭを見た図、同図（ｂ）はマスク面に平行な方向からマスキングブレード６とマスクＭ、マスクステージ３を見た図を示している。
なお、図２では、分かり易くするため２枚のマスキングブレードＡ，Ｂのみを示しているが、４枚のマスキングブレードを用いる場合には、同図（ａ）に示したものを、もう一組用意し、９０°回転させて重ねて配置する。
図２に示すようにマスキングブレードＡ，Ｂの一方端には、ガイド２１に沿って移動する移動子２１ａが取り付けられマスキングブレードＡ，Ｂは、ガイド２１に沿って同図の矢印方向に移動可能に構成されている。
上記ガイド２１にリニアモータなどの駆動機構を設けることで、マスキングブレードＡ，Ｂをガイド２１に沿って移動させ、マスクＭ上の任意の位置に位置決めすることができる。
なお、図２では、分かり易くするため２枚のマスキングブレードＡ，Ｂのみを示しているが、４枚のマスキングブレードを用いる場合には、同図（ａ）に示したものを、もう一組用意し、９０°回転させて重ねて配置する。
図２に示すようにマスキングブレードＡ，Ｂの一方端には、ガイド２１に沿って移動する移動子２１ａが取り付けられマスキングブレードＡ，Ｂは、ガイド２１に沿って同図の矢印方向に移動可能に構成されている。
上記ガイド２１にリニアモータなどの駆動機構を設けることで、マスキングブレードＡ，Ｂをガイド２１に沿って移動させ、マスクＭ上の任意の位置に位置決めすることができる。
図３は上記マスキングブレード６の配置例を示す図である。図３（ａ）は、Ｘ方向に移動する２枚のマスキングブレードＡ，Ｂと、Ｙ方向に移動する２枚のマスキングブレードＣ，Ｄを設けた場合を示しており、このようにマスキングブレードを配置することで、マスクＭ上に形成されたパターンを同図の左右方向から、および、上下方向から遮光することができる。
図３（ｂ）は、Ｘ方向に移動する１枚のマスキングブレードＡと、Ｙ方向に移動する１枚のマスキングブレードＣを設けた場合を示しており、このようにマスキングブレードを配置することで、マスクＭ上に形成されたパターンを同図の左方向から、および、上方向から遮光することができる。
図３（ｃ）は図３（ｂ）と同様に、Ｘ方向に移動する１枚のマスキングブレードＡと、Ｙ方向に移動する１枚のマスキングブレードＣを設けた場合であるが、この例では、マスキングブレードＡのエッジａ１，ａ２、マスキングブレードＣのエッジｃ１，ｃ２を利用してマスクＭ上のパターンを遮光するように構成されている。
例えば、マスキングブレードＡを位置Ｍ１に位置決めすることで、エッジａ１により、マスクＭ上のパターンを同図の左側から遮光することができ、位置Ｍ２に位置決めすることで、エッジａ２によりマスクＭ上のパターンを同図の左側から遮光することができる。同様に、マスキングブレードＣを位置Ｍ１に位置決めすることで、エッジｃ１により、マスクＭ上のパターンを同図の上側から遮光することができ、位置Ｍ２に位置決めすることで、エッジｃ２によりマスクＭ上のパターンを同図の下側から遮光することができる。
図３（ｂ）は、Ｘ方向に移動する１枚のマスキングブレードＡと、Ｙ方向に移動する１枚のマスキングブレードＣを設けた場合を示しており、このようにマスキングブレードを配置することで、マスクＭ上に形成されたパターンを同図の左方向から、および、上方向から遮光することができる。
図３（ｃ）は図３（ｂ）と同様に、Ｘ方向に移動する１枚のマスキングブレードＡと、Ｙ方向に移動する１枚のマスキングブレードＣを設けた場合であるが、この例では、マスキングブレードＡのエッジａ１，ａ２、マスキングブレードＣのエッジｃ１，ｃ２を利用してマスクＭ上のパターンを遮光するように構成されている。
例えば、マスキングブレードＡを位置Ｍ１に位置決めすることで、エッジａ１により、マスクＭ上のパターンを同図の左側から遮光することができ、位置Ｍ２に位置決めすることで、エッジａ２によりマスクＭ上のパターンを同図の左側から遮光することができる。同様に、マスキングブレードＣを位置Ｍ１に位置決めすることで、エッジｃ１により、マスクＭ上のパターンを同図の上側から遮光することができ、位置Ｍ２に位置決めすることで、エッジｃ２によりマスクＭ上のパターンを同図の下側から遮光することができる。
図４は本発明の第１の実施例のマスクＭ上のパターン配置、ワークＷ上の露光領域を示す図、図５はマスクパターンをワーク上に露光する際の位置合わせを説明する図である。 図４（ａ）に示すように、マスクＭ上には３行×３列の合計９のパターンＰが形成され、各パターンの四隅には、マスクマークＭＡＭが設けられている。
上記マスクパターンＰがワークＷ上に露光されるが、ワークＷには図４（ｂ）に示すように７行×５列の合計３５のパターンが形成されるようにレイアウトされている。なお、ワークＷには、事前にあるいは前回の露光により、各パターンの四隅に相当する位置にワークマークＷＡＭが形成されている。
ワークＷに何種類かのマスクパターンを必要回数、重ねて露光し、露光が終了した後、ワークＷを各パターン毎に切り離すことにより、図４（ｃ）に示す製品が得られる。
上記マスクパターンＰがワークＷ上に露光されるが、ワークＷには図４（ｂ）に示すように７行×５列の合計３５のパターンが形成されるようにレイアウトされている。なお、ワークＷには、事前にあるいは前回の露光により、各パターンの四隅に相当する位置にワークマークＷＡＭが形成されている。
ワークＷに何種類かのマスクパターンを必要回数、重ねて露光し、露光が終了した後、ワークＷを各パターン毎に切り離すことにより、図４（ｃ）に示す製品が得られる。
上記マスクＭとワークＷの位置合わせには、前記したように、マスクＭの四隅に記されたマスクマークＭＡＭ（同図の黒丸で示している）と、ワークＷ上の対応するワークマークＷＡＭ（同図の黒丸で示している）を使用する。
図５に示すように、マスクＭと、ワークＷの間に４台のアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄを挿入し、上記黒丸で示したマスクマーク像とワークマーク像の位置を検出し、マスクマークとワークマークの位置が一致するように、ワークＷを移動させる。
上記位置合わせが終了すると、前記したように、光照射部１から光を照射して、マスクパターンをワークＷ上に露光する。その際、必要に応じて、マスキングブレード６でマスクＭ上の所定のパターンを遮光する。
上記領域の露光が終了すると、ワークＷを移動させて、ワークＷ上の次の領域について、上記と同様に位置合わせを行い、必要に応じて、マスキングブレード６でマスクＭ上の所定のパターンを遮光してマスクパターンをワークＷ上に露光する。以下、この動作を繰り返すことで、ワークＷ上に７行×５列のパターンを露光する。
図５に示すように、マスクＭと、ワークＷの間に４台のアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄを挿入し、上記黒丸で示したマスクマーク像とワークマーク像の位置を検出し、マスクマークとワークマークの位置が一致するように、ワークＷを移動させる。
上記位置合わせが終了すると、前記したように、光照射部１から光を照射して、マスクパターンをワークＷ上に露光する。その際、必要に応じて、マスキングブレード６でマスクＭ上の所定のパターンを遮光する。
上記領域の露光が終了すると、ワークＷを移動させて、ワークＷ上の次の領域について、上記と同様に位置合わせを行い、必要に応じて、マスキングブレード６でマスクＭ上の所定のパターンを遮光してマスクパターンをワークＷ上に露光する。以下、この動作を繰り返すことで、ワークＷ上に７行×５列のパターンを露光する。
次に図６により、図４に示したマスクパターンのワーク上への露光手順（１）について説明する。この露光手順は、図３（ａ）に示すように４枚のマスキングブレードを使用し、４枚のマスキングブレードによりマスクＭ上の必要箇所のパターンを遮光して、露光する場合の手順を示している。
なお、以下ではワークＷ上の各パターンＰが露光される各領域を、パターン領域といい、各パターン領域を図６に示すワークＷの 上側および左側に付した行、列の番号で特定する。例えば左上端の１行目−１列目のパターン領域をＰ１１、１行目−２列目のパターン領域をＰ１２、２行目−１列目のパターン領域をＰ２１、以下同様に、７行目−５列目のパターン領域をＰ７５と呼ぶ。
なお、以下ではワークＷ上の各パターンＰが露光される各領域を、パターン領域といい、各パターン領域を図６に示すワークＷの 上側および左側に付した行、列の番号で特定する。例えば左上端の１行目−１列目のパターン領域をＰ１１、１行目−２列目のパターン領域をＰ１２、２行目−１列目のパターン領域をＰ２１、以下同様に、７行目−５列目のパターン領域をＰ７５と呼ぶ。
（ａ）図６（ａ）に示すように、まずワークＷ上のパターン領域Ｐ１１〜Ｐ３２にマスクＭに形成されたパターンＰを露光する。
このため、マスキングブレード６を挿入しない状態で、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭ（図４の黒丸で示したマスクマーク）と、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭ（この場合は、ワークＷのパターン領域Ｐ１１の左上角、パターン領域Ｐ３１の左下角、パターン領域Ｐ１３の右上角、パターン領域Ｐ３３の右下角のワークマーク) をアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。なお、この時には光照射部１から露光光は照射されていない。
次に、図６（ａ）に示すように、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないように、図３（ａ）のマスキングブレードＢでマスクＭに形成されたパターンの一部を遮光し、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ３１，Ｐ３２を露光する。
このため、マスキングブレード６を挿入しない状態で、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭ（図４の黒丸で示したマスクマーク）と、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭ（この場合は、ワークＷのパターン領域Ｐ１１の左上角、パターン領域Ｐ３１の左下角、パターン領域Ｐ１３の右上角、パターン領域Ｐ３３の右下角のワークマーク) をアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。なお、この時には光照射部１から露光光は照射されていない。
次に、図６（ａ）に示すように、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないように、図３（ａ）のマスキングブレードＢでマスクＭに形成されたパターンの一部を遮光し、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ３１，Ｐ３２を露光する。
（ｂ）図６（ｂ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭ（図４の黒丸で示したマスクマーク）と、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマーク（この場合は、ワークＷのパターン領域Ｐ１３の左上角、パターン領域Ｐ３３の左下角、パターン領域Ｐ１５の右上角、パターン領域Ｐ３５の右下角のワークマーク) をアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図６（ｂ）に示すように、マスキングブレードＡ〜Ｄで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１３〜Ｐ１５，Ｐ２３〜Ｐ２５，Ｐ３３〜Ｐ３５を露光する。
ここで、（ａ）の露光時、パターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３はマスキングブレードにより遮光されているので、このパターン領域が二重に露光されることはない。
次に、図６（ｂ）に示すように、マスキングブレードＡ〜Ｄで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１３〜Ｐ１５，Ｐ２３〜Ｐ２５，Ｐ３３〜Ｐ３５を露光する。
ここで、（ａ）の露光時、パターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３はマスキングブレードにより遮光されているので、このパターン領域が二重に露光されることはない。
また、（ａ）の露光時、上記パターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３が露光されていないので、（ａ）の露光前に形成されていたパターン領域Ｐ１３の左上角、パターン領域Ｐ３３の左下角のワークマークと、パターン領域Ｐ１５の右上角、パターン領域Ｐ３５の右下角のワークマークを使用して（ｂ）の露光時の位置合わせを行うことができる。
レジストは露光されると変色し、露光前と露光後では、アライメント顕微鏡によるワークマークの見え方が変わってくるため、露光回数の異なるワークマークの組を使用した位置合わせは、露光回数の同じワークマークの組を使用した場合より難しくなる。
上記（ａ）のように、まずマスキングブレードで、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないようにして露光し、ついで、（ｂ）で（ａ）で露光されていないパターン領域Ｐ１３，Ｐ３３のワークマークと、これから露光するパターン領域であるＰ１５、Ｐ３５のワークマークを使用して位置合わせを行うことで、上記のように露光回数の異なるワークマークの組を使用することによる問題を回避することができる。
レジストは露光されると変色し、露光前と露光後では、アライメント顕微鏡によるワークマークの見え方が変わってくるため、露光回数の異なるワークマークの組を使用した位置合わせは、露光回数の同じワークマークの組を使用した場合より難しくなる。
上記（ａ）のように、まずマスキングブレードで、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないようにして露光し、ついで、（ｂ）で（ａ）で露光されていないパターン領域Ｐ１３，Ｐ３３のワークマークと、これから露光するパターン領域であるＰ１５、Ｐ３５のワークマークを使用して位置合わせを行うことで、上記のように露光回数の異なるワークマークの組を使用することによる問題を回避することができる。
（ｃ）図６（ｃ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの３行分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図６（ｃ）に示すように、マスキングブレードＡ，ＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４４，Ｐ４５を露光する。
（ｄ）図６（ｄ）に示すように、ワークＷを同図において右方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図６（ｄ）に示すように、マスキングブレードＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４１，Ｐ４２，Ｐ４３を露光する。
次に、図６（ｃ）に示すように、マスキングブレードＡ，ＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４４，Ｐ４５を露光する。
（ｄ）図６（ｄ）に示すように、ワークＷを同図において右方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図６（ｄ）に示すように、マスキングブレードＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４１，Ｐ４２，Ｐ４３を露光する。
（ｅ）図６（ｅ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの１行分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図６（ｅ）に示すように、マスキングブレードＢでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ５１，Ｐ５２，Ｐ６１，Ｐ６２，Ｐ７１，Ｐ７２を露光する。
（ｆ）図６（ｆ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図６（ｆ）に示すように、マスキングブレードで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、残りのパターン領域Ｐ５３，Ｐ５４，Ｐ５５，Ｐ６３，Ｐ６４，Ｐ６５，Ｐ７３，Ｐ７４，Ｐ７５を露光する。以上で全ての領域の露光が終了する。
なお、上記では図３（ａ）に示した４枚のマスキングブレードを使用して、遮光する場合について説明したが、前記図３（ｃ）に示した２枚のマスキングブレードを用い、両側のエッジを用いて遮光するようにしてもよい。
次に、図６（ｅ）に示すように、マスキングブレードＢでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ５１，Ｐ５２，Ｐ６１，Ｐ６２，Ｐ７１，Ｐ７２を露光する。
（ｆ）図６（ｆ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図６（ｆ）に示すように、マスキングブレードで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、残りのパターン領域Ｐ５３，Ｐ５４，Ｐ５５，Ｐ６３，Ｐ６４，Ｐ６５，Ｐ７３，Ｐ７４，Ｐ７５を露光する。以上で全ての領域の露光が終了する。
なお、上記では図３（ａ）に示した４枚のマスキングブレードを使用して、遮光する場合について説明したが、前記図３（ｃ）に示した２枚のマスキングブレードを用い、両側のエッジを用いて遮光するようにしてもよい。
次に図７により、図４に示したマスクパターンのワーク上への露光手順（２）について説明する。この露光手順は、図３（ｂ）に示すように２枚のマスキングブレードを使用し（この例では、マスキングブレードＢ，Ｄの２枚を使用）、マスクＭ上の必要箇所のパターンを遮光して、露光する場合の手順を示している。
（ａ）図７（ａ）に示すように、まずワークＷ上のパターン領域Ｐ１１〜Ｐ３２にマスクＭに形成されたパターンＰを露光する。
すなわち、上記露光手順（１）と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ａ）に示すように、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないように、マスキングブレードＢでマスクＭに形成されたパターンの一部を遮光し、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ３１，Ｐ３２を露光する。
（ａ）図７（ａ）に示すように、まずワークＷ上のパターン領域Ｐ１１〜Ｐ３２にマスクＭに形成されたパターンＰを露光する。
すなわち、上記露光手順（１）と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ａ）に示すように、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないように、マスキングブレードＢでマスクＭに形成されたパターンの一部を遮光し、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ３１，Ｐ３２を露光する。
（ｂ）図７（ｂ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークＷＡＭをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ｂ）に示すように、マスキングブレードＡ〜Ｄで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１３〜Ｐ１５，Ｐ２３〜Ｐ２５，Ｐ３３〜Ｐ３５を露光する。ここまでの手順は、露光手順（１）と同じである。
（ｃ）図７（ｃ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの３行分移動し、さらに右方向に２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ｃ）に示すように、マスキングブレードＢ，ＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４１，Ｐ４２を露光する。
次に、図７（ｂ）に示すように、マスキングブレードＡ〜Ｄで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１３〜Ｐ１５，Ｐ２３〜Ｐ２５，Ｐ３３〜Ｐ３５を露光する。ここまでの手順は、露光手順（１）と同じである。
（ｃ）図７（ｃ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの３行分移動し、さらに右方向に２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ｃ）に示すように、マスキングブレードＢ，ＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４１，Ｐ４２を露光する。
（ｄ）図７（ｄ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ｄ）に示すように、マスキングブレードＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４３，Ｐ４４，Ｐ４５を露光する。
（ｅ）図７（ｅ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの１行分移動し、さら右方向に２列分移動させる。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ｅ）に示すように、マスキングブレードＢでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ５１，Ｐ５２，Ｐ６１，Ｐ６２，Ｐ７１，Ｐ７２を露光する。
次に、図７（ｄ）に示すように、マスキングブレードＤでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４３，Ｐ４４，Ｐ４５を露光する。
（ｅ）図７（ｅ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの１行分移動し、さら右方向に２列分移動させる。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ｅ）に示すように、マスキングブレードＢでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ５１，Ｐ５２，Ｐ６１，Ｐ６２，Ｐ７１，Ｐ７２を露光する。
（ｆ）図７（ｆ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図７（ｆ）に示すように、マスキングブレードで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、残りのパターン領域Ｐ５３，Ｐ５４，Ｐ５５，Ｐ６３，Ｐ６４，Ｐ６５，Ｐ７３，Ｐ７４，Ｐ７５を露光する。
以上で全ての領域の露光が終了する。
上記露光手順（２）によれば、露光手順（１）に比べ、次の領域に移動する際のワークＷの移動量は大きくなるが、２枚のマスキングブレードを用いて、露光を行うことができる。また、露光手順（１）と同様、露光回数の同じワークマークを使用して位置合わせを行うことができる。
次に、図７（ｆ）に示すように、マスキングブレードで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、残りのパターン領域Ｐ５３，Ｐ５４，Ｐ５５，Ｐ６３，Ｐ６４，Ｐ６５，Ｐ７３，Ｐ７４，Ｐ７５を露光する。
以上で全ての領域の露光が終了する。
上記露光手順（２）によれば、露光手順（１）に比べ、次の領域に移動する際のワークＷの移動量は大きくなるが、２枚のマスキングブレードを用いて、露光を行うことができる。また、露光手順（１）と同様、露光回数の同じワークマークを使用して位置合わせを行うことができる。
上記露光手順（１）（２）では、露光回数の同じワークマークを使用して位置合わせをする場合について説明したが、露光回数の異なるワークマークであっても、アライメント顕微鏡による見え方がそれほど変わらず、位置合わせに支障がない場合には、露光回数の異なるワークマークを使用して位置合わせをすることができる。
次に図８により、上記のように露光回数の異なるワークマークを使用した露光について説明する。なお、この露光手順は、図３（ｂ）に示すように２枚のマスキングブレードを使用して（この例では、マスキングブレードＡ，Ｃの２枚を使用）、露光する場合の手順を示している。
（ａ）図８（ａ）に示すように、まずワークＷ上のパターン領域Ｐ１１〜Ｐ３３にマスクＭに形成されたパターンＰを露光する。
すなわち、前記したようにマスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ａ）に示すように、マスキングブレードＡ，Ｃで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２３，Ｐ３１，Ｐ３２，Ｐ３３を露光する。
次に図８により、上記のように露光回数の異なるワークマークを使用した露光について説明する。なお、この露光手順は、図３（ｂ）に示すように２枚のマスキングブレードを使用して（この例では、マスキングブレードＡ，Ｃの２枚を使用）、露光する場合の手順を示している。
（ａ）図８（ａ）に示すように、まずワークＷ上のパターン領域Ｐ１１〜Ｐ３３にマスクＭに形成されたパターンＰを露光する。
すなわち、前記したようにマスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ａ）に示すように、マスキングブレードＡ，Ｃで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２３，Ｐ３１，Ｐ３２，Ｐ３３を露光する。
（ｂ）図８（ｂ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
ここで、上記（ａ）でワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３は露光済みなので、パターン領域Ｐ１３の左上角のワークマーク、パターン領域Ｐ３３の左下角のワークマークと、ワークＷのパターン領域Ｐ１５の右上角のワークマーク、パターン領域Ｐ３５の右下角のワークマークは露光回数が異なるが、ここでは、位置合わせに支障がないとして、露光回数の異なるワークマークを使用して位置合わせを行っている。
次に、図８（ｂ）に示すように、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないように、マスキングブレードＡでマスクＭに形成されたパターンの一部を遮光し、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１４〜Ｐ１５，Ｐ２４〜Ｐ２５，Ｐ３４〜Ｐ３５を露光する。
（ｃ）図８（ｃ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの３行分移動し、さらに右方向に２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ｃ）に示すように、マスキングブレードＡ，Ｃで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４１〜Ｐ４３，Ｐ５１〜Ｐ５３，Ｐ６１〜Ｐ６３を露光する。
ここで、上記（ａ）でワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３は露光済みなので、パターン領域Ｐ１３の左上角のワークマーク、パターン領域Ｐ３３の左下角のワークマークと、ワークＷのパターン領域Ｐ１５の右上角のワークマーク、パターン領域Ｐ３５の右下角のワークマークは露光回数が異なるが、ここでは、位置合わせに支障がないとして、露光回数の異なるワークマークを使用して位置合わせを行っている。
次に、図８（ｂ）に示すように、ワークＷのパターン領域Ｐ１３，Ｐ２３，Ｐ３３にマスクＭを介した光が照射されないように、マスキングブレードＡでマスクＭに形成されたパターンの一部を遮光し、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ１４〜Ｐ１５，Ｐ２４〜Ｐ２５，Ｐ３４〜Ｐ３５を露光する。
（ｃ）図８（ｃ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの３行分移動し、さらに右方向に２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ｃ）に示すように、マスキングブレードＡ，Ｃで遮光せずに、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４１〜Ｐ４３，Ｐ５１〜Ｐ５３，Ｐ６１〜Ｐ６３を露光する。
（ｄ）図８（ｄ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ｄ）に示すように、マスキングブレードＡでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４４，Ｐ４５，Ｐ５４，Ｐ５５，Ｐ６４，Ｐ６５を露光する。
（ｅ）図８（ｅ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの１行分移動し、さら右方向に２列分移動させる。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ｅ）に示すように、マスキングブレードＣでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ７１，Ｐ７２，Ｐ７３を露光する。
次に、図８（ｄ）に示すように、マスキングブレードＡでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ４４，Ｐ４５，Ｐ５４，Ｐ５５，Ｐ６４，Ｐ６５を露光する。
（ｅ）図８（ｅ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの１行分移動し、さら右方向に２列分移動させる。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ｅ）に示すように、マスキングブレードＣでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ７１，Ｐ７２，Ｐ７３を露光する。
（ｆ）図８（ｆ）に示すように、ワークＷを同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。上記と同様に、マスクＭの四隅に設けられたマスクマークＭＡＭと、ワークＷ上の対応する位置に形成されたワークマークをアライメント顕微鏡２ａ〜２ｄで検出し、マスクＭとワークＷの位置合わせを行う。
次に、図８（ｆ）に示すように、マスキングブレードＣでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ７４，Ｐ７５を露光する。以上で全ての領域の露光が終了する。
上記露光手順（３）では、露光回数の異なるワークマークであっても、位置合わせに支障がないとして、露光回数の異なるワークマークの組合せを使用して位置合わせをしているので、露光の手順を前記露光手順（１）（２）に比べ、自由に選定することができる。
次に、図８（ｆ）に示すように、マスキングブレードＣでマスクパターンＰの一部を遮光して、光照射部１から光を照射して、ワークＷのパターン領域Ｐ７４，Ｐ７５を露光する。以上で全ての領域の露光が終了する。
上記露光手順（３）では、露光回数の異なるワークマークであっても、位置合わせに支障がないとして、露光回数の異なるワークマークの組合せを使用して位置合わせをしているので、露光の手順を前記露光手順（１）（２）に比べ、自由に選定することができる。
図９は本発明の第２の実施例の逐次露光装置の概略構成図である。
本実施例のマスクＭには２列の同一パターンＰが形成されており、２列の各パターンＰの両側には、位置合せのためのマスクマークＭＡＭ１とＭＡＭ２及びＭＡＭ３とＭＡＭ４が形成されている。
また、露光を行なうワークＷには、２行×５列（ 1列が余っている）の同一パターンが形成されるようレイアウトされ、マスクマークＭＡＭ１とＭＡＭ２に対応するように、あらかじめワークマークＷＡＭ１とＷＡＭ２及びＷＡＭ３とＷＡＭ４・・・が形成されている。
ワークＷにマスクパターンＰを露光するにあたり、前記したように、マスクＭとワークＷの位置合せが行なわれる。
露光領域内にマスクマークとワークマークを検出するためのアライメント顕微鏡２ａ，２ｂが挿入され、アライメント顕微鏡２ａ，２ｂにより、マスクＭの両側に形成されたマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ４（同図では黒丸で示している）とマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ４に対応するワークＷ上に形成されたワークマークＷＡＭ１，ＷＡＭ４（同図では黒丸で示している）の像が、アライメント顕微鏡２ａ，２ｂの画像センサＳで受像される。なお、図９では、前記図１に示した投影レンズは省略されている。
受像したマスクマーク像と、ワークマーク像は画像処理部１１に送られ、画像処理部１１でマスクマーク像とワークマーク像の位置を検出する。画像処理部１１で検出された位置データは制御部１２に送られ、制御部１２はマスクマークとワークマークの位置が一致するように、ワークステージ制御部１３によりワークステージ（図示せず）を駆動して、ワークＷを移動させる。
本実施例のマスクＭには２列の同一パターンＰが形成されており、２列の各パターンＰの両側には、位置合せのためのマスクマークＭＡＭ１とＭＡＭ２及びＭＡＭ３とＭＡＭ４が形成されている。
また、露光を行なうワークＷには、２行×５列（ 1列が余っている）の同一パターンが形成されるようレイアウトされ、マスクマークＭＡＭ１とＭＡＭ２に対応するように、あらかじめワークマークＷＡＭ１とＷＡＭ２及びＷＡＭ３とＷＡＭ４・・・が形成されている。
ワークＷにマスクパターンＰを露光するにあたり、前記したように、マスクＭとワークＷの位置合せが行なわれる。
露光領域内にマスクマークとワークマークを検出するためのアライメント顕微鏡２ａ，２ｂが挿入され、アライメント顕微鏡２ａ，２ｂにより、マスクＭの両側に形成されたマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ４（同図では黒丸で示している）とマスクマークＭＡＭ１，ＭＡＭ４に対応するワークＷ上に形成されたワークマークＷＡＭ１，ＷＡＭ４（同図では黒丸で示している）の像が、アライメント顕微鏡２ａ，２ｂの画像センサＳで受像される。なお、図９では、前記図１に示した投影レンズは省略されている。
受像したマスクマーク像と、ワークマーク像は画像処理部１１に送られ、画像処理部１１でマスクマーク像とワークマーク像の位置を検出する。画像処理部１１で検出された位置データは制御部１２に送られ、制御部１２はマスクマークとワークマークの位置が一致するように、ワークステージ制御部１３によりワークステージ（図示せず）を駆動して、ワークＷを移動させる。
マスクとワークの位置合せが済むと、アライメント顕微鏡２ａ，２ｂが退避し、光照射部１からマスクＭに露光光を含む光が照射され、マスクＭに形成された２列の同一パターンＰが、ワークＷに投影され、ワークＷ上にはマスクＭに形成された２個のパターンＰがまとめて露光される。
マスクＭに形成されたパターンをワークＷ上に露光する際、制御部１２は予め設定された手順で、ワークＷを移動させるとともに、必要に応じてマスキングブレード制御部１４によりマスキングブレード６ａ，６ｂを駆動して、マスクＭに形成された２つの同一パターンＰのうちの一方のパターンを遮光する。
以下同様に、ワークＷを次の領域に移動させながら、上記手順を繰り返しマスクＭのパターンＰをワークＷ上に露光する。
マスクＭに形成されたパターンをワークＷ上に露光する際、制御部１２は予め設定された手順で、ワークＷを移動させるとともに、必要に応じてマスキングブレード制御部１４によりマスキングブレード６ａ，６ｂを駆動して、マスクＭに形成された２つの同一パターンＰのうちの一方のパターンを遮光する。
以下同様に、ワークＷを次の領域に移動させながら、上記手順を繰り返しマスクＭのパターンＰをワークＷ上に露光する。
図１０は、本実施例の露光手順（１）を示す図であり、図１０により本実施例の露光手順について説明する。この露光手順では、２枚のマスキングブレード６ａ，６ｂの内、マスキングブレード６ｂのみ使用している。
（ａ）マスクＭの両側に形成されたマスクマークＭＡＭ１、ＭＡＭ４とワークＷ上のワークマークＷＡＭ１、ＷＡＭ４をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
そして、光照射部１から光を照射して、ワークＷ上に、図１０（ａ）に示すように、マスクＭに形成された同一の２つのパターンＰを同時にワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２に露光する。
（ａ）マスクＭの両側に形成されたマスクマークＭＡＭ１、ＭＡＭ４とワークＷ上のワークマークＷＡＭ１、ＷＡＭ４をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
そして、光照射部１から光を照射して、ワークＷ上に、図１０（ａ）に示すように、マスクＭに形成された同一の２つのパターンＰを同時にワークＷのパターン領域Ｐ１１，Ｐ１２に露光する。
（ｂ）図１０（ｂ）に示すようにワークＷを、同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。マスクマークＭＡＭ１とワークマークＷＡＭ５、マスクマークＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ８をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出しマスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
次に、図１０（ｂ）に示すようにマスキングブレード６ｂを挿入し、ワークＷ上のパターン領域Ｐ４に対応するマスクパターンを遮光し、ワーク上のパターン領域Ｐ１３のみを露光する。
（ｃ）図１０（ｃ）に示すように、ワークを同図において、左方向にパターンＰの１列分だけ移動する。マスクマークＭＡＭ１とワークマークＷＡＭ７，マスクマークＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１０をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。そして、図１０（ｃ）に示すようにワークＷ上のパターン領域Ｐ１４とＰ１５を露光する。
ここで、（ｂ）の露光時、パターン領域Ｐ４はマスキングブレードにより遮光されているので、パターン領域Ｐ１４が二重に露光されることはない。
また、（ｂ）においてマスキングブレード６ｂで、ワークＷのパターン領域Ｐ１４に光が照射されないように遮光し、ついで、（ｃ）で露光されていないパターン領域Ｐ１４のワークマークＷＡＭ７と、これから露光するパターン領域であるＰ１５のワークマークＷＡＭ１０を使用して位置合わせを行っているので、露光回数の同一のワークマークの組を使用して位置合わせは行うことができる。
以上で１行目５列のパターンの露光が終わる。
次に、図１０（ｂ）に示すようにマスキングブレード６ｂを挿入し、ワークＷ上のパターン領域Ｐ４に対応するマスクパターンを遮光し、ワーク上のパターン領域Ｐ１３のみを露光する。
（ｃ）図１０（ｃ）に示すように、ワークを同図において、左方向にパターンＰの１列分だけ移動する。マスクマークＭＡＭ１とワークマークＷＡＭ７，マスクマークＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１０をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。そして、図１０（ｃ）に示すようにワークＷ上のパターン領域Ｐ１４とＰ１５を露光する。
ここで、（ｂ）の露光時、パターン領域Ｐ４はマスキングブレードにより遮光されているので、パターン領域Ｐ１４が二重に露光されることはない。
また、（ｂ）においてマスキングブレード６ｂで、ワークＷのパターン領域Ｐ１４に光が照射されないように遮光し、ついで、（ｃ）で露光されていないパターン領域Ｐ１４のワークマークＷＡＭ７と、これから露光するパターン領域であるＰ１５のワークマークＷＡＭ１０を使用して位置合わせを行っているので、露光回数の同一のワークマークの組を使用して位置合わせは行うことができる。
以上で１行目５列のパターンの露光が終わる。
（ｄ）続いて、2 行目のパターンの露光を行なう。
まず、図１０（ｄ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの1 行分移動させる。そして、図１０（ｄ）に示すように、１行目の露光と同様、ワークＷ上のパターン領域Ｐ２１とＰ２２の位置合せと露光を行う。
ついで、図１０（ｅ）に示すように、ワークＷを左方向に１列分移動させ、ワークＷ上のパターン領域Ｐ２３、Ｐ２４の位置合せを行い、マスキングブレード６ｂにより、パターン領域Ｐ２４が露光されないように遮光してのパターン領域Ｐ２３のみを露光する。
さらに、図１０（ｅ）に示すように、ワークＷを左方向に１列分移動させ、ワークＷ上のパターン領域Ｐ２４とＰ２５の位置合せを行いパターン領域Ｐ２４，Ｐ２５を露光する。
以上で、ワークＷ上に１０個のパターンＰが露光される。
まず、図１０（ｄ）に示すように、ワークＷを同図において上方向にパターンＰの1 行分移動させる。そして、図１０（ｄ）に示すように、１行目の露光と同様、ワークＷ上のパターン領域Ｐ２１とＰ２２の位置合せと露光を行う。
ついで、図１０（ｅ）に示すように、ワークＷを左方向に１列分移動させ、ワークＷ上のパターン領域Ｐ２３、Ｐ２４の位置合せを行い、マスキングブレード６ｂにより、パターン領域Ｐ２４が露光されないように遮光してのパターン領域Ｐ２３のみを露光する。
さらに、図１０（ｅ）に示すように、ワークＷを左方向に１列分移動させ、ワークＷ上のパターン領域Ｐ２４とＰ２５の位置合せを行いパターン領域Ｐ２４，Ｐ２５を露光する。
以上で、ワークＷ上に１０個のパターンＰが露光される。
上記露光手順によれば、露光回数の同一のワークマークの組を使用して位置合わせを行うことができるが、露光回数の異なるワークマークであっても、アライメント顕微鏡による見え方がそれほど変わらず、位置合わせに支障がない場合には、以下の露光手順に示すように、露光回数の異なるワークマークを使用して位置合わせをすることができる。
次に図１１により、上記のように露光回数の異なるワークマークを使用した露光手順（２）について説明する。なお、この露光手順では、マスキングブレード２ａのみを使用する。
（ａ）マスクＭの両側に形成されたマスクマークＭＡＭ１、ＭＡＭ４とワークＷ上のワークマークＷＡＭ１、ＷＡＭ４をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
そして、光照射部１から光を照射して、ワークＷ上に、図１１（ａ）に示すように、マスクＭに形成された同一の２つのパターンＰを同時に露光する。
次に図１１により、上記のように露光回数の異なるワークマークを使用した露光手順（２）について説明する。なお、この露光手順では、マスキングブレード２ａのみを使用する。
（ａ）マスクＭの両側に形成されたマスクマークＭＡＭ１、ＭＡＭ４とワークＷ上のワークマークＷＡＭ１、ＷＡＭ４をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
そして、光照射部１から光を照射して、ワークＷ上に、図１１（ａ）に示すように、マスクＭに形成された同一の２つのパターンＰを同時に露光する。
（ｂ）図１１（ｂ）に示すようにワークＷを、同図において左方向にパターンＰの２列分移動する。マスクマークＭＡＭ１とワークマークＷＡＭ５、マスクマークＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ８をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出しマスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
そして、図１１（ｂ）に示すようにワークＷ上のパターン領域Ｐ１３とＰ１４を露光する。
（ｃ）図１１（ｃ）に示すように、ワークＷを、同図において、左方向にパターンＰの１列分だけ移動する。マスクマークＭＡＭ１とワークマークＷＡＭ７，マスクマークＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１０をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
次に、図１１（ｃ）に示すように、マスキングブレード６ａにより、ワークＷ上のパターン領域Ｐ１４に対応するマスクパターンを遮光し、ワーク上のパターン領域Ｐ１５のみを露光する。
ここで、（ｃ）の露光時、パターン領域Ｐ１４はマスキングブレードにより遮光されているので、パターン領域Ｐ１４が二重に露光されることはない。
また、上記（ｂ）でワークＷのパターン領域Ｐ１４は露光済みなので、パターン領域Ｐ１４の左側のワークマークＷＡＭ７と、パターン領域Ｐ１５の右側のワークマークＷＡＭ１０とは露光回数が異なるが、ここでは、位置合わせに支障がないとして、露光回数の異なるワークマークを使用して位置合わせを行っている。
以上で１行目５列のパターンの露光が終わる。
（ｄ）続いて、上記と同様に、２行目のパターンの露光を行なうが、上記と同様なので説明を省略する。
そして、図１１（ｂ）に示すようにワークＷ上のパターン領域Ｐ１３とＰ１４を露光する。
（ｃ）図１１（ｃ）に示すように、ワークＷを、同図において、左方向にパターンＰの１列分だけ移動する。マスクマークＭＡＭ１とワークマークＷＡＭ７，マスクマークＭＡＭ４とワークマークＷＡＭ１０をアライメント顕微鏡２ａ，２ｂで検出し、マスクＭとワークＷの位置合せを行なう。
次に、図１１（ｃ）に示すように、マスキングブレード６ａにより、ワークＷ上のパターン領域Ｐ１４に対応するマスクパターンを遮光し、ワーク上のパターン領域Ｐ１５のみを露光する。
ここで、（ｃ）の露光時、パターン領域Ｐ１４はマスキングブレードにより遮光されているので、パターン領域Ｐ１４が二重に露光されることはない。
また、上記（ｂ）でワークＷのパターン領域Ｐ１４は露光済みなので、パターン領域Ｐ１４の左側のワークマークＷＡＭ７と、パターン領域Ｐ１５の右側のワークマークＷＡＭ１０とは露光回数が異なるが、ここでは、位置合わせに支障がないとして、露光回数の異なるワークマークを使用して位置合わせを行っている。
以上で１行目５列のパターンの露光が終わる。
（ｄ）続いて、上記と同様に、２行目のパターンの露光を行なうが、上記と同様なので説明を省略する。
１ 光照射部
１ａ ランプ
１ｂ 反射鏡
２ａ〜２ｄ アライメント顕微鏡
３ マスクステージ
４ 投影レンズ
５ ワークステージ
６，６ａ，６ｂ マスキングブレード
１１ 画像処理部
１２ 制御部
１３ ワークステージ制御部
１４ マスキングブレード制御部
Ｍ マスク
Ｗ ワーク
１ａ ランプ
１ｂ 反射鏡
２ａ〜２ｄ アライメント顕微鏡
３ マスクステージ
４ 投影レンズ
５ ワークステージ
６，６ａ，６ｂ マスキングブレード
１１ 画像処理部
１２ 制御部
１３ ワークステージ制御部
１４ マスキングブレード制御部
Ｍ マスク
Ｗ ワーク
Claims (1)
- マスクに複数の同一パターンと各パターンに対応してマスク・アライメントマークとが形成され、ワークとマスクを相対的に移動させ、ワークに対し上記複数の同一パターンを繰り返し露光する露光方法において、
繰り返し露光を行う際、上記マスク・アライメントマークとワークに形成されたワーク・アライメントマークとの位置合せを、同一位置に固定されたアライメント顕微鏡を用いて行ない、
マスクに形成された複数の同一パターンのうち少なくとも一つのマスク・アライメントマークに対応する上記位置合わせに使用したマスクパターンを、少なくとも１回遮光して露光する
ことを特徴とする露光方法。
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