JP2006102642A - 処理液塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板上の異物もしくは基板の一部が異物により盛り上がり状態になされた異常状態を検出する光学的な検出手段を具備した処理液塗布装置において、光の回析等により生ずる誤検出を低減させる。
【解決手段】基板１の幅方向に延びるスリット状吐出開口１１ｂを有する処理液供給ノズル１１とを相対的に移動させて基板１の表面に塗布する装置で、処理液供給ノズル１１の移動方向の前方に投光部３と受光部４が配置され、前記投光部３と受光部４を結ぶ光ビームの直進路５の上部を覆う光軸誘導体１３が具備され、この光軸誘導体１３は基板１との間でトンネル状の狭い直線状の空間を形成する。これにより、前記光軸誘導体１３は投光部３から受光部４を結ぶ直進路を通る光ビーム５を対象とした光透過形センサを構成し、光の回析により投光部３から受光部４を結ぶ直進路を迂回して受光部に至る光を効果的に減衰させることで、誤検出の発生を効果的に防止する。
【選択図】 図２

Description

この発明は、被処理基板に対して処理液を塗布する処理液塗布装置に関し、特にスリット状の吐出開口を有するノズルより前記処理液を吐出させることで、被処理基板に対して処理液を帯状に塗布するスリットコート式の処理液塗布装置に関する。

例えばＬＣＤの製造技術分野においては、ＬＣＤ基板上に形成された半導体層、絶縁体層、電極層等を選択的に所定のパターンにエッチングする工程が実行される。この場合、前記ＬＣＤ基板上にフォトレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィ技術が応用される。

前記したＬＣＤ基板上にフォトレジスト液を塗布する場合においては、溶剤に感光性樹脂を溶解してなるレジスト液を帯状に吐出するレジスト供給ノズルが採用され、方形状のＬＣＤ基板を前記ノズルによるレジスト液の吐出方向と直交する方向に相対的に平行移動させて塗布する方法が知られている。この場合、前記レジスト供給ノズルにはＬＣＤ基板の幅方向に延びる微小間隔を有するスリット状の吐出開口が備えられ、このスリット状の吐出開口から帯状に吐出されるレジスト液を基板の表面全体に供給してレジスト層を形成するようになされる。

この方法によれば、前記基板の一辺から他辺にわたってレジスト液を帯状に吐出（供給）することができるので、基板の全面にわたって平均してレジスト層を効率的に形成させることができる。このようなスリットコート式の処理液塗布装置については、次に示す特許文献１に示されている。
特開平１０−１５６２５５号公報

ところで、前記した構成の処理液塗布装置においては、一回の塗布動作によって均一な膜厚を得るようにするために、前記したレジスト液をスリット状の吐出開口から吐出させる場合に、その膜厚を引き伸ばしつつ均一な層状に形成させる動作が伴われる。このために、前記レジスト液を吐出するノズルと前記基板との間の間隙（エアーギャップ）は、膜厚に対応するようにきわめて小さく設定され、例えば１００μｍ程度のギャップをもって両者が相対移動されるようになされる。

前記したレジスト液に代表される処理液を基板に対して塗布するに際して、ノズルと基板とは前記した微小間隔をもって相対移動されることになるため、例えば基板上に塵埃などの異物が付着している場合においては、その塗布動作中に前記異物が前記ノズルの先端部に接触するという問題が発生する。また、異物が前記基板とこの基板を載置保持するステージとの間に介在された場合には、基板の一部が次第に高くなるように山上に変形されるため、ノズルと基板の相対移動により、ノズルの先端部に基板が強く押しつけられるという問題が発生する。

特に後者のように、異物が前記基板とステージとの間に介在されている場合においては、基板の破損は当然のことながら、ノズルの先端部に傷がつき、塗布した処理液にいわゆるすじ引きが発生することになる。このために前記ノズルの交換およびこれに伴う調整作業等が必要になり、基板の製造ラインが長時間にわたって運転停止を余儀なくされるという問題にも発展する。

そこで、前記した処理液吐出ノズルの相対的な進行方向の前方に板状部材を取り付けて、前記ノズルに対して異物もしくは被処理基板が接触する前に、前記板状部材の端面に対して異物もしくは被処理基板が接触するように構成したスリットコート式塗布装置が、次に示す特許文献２に開示されている。この特許文献２に示されたスリットコート式塗布装置によると、前記板状部材に振動センサが取り付けられ、前記板状部材の端面に異物もしくは基板が接触したことを前記振動センサにより検出し、前記ノズルと基板との相対移動を停止させるようにしている。
特開２０００−２４５７１号公報

ところで、前記した特許文献２に示された処理液塗布装置によると、処理液供給ノズルに併設させた板状部材が、異物もしくは基板に直接接触した場合に発生する振動を振動センサにより検出するものである。しかしながら、前記装置による処理液の塗布動作においては、処理液供給ノズルもしくは被処理基板は相対移動されるため、これらの移動に伴う振動の発生を皆無にすることは不可能である。したがって前記振動センサは、これらの駆動による振動を検出するという誤検出を発生し易い。

一方、前記した誤検出の発生を防止させるためには、振動センサによる検出感度をある程度抑制させることが必要となるが、この場合においては、被処理基板に存在する異物等を効果的に検出することが困難となる。要するに前記した振動センサにおける異常検出のレベル設定はきわめて難しく、正常であるにもかかわらず誤検出を発生させたり、異常状態にあるにもかかわらず、これを検出することができないといった問題を抱えることになる。

また、特許文献２に示された処理液塗布装置の構成においては、被処理基板上の異物、もしくは異物によってステージから持ち上げられた基板に板状部材の端面が接触したことにより発生する振動を捕らえて異常を検出するものであるため、特にステージから持ち上げられた状態の基板に板状部材の端面が接触した場合においては、前記基板を再利用することは不可能となり、歩留まりが低下することは避けられない。

そこで、被処理基板に対する処理液供給ノズルの相対的な移動方向の前方において水平方向に光ビームを投射し、被処理基板上の異物もしくは異物によって前記基板がステージから持ち上げられた異常状態を検出する手段を採用することが考えられる。図４はその構成を模式的に示したものであり、符号１は被処理基板としての例えばガラス基板を示しており、また符号２は前記ガラス基板１を水平状態に載置し保持する載置台（ステージ）を示している。

なお、図４には示されていないが、スリット状の吐出開口を備えた処理液供給ノズルが、ステージ２上に載置された基板１の上面に沿って、紙面の垂直方向に相対移動するように構成されており、前記スリット状の吐出開口はその長手方向が図４に示す紙面の左右方向に配置された状態で相対移動するようになされる。この場合、処理液供給ノズルと前記基板１との間の間隙は、前記したとおり１００μｍ程度になされる。

一方、前記スリット状の吐出開口の長手方向に沿うように光軸（光ビーム）５が投光部３より投射され、これを受光部４によって受光するように構成されている。前記投光部３より投射される光ビーム５としては、例えば６７０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームが用いられる。そして、前記光ビーム５は基板１の上面に沿って、その上面における約５０μｍの位置を通るように調整されている。

図４においては、被処理基板としてのガラス基板１とステージ２との間に異物が介在されて、基板１の一部が符号１ａとして示すように盛り上がり状態になされている例が模式的に示されている。図４に示す状態においては、基板１が約５０μｍ以上に盛り上がった異常状態において、投光部３から投射されるレーザビームは盛り上がり部１ａにより遮断されて受光部４には至らず、したがって基板１の異常状態を検出することができる。したがって、図４に示す構成によると前記異常状態を非接触で検出することができるので、処理液供給ノズルの損傷および被処理基板の損傷を未然に防止させることが期待できる。

ところで、昨今においては前記した被処理基板としてのガラス基板１のサイズは益々大型化され、これに伴い図４に示した投光部３と受光部４との距離も２０００ｍｍ、もしくはそれ以上の距離を隔てた状態に設定せざるを得ない状況が発生している。前記した６７０ｎｍの波長を有するレーザビームを利用した場合においては、投光部３と受光部４との距離が７００ｍｍ以下の範囲である場合においてはレーザ光は比較的収束性がよく、光の回析は見られないものの、前記した距離以上となった場合には、その回析が極端に大きくなることを、本件の発明者等は実験等により知見している。

すなわち、図４に模式的に示したように投光部３からのレーザビームの一部は符号５ａとして示したように、ガラス基板１の盛り上がり部１ａを迂回して回析し、受光部４に到達するという現象が発生する。このために、受光部４側において受けるレーザ光の光量から、異常状態であるか否かを正確に判定することが不可能になるという問題が発生し、この種の光学的な異常検出手段の信頼性を確保することが困難になる。

この発明は、前記したような技術的な観点に基づいてなされたものであり、レーザ光に代表される光ビームを水平方向に投射することで、基板上の異物もしくは基板の一部が異物により盛り上がり状態になされた異常状態を検出する光学的な検出手段を具備した処理液塗布装置において、前記した光の回析により生ずる誤検出を抑制させることができる処理液塗布装置を提供することを課題とするものである。

前記した課題を解決するためになされたこの発明にかかる処理液塗布装置は、請求項１に記載のとおり、ステージ上に水平状態に載置される被処理基板と、前記基板の幅方向に延びるスリット状吐出開口を有する処理液供給ノズルとを相対的に移動して、前記処理液供給ノズルのスリット状吐出開口から帯状に吐出される処理液を前記基板の表面に塗布する処理液塗布装置であって、前記被処理基板に対して相対移動する処理液供給ノズルの移動方向の前方に配置され、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状吐出開口の長手方向に平行するように、かつ前記基板の直近に沿って光ビームを投射する投光部と、この光ビームを受光する受光部と、前記投光部と受光部を結ぶ光ビームの直進路の少なくとも上部を覆う光軸誘導体とを具備した点に特徴を有する。

この場合、請求項２に記載のように、前記投光部と受光部を結ぶ光ビームの直進路と前記基板との間隔が、相対移動される状態における前記処理液供給ノズルと前記基板との間隔よりもさらに小さな間隔をもって設定されていることが望ましい。また、請求項３に記載のとおり、前記光軸誘導体の底面と前記基板との間隔が、相対移動される状態における前記処理液供給ノズルと前記基板との間隔に等しいか、もしくはより小さな間隔をもって設定されていることが望ましい。

そして、この発明にかかる処理液塗布装置の好ましい実施の形態においては、請求項４に記載のように、投光部と受光部、および光軸誘導体とが、処理液供給ノズルの側壁部に取り付けられ、処理液供給ノズルと共に前記基板に対して相対移動されるように構成される。

前記した構成による処理液塗布装置における好ましい形態においては、前記被処理基板を載置したステージが固定状態になされ、前記処理液供給ノズル、前記投光部と受光部、および前記光軸誘導体とが被処理基板上を移動するように構成される。また、前記処理液供給ノズル、前記投光部と受光部、および前記光軸誘導体とが固定状態になされ、前記被処理基板を載置したステージが水平方向に移動するように構成されることもある。

さらに、この発明にかかる処理液塗布装置の好ましい一つの制御態様は請求項７に記載のように、前記受光部における受光量が所定の閾値以下を検出した時に、前記基板に対する処理液供給ノズルの相対移動を停止させるように制御される。また、この発明にかかる処理液塗布装置の好ましい他の一つの制御態様は請求項８に記載のように、前記受光部における受光量が所定の閾値以下を検出した時に、少なくとも前記処理液供給ノズルの位置を上昇させるように制御される。

前記した請求項１に記載の処理液塗布装置によると、投光部から受光部に至る光ビームの直進路における少なくとも上部を覆うように光軸誘導体が具備されているので、前記光軸誘導体は、被処理基板との間であたかもトンネル状の狭い直線状の空間を形成する。これにより、前記光軸誘導体は投光部から受光部を結ぶ直進路を通る光ビームを対象とした光透過形センサを構成することができる。換言すれば、前記光軸誘導体は光の回析により投光部から受光部を結ぶ直進路を迂回して受光部に至る光を効果的に減衰させるように作用する。

この結果、前記した投光部と受光部からなる光透過形センサユニットは、光の回析による影響を低減し、基板上に異物が存在する状態もしくは基板の一部が異物により盛り上がり状態になされた異常状態を正確に検出することができる。

この場合、請求項２に記載のように、前記投光部と受光部を結ぶ光ビームの直進路と前記基板との間隔が、相対移動される状態における前記処理液供給ノズルと前記基板との間隔よりもさらに小さな間隔をもって設定した構成とすることで、前記基板上の異物、もしくは異物によりその一部が盛り上がり状態になされた基板に対して、前記処理液供給ノズルが接触するのを効果的に防止させることができる。

さらに、請求項３に記載のように、前記光軸誘導体の底面と前記基板との間隔が、相対移動される状態における前記処理液供給ノズルと前記基板との間隔に等しいか、もしくはより小さな間隔をもって設定した構成とすることで、前記したトンネル状の空間部をより狭く設定することができ、投光部と受光部からなる光透過形センサユニットによる前記した異常状態の検出精度をより向上させることに寄与できる。

また、請求項４に記載のように、前記投光部と受光部、および前記光軸誘導体とが、前記処理液供給ノズルの側壁部に取り付けられた構成とすることで、前記した光透過形センサユニットと光軸誘導体との位置関係、これに加えて処理液供給ノズルの先端部との相互の位置関係を容易に設定することができる。したがって、前記した各部の最適な位置関係の調整作業等を容易にかつ効率的になし得ることができる。

そして、前記した構成の処理液塗布装置においては、請求項５に記載のように被処理基板を載置したステージを固定状態とし、処理液供給ノズル、投光部と受光部、および光軸誘導体とが被処理基板上を移動するように構成させることができ、また、請求項６に記載のように処理液供給ノズル、投光部と受光部、および光軸誘導体とが固定状態になされ、被処理基板を載置したステージが水平方向に移動するように構成させることもできる。

さらに、請求項７および請求項８に記載のように、前記受光部における受光量が所定の閾値以下を検出した時に、前記基板に対する処理液供給ノズルの相対移動を停止させるように制御する手段、前記処理液供給ノズルの位置を上昇させるように制御する手段のいずれを採用することによっても、処理液供給ノズルの先端部に異物もしくは基板が接触するのを未然に防止させることができる。

以下、この発明にかかる処理液塗布装置について、図に示す実施の形態に基づいて説明する。図１および図２はその処理液塗布装置の主要部を互いに断面図で示したものである。すなわち、図１は図２におけるＢ−Ｂ線より矢印方向に見た状態の断面図であり、また図２は図１におけるＡ−Ａ線より矢印方向に見た状態の断面図で示している。なお、以下に示す各図においては、すでに説明した図４に示す構成と同一の機能を果たす部分を、同一の符号で示している。

図１および図２において、符号１はすでに説明した被処理基板としての方形状の例えばガラス基板を示しており、符号２は前記ガラス基板１を水平状態に載置し、例えば負圧によりこれを吸着保持する載置台（ステージ）を示している。符号１１は処理液供給ノズルを示しており、このノズル１１は外観が概ね直方体状に形成され、その上端部に処理液供給口１１ａが形成され、その下端部にはスリット状の処理液吐出開口１１ｂが形成されている。

この図１および図２に示す実施の形態においては、ガラス基板１を水平状態に載置したステージ２は固定状態になされ、前記処理液供給ノズル１１がガラス基板１の上面に沿って移動する（図１の白抜き矢印の方向に移動する）ように構成されている。すなわち、処理液供給ノズル１１はそのスリット状開口１１ｂの長手方向に直交する方向に水平移動するようになされる。そして、ノズル１１の先端部（図に示す下端部）と、ガラス基板１との間で、ほぼ１００μｍ程度の間隔をもって移動しつつ、スリット状開口１１ｂより処理液Ｒを線状に吐出することで、ガラス基板１上に処理液Ｒを帯状に塗布するように動作する。

前記処理液供給ノズル１１の移動方向の前方における側壁には、ホルダ部材１２が取り付けられている。このホルダ部材１２は前記ノズル１１におけるスリット状開口１１ｂの長手方向の寸法よりもさらに長い寸法の例えば板状もしくは柱状の部材により形成されている。そして、ホルダ部材１２の両端部には、投光部３および受光部４がそれぞれ向き合うようにして取り付けられ、これにより光透過形センサユニットを構成している。

図２に示したように前記投光部３および受光部４は、これらを結ぶ直線、すなわち光軸（光ビーム）５が、処理液供給ノズル１１におけるスリット状吐出開口１１ｂの長手方向と平行となるように、かつ前記ノズル１１の移動方向の前方に位置するように前記ホルダ部材１２に取り付けられている。前記投光部３より投射される光ビーム５としては、例えば６７０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームが用いられる。そして、前記光ビーム５は基板１の直近に沿って、すなわち、この実施の形態においては基板１の上面における約５０μｍの位置を通るように調整されている。

一方、前記ホルダ部材１２には、角柱状に形成された光軸誘導体１３がホルダ部材１２の長手方向に沿って、当該ホルダ部材１２に取り付けられている。この光軸誘導体１３の下側面１３ａはほぼ平面状に形成され、一つの好ましい実施の形態においてはその下側面１３ａには黒色の艶消し処理が施されている。そして、前記光軸誘導体１３は前記投光部３と受光部４を結ぶ光ビーム５の直進路の上部を覆うようにして、ホルダ部材１２に取り付けられている。なお、図１および図２に示す実施の形態においては、前記光軸誘導体１３の下側面１３ａと前記処理液供給ノズル１１の先端部とは同一の位置（同一の高さ）、すなわちガラス基板１の上面からほぼ１００μｍ程度となるように設定されている。

図３は、前記した図１および図２に示した構成の作用を説明するものである。なお、図３（Ａ）はガラス基板１とステージ２との間に異物が介在されて、基板１の一部が符号１ａとして示すように盛り上がり状態になされている場合を模式的に示したものであり、図３（Ｂ）は前記した盛り上がり部１ａは形成されない正常な状態を模式的に示したものである。

すでに説明したとおり基板１の上面と光軸誘導体１３の下側面１３ａとの間隔は、ほぼ１００μｍ程度に設定されており、また、投光部３と受光部４を結ぶ光ビーム５の直進路は、基板１の上面におけるほぼ５０μｍの位置に設定されている。

ここで、図３（Ａ）に示すように、ガラス基板１とステージ２との間に例えば異物が介在されて基板１の一部が符号１ａとして示すように約５０μｍ以上に盛り上がった状態になされた場合においては、投光部３から投射されるレーザビーム５は盛り上がり部１ａにより遮断されて受光部４には至らない。一方、符号５ａとして示したように、前記盛り上がり部１ａを迂回して受光部４に到達しようとする回析光は、光軸誘導体１３の下側面１３ａに接して減衰し、受光部４に到達するのが阻止される。したがって、図３（Ａ）に示す状態においては受光部における光ビームの受光量は所定の閾値以下となり、これにより異常状態であることを正確に判定することができる。

一方、図３（Ｂ）に示すように正常な状態においては、投光部３から投射される光ビーム５は受光部４に至り、その受光量は所定の閾値以上となるために、正常状態であると判定することができる。

要するに、図１〜図３に示した構成によると、投光部３から受光部４に至る光ビームの直進路における上部を覆うように光軸誘導体１３が具備されているので、この光軸誘導体１３は、基板１との間であたかもトンネル状の狭い直線状の空間を形成する。これにより、光軸誘導体１３は投光部３から受光部４を結ぶ直進路を通る光ビーム５を対象とした光透過形センサを構成させることができる。

そして、前記光軸誘導体１３は光の回析により投光部３から受光部４を結ぶ直進路を迂回して受光部に至る回析光５ａを減衰させるので、光の回析により生ずる誤検出を効果的に抑制させることができる。

ここで、前記した光透過形センサユニットにおいて、異常状態を検出した場合においては、次に示す制御形態を好適に採用することができる。その一つは処理液供給ノズル１１の移動を停止させて、基板に対する処理液の塗布動作を中止されるように制御するものである。また他の一つは処理液供給ノズルの位置を上昇させるように制御するものである。これらいずれの制御形態を採用しても、処理液供給ノズルの損傷および被処理基板の損傷を未然に防止させることができる。

以上説明した実施の形態においては、光軸誘導体１３の下側面１３ａに対して黒色の艶消し処理を施すことで、基板１の盛り上がり部１ａを迂回して受光部４に到達しようとする符号５ａで示す回析光を減衰させるようにしている。これに対して、光軸誘導体１３の下側面１３ａを敢えて鏡面仕上げにし、かつ基板１の端部と受光部４との距離Ｌを所定の値以上に設定することで、同様に前記した誤検出を効果的に抑制させることができる。図４は、その作用について説明するものである。なお、図４においては、すでに説明した各図に示す構成と同一の機能を果たす部分を同一の符号で示している。

すなわち、投光部３から受光部４に至る距離が増大した場合（所定以上の距離となった場合）には、投光部３からからの光ビームはその途中からラッパ状に拡がり、拡散するという作用が発生する。このために受光部４において受ける受光量が低減し、受光部４の形態によっては光量不足のために誤検出を起こすという問題を発生させることがある。

そこで、前記したように光軸誘導体１３の下側面１３ａを鏡面仕上げにすることで、図４に示すように拡散しようとする実線で示す光５ｂを効果的に反射させることができる。そして、前記下側面１３ａで反射された反射光は、基板１の表面において再び反射され、このような反射の繰り返しにより、受光部４に至る光量を確保することができる。

一方、図４に示すように基板１の端部と受光部４との距離Ｌを、５０〜１００ｍｍ程度離すことにより、前記光軸誘導体１３の下側面１３ａに対する入射角が大きな光、すなわち基板１の盛り上がり部１ａにおいて反射される破線で示す光ビーム５のほとんどは、受光部４には到達しない。要するに、基板１の盛り上がり部１ａにおいて反射された光ビーム５は、例えば図４に破線の矢印で示したように、受光部４の上側を通過するようになる。したがって、この発明にかかる処理液塗布装置においては、図４に示した作用を利用して基板１の異常状態を検出するように構成させることもできる。

なお、以上説明した実施の形態においては、前記した光軸誘導体１３の底面１３ａと前記ガラス基板１との間隔が、処理液供給ノズル１１と前記ガラス基板１との間隔に等しい状態に設定されているが、光軸誘導体１３の底面１３ａとガラス基板１との間隔は、処理液供給ノズル１１とガラス基板１との間隔よりも、より小さな間隔をもって設定された構成とすることにより、前記した光の回析により生ずる誤検出の抑制効果をより高めることができる。

また、以上説明した実施の形態においては、被処理基板１を載置したステージ２が固定状態になされ、処理液供給ノズル１１、投光部３と受光部４、および光軸誘導体１３とが被処理基板上を移動するように構成されているが、これとは逆に、処理液供給ノズル、投光部と受光部、および光軸誘導体が固定状態になされ、被処理基板を載置したステージが水平方向に移動するように構成されていても同様の作用効果を得ることができる。

この発明は、先に説明したＬＣＤ基板に対して例えばレジスト液を塗布する場合の塗布装置に限らず、半導体ウエハやプリント基板、その他の電子ディバイスの製造分野、またはその他の分野において採用されるスリットコート式塗布装置に対して好適に利用することができる。

この発明にかかる処理液塗布装置の実施の形態を示した断面図である。 図１におけるＡ−Ａから見た状態の断面図である。 図１および図２に示した処理液塗布装置に付帯された第１の形態による光透過形センサユニットの作用を説明する模式図である。 同じく第２の形態による光透過形センサユニットの作用を説明する模式図である。 従来の光透過形センサユニットの作用を説明する模式図である。

符号の説明

１ 被処理基板（ガラス基板）
１ａ 基板の盛り上がり部
２ 載置台（ステージ）
３ 投光部
４ 受光部
５ 光軸（光ビーム）
５ａ 回析光
１１ 処理液供給ノズル
１１ａ 処理液供給口
１１ｂ 処理液吐出開口
１２ ホルダ部材
１３ 光軸誘導体
１３ａ 光軸誘導体の下側面
Ｒ 処理液

Claims (8)

1. ステージ上に水平状態に載置される被処理基板と、前記基板の幅方向に延びるスリット状吐出開口を有する処理液供給ノズルとを相対的に移動して、前記処理液供給ノズルのスリット状吐出開口から帯状に吐出される処理液を前記基板の表面に塗布する処理液塗布装置であって、
   前記被処理基板に対して相対移動する処理液供給ノズルの移動方向の前方に配置され、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状吐出開口の長手方向に平行するように、かつ前記基板の直近に沿って光ビームを投射する投光部と、この光ビームを受光する受光部と、前記投光部と受光部を結ぶ光ビームの直進路の少なくとも上部を覆う光軸誘導体とを具備したことを特徴とする処理液塗布装置。
2. 前記投光部と受光部を結ぶ光ビームの直進路と前記基板との間隔が、相対移動される状態における前記処理液供給ノズルと前記基板との間隔よりもさらに小さな間隔をもって設定されていることを特徴とする請求項１に記載の処理液塗布装置。
3. 前記光軸誘導体の底面と前記基板との間隔が、相対移動される状態における前記処理液供給ノズルと前記基板との間隔に等しいか、もしくはより小さな間隔をもって設定されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理液塗布装置。
4. 前記投光部と受光部、および前記光軸誘導体とが、前記処理液供給ノズルの側壁部に取り付けられ、処理液供給ノズルと共に前記基板に対して相対移動されるように構成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の処理液塗布装置。
5. 前記被処理基板を載置したステージが固定状態になされ、前記処理液供給ノズル、前記投光部と受光部、および前記光軸誘導体とが被処理基板上を移動するように構成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の処理液塗布装置。
6. 前記処理液供給ノズル、前記投光部と受光部、および前記光軸誘導体とが固定状態になされ、前記被処理基板を載置したステージが水平方向に移動するように構成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の処理液塗布装置。
7. 前記受光部における受光量が所定の閾値以下を検出した時に、前記基板に対する処理液供給ノズルの相対移動を停止させるように制御することを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の処理液塗布装置。
8. 前記受光部における受光量が所定の閾値以下を検出した時に、少なくとも前記処理液供給ノズルの位置を上昇させるように制御することを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の処理液塗布装置。

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