JP2006094557A - 半導体素子及び高周波電力増幅装置並びに無線通信機 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体素子の小型化により、高周波電力増幅装置の小型化を図る。
【解決手段】半導体基板と、前記半導体基板に形成されるトランジスタを有し、前記半導体基板の主面に前記トランジスタの外部電極端子を構成する制御電極端子及び出力信号を送出する第1の電極端子が設けられ、前記制御電極端子は1乃至複数設けられるとともに、前記1乃至複数の制御電極端子を挟んで、一側には複数の前記第1の電極端子が配列され、他側には複数の前記第1の電極端子が配列され、前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の一側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第1のトランジスタ部分を構成し、前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の他側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第2のトランジスタ部分を構成している。半導体素子は四角形である。
【選択図】図1
【解決手段】半導体基板と、前記半導体基板に形成されるトランジスタを有し、前記半導体基板の主面に前記トランジスタの外部電極端子を構成する制御電極端子及び出力信号を送出する第1の電極端子が設けられ、前記制御電極端子は1乃至複数設けられるとともに、前記1乃至複数の制御電極端子を挟んで、一側には複数の前記第1の電極端子が配列され、他側には複数の前記第1の電極端子が配列され、前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の一側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第1のトランジスタ部分を構成し、前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の他側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第2のトランジスタ部分を構成している。半導体素子は四角形である。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体素子及び高周波電力増幅装置(高周波電力増幅モジュール)並びにその高周波電力増幅装置を組み込んだ無線通信機に係わり、例えば、通信周波数帯が異なる複数の通信機能を有する多バンド通信方式のセルラー携帯電話機に適用して有効な技術に関する。
近年、北米セルラー市場においては、従来から使用されている北米全土をカバーするアナログ方式のAMPS(Advanced Mobile phone Service )と、TDMA(time division multiple access ),CDMA(code division multiple access )等デジタル方式を一つの携帯電話に組み込んだいわゆるデュアルモード携帯電話機が使用されている。
一方、欧州等においては、TDMA技術とFDD(frequency division duplex :周波数分割双方向)技術を使うGSM(Global System for Mobile Communication)方式とDCS(Digital Cellular System )方式が使用されている。
非特許文献1には、使用周波数が800〜900MHzのGSMと、使用周波数が1.7〜1.8GHzのPCN(別名DSC)を一体化したデュアルモードの携帯電話について記載されている。同文献には、受動部品を集積して回路全体を小型化する多層セラミックス・デバイスについて記載されている。
また、デュアルバンド向けRFパワーモジュールについては、非特許文献2に記載されている。
また、デュアルバンド向けRFパワーモジュールについては、非特許文献2に記載されている。
日経BP社発行「日経エレクトロニクス」1999年7月26日号〔no.748〕、P140〜P153
株式会社日立製作所半導体グループ発行、「GAIN」、No.131、2000.1
高度情報通信により携帯電話もより一層多機能化が図られている。このため、携帯電話に組み込まれる高周波電力増幅装置(高周波電力増幅モジュール)もそれに追従して多機能になっている。特に、複数の通信モード(含む通信バンド)を有する高周波電力増幅装置においては、シングル通信モード製品に比較して組み立て部品数が多くなり、装置が大型化し製品コストが高騰する。
そこで、本発明者等は高周波電力増幅装置の小型化を図るべく、電界効果トランジスタ(MOSFET:Metal Oxide Semiconductor Field-Effect-Transistor )を組み込んだ半導体チップの小型化を検討した。
図16乃至図20は本発明に先立って検討した高周波電力増幅器(高周波電力増幅モジュール)20と、最終増幅段を構成するトランジスタが組み込まれた半導体素子に係わる図である。図19は高周波電力増幅装置の等価回路図であり、図20は高周波電力増幅装置20における配線基板(モジュール基板)21B上の電子部品のレイアウトを示す模式的平面図である。
高周波電力増幅器は、デュアルバンド型の高周波電力増幅モジュールであり、図19の回路図に示すように、第1の増幅系としてPCN(Personal Communications Network)方式用の増幅系Pと、第2の増幅系としてGSM方式用の増幅系Gを有している。従って、図19及び図20において、整合回路等を構成する容量(コンデンサ),抵抗を示す記号にあって、PCN用の増幅系PではCP1(コンデンサ)、RP1(抵抗)のようにPを含み、GSM用の増幅系GではCG1(コンデンサ)、RG1(抵抗)のようにGを含んで示してある。
図19及び図20に示すように、増幅系Pの外部電極端子は入力端子Pin1,出力端子Pout 1,電源電位Vdd1となり、増幅系Gの外部電極端子は入力端子Pin2,出力端子Pout 2,電源電位Vdd2となり、基準電位(グランド:GND)と制御端子Vapc が共通となっている。また、GSM用の増幅系GまたはPCN用の増幅系Pのいずれを動作させるかの選択は、スイッチSW1の切替えによって行い、このスイッチSW1は選択端子Vctl に供給される信号によって切り替わる。制御端子Vapc はスイッチSW1に接続され、この制御端子Vapc に供給されるバイアス信号はスイッチSW1の切替えによって、GSM用の増幅系Gの各トランジスタにバイアス電位を供給する。また、図19の回路図における細長四角形部分はマイクロストリップラインを示すものである。
PCN用の増幅系P及びGSM用の増幅系Gは、いずれもトランジスタを順次従属接続した3段構成〔第1増幅段,第2増幅段,第3増幅段(最終増幅段)〕になっている。また、最終増幅段では出力を増大させるため並列に二つのトランジスタを接続する電力合成構成になっている。トランジスタは、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field-Effect-Transistor )が使用されている。
従って、PCN用の増幅系Pでは、入力端子Pin1と出力端子Pout 1との間に第1増幅段としてトランジスタQ1、第2増幅段としてトランジスタQ2、最終増幅段として並列接続されるトランジスタQ3,Q4を順次従属接続した構成になるとともに、入力側整合回路や出力側整合回路やノイズフイルター等の回路を構成するため、各所にディスクリート部品としてコンデンサ(CP1〜CP13),バイパスコンデンサ(CB1,CB2),抵抗(RP1〜RP4),インダクタL1が配置されている。
トランジスタQ1〜Q4の制御電極端子となるゲート電極には、それぞれ増幅されるべき信号とバイアス電位が供給される。このバイアス電位は、前述のように制御端子Vapc
に供給される信号であり、この信号はスイッチSW1によってPCN用の増幅系PまたはGSM用の増幅系Gに選択して供給される。この選択は選択端子Vctl に供給される信号によってスイッチSW1が切り換えられることによって選択される。各ゲート電極に供給される電位はそれぞれ所定のバイアス抵抗によって規定されている。
に供給される信号であり、この信号はスイッチSW1によってPCN用の増幅系PまたはGSM用の増幅系Gに選択して供給される。この選択は選択端子Vctl に供給される信号によってスイッチSW1が切り換えられることによって選択される。各ゲート電極に供給される電位はそれぞれ所定のバイアス抵抗によって規定されている。
また、各トランジスタQ1〜Q4の第1の電極端子(ドレイン電極)には電源電位Vdd1が供給されるとともに、第1の電極端子に増幅信号が出力される。各トランジスタの第2の電極端子(ソース電極)は基準電位(GND)が供給される。
また、GSM用の増幅系Gでは、入力端子Pin2と出力端子Pout 2との間に第1増幅段としてトランジスタQ5、第2増幅段としてトランジスタQ6、最終増幅段として並列接続されるトランジスタQ7,Q8を順次従属接続した構成になるとともに、入力側整合回路や出力側整合回路やノイズフイルター等の回路を構成するため、各所にディスクリート部品としてコンデンサ(CG1〜CG13),バイパスコンデンサ(CB3,CB4),抵抗(RG1〜RG4),インダクタL2が配置されている。
トランジスタQ5〜Q8の制御電極端子となるゲート電極には、それぞれ増幅されるべき信号とバイアス電位が供給される。また、各トランジスタQ5〜Q8の第1の電極端子(ドレイン電極)には電源電位Vdd2が供給されるとともに、第1の電極端子に増幅信号が出力される。各トランジスタの第2の電極端子(ソース電極)は基準電位(GND)が供給される。
チップ1にはトランジスタQ1,Q2,Q5,Q6がモノリシックに形成されている。チップ2には増幅系Pの最終増幅段を構成するトランジスタQ3,Q4がモノリシックに形成されている。チップ3には増幅系Gの最終増幅段を構成するトランジスタQ6,Q8がモノリシックに形成されている。
各チップの電極と、配線基板21の主面に設けられた配線21Wのワイヤボンディングパッド21Dは、導電性のワイヤ14で電気的に接続される。また、各チップの下面に設けられた電極は配線基板21に固定される際、配線に連なる導電性の固定部に電気的に接続される。これにより、図19に示す回路が構成される。また、特に説明しないが、コンデンサや抵抗、さらにはインダクタ等を構成する受動部品は表面実装が可能なチップ部品となり、各電極はソルダーによって配線に連なる電極接続部に電気的に接続されている。
ところで、最終増幅段を構成するトランジスタを組み込んだ半導体素子(半導体チップ)10は、図16および図18に示すような電極配置構成になっている。図16は最終増幅段を構成するトランジスタを組み込んだ半導体素子(半導体チップ)10の模式的平面図、図17は半導体素子の等価回路図、図18はトランジスタの電極パターンを示す模式的平面図である。半導体チップ10は、図19や図20に示すチップ2及びチップ3を構成するものであり、半導体チップ10はチップ3の例で図18を用いて説明する。
半導体チップ10は長方形となり、その一方の長辺に沿ってゲート電極パッド11が並び、他方の長辺に沿ってドレイン電極パッド12が並び、一方の長辺の中間部分にソース電極パッド13が設けられている。図ではゲート電極パッド11及びドレイン電極パッド12は一列にそれぞれ8個並ぶとともに、4個ずつ二分化され、その二分化されたゲート電極パッド11の間には抵抗R5が接続され、二分化されたドレイン電極パッド12の間には抵抗R6が接続されている。チップ2の場合はドレイン電極パッドは6個一列に並び、3個ずつ二分化されている。
図16に示すように、ソース電極パッド13と抵抗R5及び抵抗R6の左側のゲート電極パッド11及びドレイン電極パッド12を含む部分で第1のトランジスタ部分(FET1)を構成し、ソース電極パッド13と抵抗R5及び抵抗R6の右側のゲート電極パッド11及びドレイン電極パッド12を含む部分で第2のトランジスタ部分(FET2)を構成している。FET1及びFET2は、図19や図20に示すチップ2ではトランジスタQ3,Q4を構成し、図19や図20に示すチップ3ではトランジスタQ7,Q8を構成することになる。
電極パターンは、図18に示すように各電極のフィンガーが櫛歯状に噛み合うフィンガーパターン構造となっている。また、この電極パターン構成において、信号の位相が遅れないようにするためフィンガーが短くなる構造になっている。従って、ゲート電極パッドとドレイン電極パッドを対面させてフィンガーを短くする構造を採用する結果、図16に示すように、半導体チップ10は長細い構造となる。例えば、半導体チップ10の大きさは縦2mm、横1mmとなる。
しかし、このように半導体チップ10が細長くなると、半導体チップ10を搭載する配線基板の大きさも大きくなり、高周波電力増幅装置も大型化してしまう。
本発明の目的は、増幅器を組み込んだ縦横の寸法差が小さい半導体素子を提供することにある。
本発明の他の目的は、小型化が可能な高周波電力増幅装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、小型化が可能な無線通信機を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであろう。
本発明の他の目的は、小型化が可能な高周波電力増幅装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、小型化が可能な無線通信機を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)半導体基板と、
前記半導体基板に形成されるトランジスタを有し、
前記半導体基板の主面に前記トランジスタの外部電極端子を構成する制御電極端子及び出力信号を送出する第1の電極端子が設けられ、
前記制御電極端子は1乃至複数設けられるとともに、前記1乃至複数の制御電極端子を挟んで、一側には複数の前記第1の電極端子が配列され、他側には複数の前記第1の電極端子が配列され、
前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の一側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第1のトランジスタ部分を構成し、
前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の他側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第2のトランジスタ部分を構成していることを特徴とする。
前記半導体基板に形成されるトランジスタを有し、
前記半導体基板の主面に前記トランジスタの外部電極端子を構成する制御電極端子及び出力信号を送出する第1の電極端子が設けられ、
前記制御電極端子は1乃至複数設けられるとともに、前記1乃至複数の制御電極端子を挟んで、一側には複数の前記第1の電極端子が配列され、他側には複数の前記第1の電極端子が配列され、
前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の一側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第1のトランジスタ部分を構成し、
前記1乃至複数の制御電極端子と前記制御電極端子の他側の複数の前記第1の電極端子を含む部分によって第2のトランジスタ部分を構成していることを特徴とする。
前記半導体素子は正方形に近くすることができ、前記半導体基板の対面する一対の辺に沿って前記第1の電極端子がそれぞれ一列に並ぶとともに、前記両列の中間に前記制御電極端子が位置している。前記トランジスタの前記制御電極端子及び前記第1の電極端子並びに第2の電極端子にそれぞれ電気的に接続される前記半導体基板に形成される各半導体領域はフィンガー構造となり、フィンガーの長さは300μm以下となっている。前記トランジスタはシリコン基板に形成された電界効果トランジスタであり、ゲート電極端子が前記制御電極端子となり、ドレイン電極端子が前記第1の電極端子となり、ソース電極端子が前記第2の電極端子となっている。
このような半導体素子は、以下の構成の高周波電力増幅装置の最終増幅段として組み込まれる。高周波電力増幅装置は、配線基板に1乃至複数の増幅系を形成した高周波電力増幅装置であって、
前記増幅系は、
増幅されるべき信号が供給される入力端子と、
出力端子と、
パワー制御信号を受ける制御端子と、
前記入力端子と前記出力端子の間に順次従属接続される複数の増幅段と、
前記増幅段にそれぞれ所定の電位を供給する第1電源端子及び第2電源端子とを有し、
前記増幅段は、その段へ供給される入力信号及び前記パワー制御信号を受ける制御電極端子と、その段の出力信号を送出する第1の電極端子と、前記第2電源端子に接続される第2の電極端子を含む構成になっている。
前記高周波電力増幅装置は無線通信機に組み込まれる。
前記増幅系は、
増幅されるべき信号が供給される入力端子と、
出力端子と、
パワー制御信号を受ける制御端子と、
前記入力端子と前記出力端子の間に順次従属接続される複数の増幅段と、
前記増幅段にそれぞれ所定の電位を供給する第1電源端子及び第2電源端子とを有し、
前記増幅段は、その段へ供給される入力信号及び前記パワー制御信号を受ける制御電極端子と、その段の出力信号を送出する第1の電極端子と、前記第2電源端子に接続される第2の電極端子を含む構成になっている。
前記高周波電力増幅装置は無線通信機に組み込まれる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
前記(1)の手段によれば、(a)ゲート電極パッドを挟んで半導体チップの一方の辺に沿ってドレイン電極パッドを複数配置するとともに、半導体チップの他方の辺に沿ってドレイン電極パッドを複数配置する構造となることから、半導体チップは正方形に近くすることができる。この結果、高周波電力増幅装置に組み込んだ場合、細長い半導体チップを組み込む場合に比較して高周波電力増幅装置の配線基板を小さくすることができ、高周波電力増幅装置の小型化が可能になる。また、高周波電力増幅装置の小型化から、高周波電力増幅装置を組み込む無線通信機も小型化できる。
前記(1)の手段によれば、(a)ゲート電極パッドを挟んで半導体チップの一方の辺に沿ってドレイン電極パッドを複数配置するとともに、半導体チップの他方の辺に沿ってドレイン電極パッドを複数配置する構造となることから、半導体チップは正方形に近くすることができる。この結果、高周波電力増幅装置に組み込んだ場合、細長い半導体チップを組み込む場合に比較して高周波電力増幅装置の配線基板を小さくすることができ、高周波電力増幅装置の小型化が可能になる。また、高周波電力増幅装置の小型化から、高周波電力増幅装置を組み込む無線通信機も小型化できる。
(b)トランジスタにおける電極パターンはフィンガーパターン構造となるとともに、フィンガーの長さは300μm以下となっていることから、信号の位相ずれが大きくならない。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
本実施例(実施形態)1では、GSM用の増幅系とPCN用の増幅系を有する高周波電力増幅装置の最終増幅段を構成する半導体素子(半導体チップ)に本発明を適用した例について説明する。また、前記高周波電力増幅装置を組み込んだデュアルバンド方式の無線通信機についても説明する。
高周波電力増幅装置(高周波電力増幅モジュール)20は、図5の平面図、図6の側面図及び図7の正面図に示すように外観的には偏平な矩形体構造になっている。また、高周波電力増幅装置の底面の電極パターンは、図8の透視的に示す模式的平面図で示すようなパターンになっている。点々を施した領域が電極部分である。
高周波電力増幅装置20は、板状の配線基板(モジュール基板)21と、この配線基板21の一面側(主面側)に重ねて取り付けられたキャップ22によって偏平矩形体構造のパッケージ23が構成された構造になっている。前記キャップ22は電磁シールド効果の役割を果たす金属製になっている。図10に示すように、配線基板21の配線パターンや配線基板21に搭載される半導体素子を含む電子部品によって、図9に示すような回路を構成するようになっている。
図7及び図8に示すように、配線基板21の周面から底面に掛けてそれぞれ外部電極端子が設けられている。この外部電極端子は、表面実装型となり、モジュール基板21に形成された配線と、この配線の表面に形成されたソルダーによって形成されている。
外部電極端子の1から8までは以下の通りである。端子1はGSM用増幅系Gの入力端子Pin2、端子2は制御端子Vapc 、端子3は増幅系Gの電源電位Vdd2、端子4は増幅系Gの出力端子Pout 2、端子5はPCN用増幅系Pの出力端子Pout 1、端子6は増幅系Pの電源電位Vdd1、端子7は選択端子Vctl 、端子8は増幅系Pの入力端子Pin1である。また、符号は付してないが、GNDは基準電位を供給するグランド用端子である。
図9及び図10に示すように、高周波電力増幅装置20は、PCN用の増幅系Pと、GSM用の増幅系Gを有するデュアルバンド型の高周波電力増幅モジュールである。増幅系P及び増幅系Gは、それぞれ使用する電子部品の性能は異なるものもあるが、回路構成は略同一となる。
図9の回路図に示すように、第1の増幅系としてPCN方式用の増幅系Pと、第2の増幅系としてGSM方式用の増幅系Gを有している。従って、図9及び図10において、整合回路等を構成する容量素子(コンデンサ),抵抗素子を示す記号にあって、PCN用の増幅系PではCP1(コンデンサ)、RP1(抵抗)のようにPを含み、GSM用の増幅系GではCG1(容量)、RG1(抵抗)のようにGを含んで示してある。
図9及び図10に示すように、増幅系Pの外部電極端子は入力端子Pin1,出力端子Pout 1,電源電位Vdd1となり、増幅系Gの外部電極端子は入力端子Pin2,出力端子Pout 2,電源電位Vdd2となり、基準電位(グランド:GND)と制御端子Vapc が共通となっている。
また、GSM用の増幅系GまたはPCN用の増幅系Pのいずれを動作させるかの選択は、スイッチSW1の切替えによって行い、このスイッチSW1は選択端子Vctl に供給される信号によって切り替わる。制御端子Vapc はスイッチSW1に接続され、この制御端子Vapc に供給されるバイアス信号はスイッチSW1の切替えによって、GSM用の増幅系Gの各トランジスタにバイアス電位を供給したり、PCN用の増幅系Pの各トランジスタにバイアス電位を供給する。バイアス電位は各バイアス抵抗等によって決定されている。また、図9の回路図における細長四角形部分はマイクロストリップラインを示すものである。
PCN用の増幅系P及びGSM用の増幅系Gは、いずれもトランジスタを順次従属接続した3段構成〔第1増幅段,第2増幅段,第3増幅段(最終増幅段)〕になっている。また、最終増幅段では出力を増大させるため並列に二つのトランジスタを接続する電力合成構成になっている。トランジスタは、MOSFETが使用されている。
従って、PCN用の増幅系Pでは、入力端子Pin1と出力端子Pout 1との間に第1増幅段としてトランジスタQ1、第2増幅段としてトランジスタQ2、最終増幅段として並列接続されるトランジスタQ3,Q4を順次従属接続した構成になるとともに、入力側整合回路や出力側整合回路やノイズフイルター等の回路を構成するため、各所にディスクリート部品としてコンデンサ(CP1〜CP13),バイパスコンデンサ(CB1,CB2),抵抗(RP1〜RP4),インダクタL1が配置されている。
また、同様にGSM用の増幅系Gでは、入力端子Pin2と出力端子Pout 2との間に第1増幅段としてトランジスタQ5、第2増幅段としてトランジスタQ6、最終増幅段として並列接続されるトランジスタQ7,Q8を順次従属接続した構成になるとともに、入力側整合回路や出力側整合回路やノイズフイルター等の回路を構成するため、各所にディスクリート部品としてコンデンサ(CG1〜CG13),バイパスコンデンサ(CB3,CB4),抵抗(RG1〜RG4),インダクタL2が配置されている。
チップ1には、増幅系P及び増幅系Gの第1増幅段及び第2増幅段を構成するトランジスタQ1,Q2,Q5,Q6がモノリシックに形成されている。チップ2には増幅系Pの最終増幅段を構成するトランジスタQ3,Q4がモノリシックに形成されている。チップ3には増幅系Gの最終増幅段を構成するトランジスタQ6,Q8がモノリシックに形成されている。
図10に示すように、各チップの電極と、配線基板21の主面に設けられた配線21Wのワイヤボンディングパッド21Dは、導電性のワイヤ14で電気的に接続される。また、各チップの下面に設けられた電極は配線基板21に固定される際、配線に連なる導電性の固定部に電気的に接続される。これにより、図9に示す回路が構成される。また、特に説明しないが、コンデンサや抵抗、さらにはインダクタ等を構成する受動部品は表面実装が可能なチップ部品となり、各電極はソルダーによって配線に連なる電極接続部に電気的に接続されている。
トランジスタQ1〜Q8の制御電極端子となるゲート電極には、それぞれ増幅されるべき信号とバイアス電位が供給される。このバイアス電位は、前述のように制御端子Vapc
に供給される信号であり、この信号は、選択端子Vctl に供給される信号によるスイッチSW1の切り換えによって選択され、ある時は増幅系PのトランジスタQ1〜Q4が制御され、また別のある時は増幅系GのトランジスタQ5〜Q8が制御される。
に供給される信号であり、この信号は、選択端子Vctl に供給される信号によるスイッチSW1の切り換えによって選択され、ある時は増幅系PのトランジスタQ1〜Q4が制御され、また別のある時は増幅系GのトランジスタQ5〜Q8が制御される。
また、増幅系PのトランジスタQ1〜Q4の第1の電極端子(ドレイン電極)には電源電位Vdd1が供給され、増幅系GのトランジスタQ5〜Q8の第1の電極端子(ドレイン電極)には電源電位Vdd2が供給される。また、各トランジスタの第1の電極端子に増幅信号が出力される。各トランジスタの第2の電極端子(ソース電極)は基準電位(GND)が供給される。
一方、増幅系PのトランジスタQ3,Q4における入力整合回路においては、図19の回路の場合は、トランジスタQ3のゲート電極に一端がGNDに接地される容量素子CP7を接続するとともに、トランジスタQ4のゲート電極に一端がGNDに接地される容量素子CP8を接続し、かつ両トランジスタQ3,Q4のゲート電極間に抵抗R5(図17参照)を接続しているが、本実施形態1の場合はトランジスタQ3,Q4のゲート電極が共通化されていることから、容量素子CP8及び抵抗R5を廃止(図2参照)している。
容量及び抵抗の廃止は、増幅系Gにおいても同様であり、この結果図19に示す容量素子CG8及び、図17に示す抵抗R5も図9及び図2に示すように廃止できる。従って、高周波電力増幅装置20において、容量素子CP8,CG8の廃止から高周波電力増幅装置20の小型化も図れることになる。
そして、これは以下に詳述するが、最終増幅段を構成するトランジスタを形成した半導体チップ10の小型化、即ち半導体チップの正方形化から搭載面積の縮小が可能になり、高周波電力増幅装置20の小型化が達成できることになる。図10において、本実施形態1による配線基板21と図20に示す配線基板21Bを左端が一致するように重ね合わせた際、図20の配線基板21Bの右端は、二点鎖線で示すようにはみ出し、本実施形態1の配線基板21が小型化されたことが分かる。キャップは配線基板よりも外形寸法が僅かに小さく、かつ配線基板に重ねられることから、配線基板の小型化は高周波電力増幅装置の小型化になる。この小型化は本実施形態1の半導体チップ10の小型化と、前記容量素子CP8,CG8の廃止によるものである。
また、高周波電力増幅装置20では、増幅系P及び増幅系Gの初段増幅段と第2段増幅段は、単一の半導体チップ(チップ1)にモノリシックに形成されていることから、高周波電力増幅装置20の小型化を図ることができる。
つぎに、最終増幅段を構成する二つのトランジスタをモノリシックに形成した半導体素子(半導体チップ)10について、図1乃至図4を参照しながら説明する。図1は本発明の一実施形態(実施形態1)であるFETを組み込んだ半導体素子の模式的平面図、図2は半導体素子の等価回路図、図3は半導体素子の電極パターンを示す模式図、図4はFETの単一フィンガー部分の断面図である。
本実施形態1の半導体素子(半導体チップ)10は、シリコン基板に電界効果トランジスタ(FET)等をモノリシックに形成した構造になっている。FETはゲート電極端子(制御電極端子)と、ドレイン電極端子(第1の電極端子)と、ソース電極端子(第2の電極端子)を有する構成になっている。半導体チップ10は図1に示すように正方形に近い形となる。例えば、半導体チップ10は1辺が1.2mmもう一辺が1.0mmの正方形に近い形である。
図1に示すように、半導体チップ10の主面中央にはゲート電極パッド11が設けられている。このゲート電極パッド11はワイヤを接続できる程度の幅及び長さを有している。例えば、25μm直径程度のワイヤの場合、ワイヤボンディング用のパッドとしては一辺が80μmの正方形を必要とする。
ゲート電極パッド11を挟んでドレイン電極パッド12が一列ずつ並んで配列されている。即ち、ゲート電極パッド11の一側にはドレイン電極パッド12が一列に並び、ゲート電極パッド11の他側にはドレイン電極パッド12が一列に並んでいる。
各列のドレイン電極パッド12は、半導体チップ10の対応する一対の辺(図1では上下の辺)に沿って並んで配置されている。図ではドレイン電極パッド12はそれぞれ4個並んで配置されている。また、図1において、左寄り中央部分にソース電極パッド13が設けられている。ソース電極パッド13及びドレイン電極パッド12は前述のようにそれぞれワイヤが接続できる領域である。
各電極パッドは各電極層の一部に形成される。即ち、ゲート電極パッド11はゲート電極層11aの一部に形成され、ドレイン電極パッド12はドレイン電極層12aの一部に形成され、ソース電極パッド13はソース電極層13aの一部に形成される。例えば、各電極層はそのパターンがそれぞれ所定パターンに形成されることは勿論であるが、各電極層の表面を被う絶縁性の保護膜を所定箇所で除去することによって電極層を露出させ、各パッドとするものである。
一方、図1の模式図では、ゲート電極パッド11とドレイン電極パッド12列との間には、それぞれ4個の長方形が示されているが、この部分は櫛歯状電極パターン構造(フィンガーパターン構造)になっている。このフィンガーパターン構造は、図3に示すように、ゲート電極層11a,ドレイン電極層12a及びソース電極層13aがドレイン電極層12aとソース電極層13aとの間にゲート電極層11aが位置するような櫛歯状電極パターンとなっている。このような単一のフィンガーはドレイン電極パッド12の列方向に沿って繰り返し配置され、マルチフィンガーとなっている。このマルチフィンガーはゲート電極パッド11の一側及び他側にそれぞれ設けられている。単一のフィンガーの長さは300μm以下となり、信号の位相ずれが起きないように(大きくならないように)なっている。
ゲート電極パッド11及びソース電極パッド13並びに一側の複数のドレイン電極パッド12を含む領域部分で第1の電界効果トランジスタ部分(FET1)が形成され、ゲート電極パッド11及びソース電極パッド13並びに他側の複数のドレイン電極パッド12を含む領域部分で第2の電界効果トランジスタ部分(FET2)が形成される。このFET1は、図9に示すように、増幅系PにおいてはトランジスタQ3を構成し、FET2はトランジスタQ4を構成し、増幅系GにおいてはトランジスタQ7を構成し、FET2はトランジスタQ8を構成する。ただし、増幅系PのトランジスタQ3,Q4を有するチップ2では、図10に示すように、ドレイン電極パッド12はそれぞれ3個ずつ並べて設けた構造になっている。
また、FET1のドレイン電極パッド12とFET2のドレイン電極パッド12は抵抗R6によって接続されている。この抵抗R6は各FETの出力の整合をとるために設けられている。また、半導体チップ10の裏面にはソース電極が設けられている。
図4は半導体チップ10の断面図であり、単一のフィンガー部分を示す図である。低抵抗のP型シリコンからなる半導体基板30の主面には、高抵抗のP型からなるエピタキシャル層31が設けられている。このエピタキシャル層31の表層部分には所定間隔離してP型のPウエル領域32,33が設けられている。この層はパンチスルーストッパ層として作用する。
一対のPウエル領域32,33の間のエピタキシャル層31の表層部分はN型ドレインオフセット領域34となっている。また、一対のPウエル領域32,33の中間のN型ドレインオフセット領域34部分にはN型のドレイン領域35が設けられている。このドレイン領域35の底はN型ドレインオフセット領域34を貫通し、エピタキシャル層31の途中深さにまで延在している。
一方、一対のPウエル領域32,33の外側にはPウエル領域32,33等を囲むように半導体基板30の途中深さにまで到達するP+型領域39が設けられるとともに、このP+型領域39上には表面が露出するP+型のP型コンタクト領域40が設けられている。また、一対のPウエル領域32,33の表層部分にはN型ドレインオフセット領域34の端から所定間隔離れてN型のソース領域41がそれぞれ設けられている。
N型ドレインオフセット領域34とソース領域41との間のウエル領域部分はチャンネル層となる。そして、このチャンネル層上にはゲート絶縁膜(酸化膜)42を介してゲート電極43が形成されている。また、エピタキシャル層31の主面全体は層間絶縁膜47で被われている。この層間絶縁膜47はゲート電極43をも被う。
また、前記層間絶縁膜47は部分的にコンタクト用の孔が設けられている。そして、この層間絶縁膜47上には選択的に電極層が形成される。電極層は前記コンタクト用の孔にも充填され、その底に位置する半導体領域(層)と電気的に接続される。ドレイン領域35に接続される電極層はドレイン電極層12aとなり、ソース領域41及びP型コンタクト領域40に接続される電極層はソース電極層13aとなり、図示しないがゲート電極43に接続される電極層はゲート電極層11aとなる。また、図示しないが、層間絶縁膜47及び層間絶縁膜47から露出する電極層は絶縁性の保護膜(パッシベーション膜)によって被われるとともに、所定の保護膜は除去されて、それぞれゲート電極パッド11,ドレイン電極パッド12,ソース電極パッド13が形成される。また、半導体基板30の裏面にはソース電極13cが形成されている。
本実施形態1の半導体チップ10は、ゲート電極パッド11を挟んで半導体チップ10の一方の辺に沿ってドレイン電極パッド12を複数配置するとともに、半導体チップ10の他方の辺に沿ってドレイン電極パッド12を複数配置する構造となることから、半導体チップ10の縦横比率を1に近づけることができ、本実施形態1のように半導体チップ10を正方形に近くすることができ、配線基板に搭載する際、細長半導体チップのように長い距離に亘る固定部分を必要としなくなり、前述のように高周波電力増幅装置20の配線基板21の小型化を図ることができるようになる。
また、ゲートが共通化されることにより、ワイヤ本数が少なくなるとともに、ゲート電極パッドの占める面積が小さくなる。
また、ゲートが共通化されることにより、ワイヤ本数が少なくなるとともに、ゲート電極パッドの占める面積が小さくなる。
つぎに、本実施形態1による高周波電力増幅装置20を組み込んだ無線通信機について説明する。図11はデュアルバンド無線通信機の一部を示すブロック図であり、高周波信号処理IC(RFlinear)50からアンテナ(Antenna)51までの部分を示す。なお、図11では、高周波電力増幅装置の増幅系はPCN用の増幅系PとGSM用の増幅系Gの二つを別けて示してあるが、二点鎖線で囲まれる部分が高周波電力増幅装置20に相当する。PCN用の増幅系(増幅器)をPで示し、GSM用の増幅系(増幅器)をGで示す。
アンテナ51はアンテナ送受信切替器52のアンテナ端子に接続されている。アンテナ送受信切替器52は、高周波電力増幅装置20の出力を入力する出力端子Pout 1,Pout 2と、受信端子Rx1,Rx2と、制御端子control1,control2とを有している。
高周波信号処理IC50からのGSM用の信号はPA(P)に送られ、Pout 1に出力される。PA(P)の出力はカプラー54aによって検出され、この検出信号は自動出力制御回路(APC回路)53にフィードバックされる。APC回路53は上記検出信号を基に動作してPA(P)を制御する。
また、同様に高周波信号処理IC50からのGSM用の信号はPA(G)に送られ、Pout 2に出力される。PA(G)の出力はカプラー54bによって検出され、この検出信号はAPC回路53にフィードバックされる。APC回路53は上記検出信号を基に動作してPA(G)を制御する。
アンテナ送受信切替器52はデュプレクサー55を有している。このデュプレクサー55は端子有し、1端子は上記アンテナ端子に接続され、他の2端子の内の一方はPCN用の送信受信切替スイッチ56aに接続され、他方はGSM用の送信受信切替スイッチ56bに接続されている。
送信受信切替スイッチ56aのa接点はフィルター57aを介してPout 1に接続されている。送信受信切替スイッチ56aのb接点は容量C1を介して受信端子Rx1に接続されている。送信受信切替スイッチ56aは制御端子control1に入力される制御信号によってa接点またはb接点との電気的接続の切替えが行われる。
また、送信受信切替スイッチ56bのa接点はフィルター57bを介してPout 2に接続されている。送信受信切替スイッチ56bのb接点は容量C2を介して受信端子Rx2に接続されている。送信受信切替スイッチ56bは制御端子control2に入力される制御信号によってa接点またはb接点との電気的接続の切替えが行われる。
受信端子Rx1と高周波信号処理IC50との間には、フィルター60aと低雑音アンプ(LNA)61aが順次接続されている。また、受信端子Rx2と高周波信号処理IC50との間には、フィルター60bと低雑音アンプ(LNA)61bが順次接続されている。
この無線通信機によってPCN用通信及びGSM通信が可能になる。
この無線通信機によってPCN用通信及びGSM通信が可能になる。
図12(a),(b)は本実施形態1の変形例を示す模式図である。この変形例では、ワイヤ14を複数箇所で接続できるようにドレイン電極パッド12を帯状電極25としてある。実施形態1では半導体チップ10の中央左側にソース電極パッド13を設けたが、この変形例ではソース電極パッド13を半導体チップ10の他側の辺側に寄せ、この空いた部分から半導体チップ10の中央に掛けて長い帯状電極25となるゲート電極パッド11を配置したものである。
即ち、帯状電極25は半導体基板30の一対の辺に沿ってそれぞれ配置されるゲート電極パッド列(第1の電極端子列)の少なくとも列中間位置部分から列の一方の端側部分(半導体チップ10の左端)にまで対応して延在している。
このように帯状電極25とすることによって、ワイヤボンディング時ゲート電極パッド11に対して所望の位置にワイヤ14を接続することが可能である。図12(a)では帯状電極25の左端にワイヤ14を固定した例であり、この場合、ワイヤ14の長さは最も短くでき、ワイヤ14のインダクタンスを最も小さくすることができる。
また、図12(b)は帯状電極25の右端にワイヤ14を接続したものであり、電気の給電点を半導体チップ10の中心に位置させることができ、ゲート電極層全体により均一に電気を供給することができる。
換言するならば、外部電極端子となるゲート電極パッド11を帯状電極25としておくことによって、ワイヤ14の接続位置を変えることができる。従って、半導体素子製造バラツキや、配線基板21のマイクロストリップライン等の製造バラツキ、搭載するチップ部品の製造バラツキに対応して、ワイヤの接続位置を選択することによってワイヤのインダクタンス値を選択することができるため、高品質の高周波電力増幅モジュールを製造することができる。
本実施例(実施形態)1によれば以下の効果を有する。
(1)ゲート電極パッド11を挟んで半導体チップ10の一方の辺に沿ってドレイン電極パッド12を複数配置するとともに、半導体チップ10の他方の辺に沿ってドレイン電極パッド12を複数配置する構造となることから、半導体チップ10を正方形に近くすることができる。この結果、半導体チップ10を高周波電力増幅装置20に組み込んだ場合、細長い半導体チップを組み込む場合に比較して高周波電力増幅装置20の配線基板21を小さくすることができ、高周波電力増幅装置20の小型化が可能になる。また、高周波電力増幅装置20の小型化から、高周波電力増幅装置を組み込む無線通信機も小型化できる。
(1)ゲート電極パッド11を挟んで半導体チップ10の一方の辺に沿ってドレイン電極パッド12を複数配置するとともに、半導体チップ10の他方の辺に沿ってドレイン電極パッド12を複数配置する構造となることから、半導体チップ10を正方形に近くすることができる。この結果、半導体チップ10を高周波電力増幅装置20に組み込んだ場合、細長い半導体チップを組み込む場合に比較して高周波電力増幅装置20の配線基板21を小さくすることができ、高周波電力増幅装置20の小型化が可能になる。また、高周波電力増幅装置20の小型化から、高周波電力増幅装置を組み込む無線通信機も小型化できる。
(2)トランジスタにおける電極パターンはフィンガーパターン構造となるとともに、フィンガーの長さは300μm以下となっていることから、信号の位相ずれが起き難くなり、通信特性の低下を抑止できる。
(3)半導体チップ10の中央に半導体チップ10の一端側から半導体チップ10の中心に亘って帯状電極25となるゲート電極パッド11を配置することによって、ワイヤ14のゲート電極パッド11への接続位置を変えることができ、ワイヤのインダクタンス調整が可能になり、高周波電力増幅装置20の出力調整等が可能になる。また、電気の給電点も所望位置にすることができる。
(4)半導体チップ10は、図20に示すように縦2mm、横1mmに比較して、一辺が1.2mmもう一辺が1.0mmとなる四角形の本実施形態1の半導体チップ10では、小型化となり、面積も小さくなることから、高周波電力増幅装置20における配線基板21への実装も広い場所や長い場所が不要となることから、配線基板21の小型化から高周波電力増幅装置20の小型化が可能になる。また、高周波電力増幅装置20の軽量化も可能になる。
(5)小型・軽量な高周波電力増幅装置20を搭載した無線通信機も小型・軽量化が図れる。特に、本実施形態1の場合は、容量素子の数も減らすことができ、より小型・軽量化される。
(6)高周波電力増幅装置20における配線基板21の小型化、容量素子の搭載数の軽減から高周波電力増幅装置20のコスト低減、無線通信機のコスト低減も達成することができる。
図13は本発明の他の実施例(実施形態)2である半導体素子の模式的平面図である。本実施形態2では、最終増幅段を構成する複数のトランジスタを単一の半導体チップ10(半導体基板30)に組み込むとともに、各トランジスタのゲート電極パッド(制御電極端子)11と、配線基板21の配線の一部であるワイヤボンディングパッド21Dを接続するワイヤ14を、隣接するトランジスタ間でかつ隣接近接するワイヤ間では相互に交差する方向に延在するように位置させるものである。
図13はそれぞれ最終増幅段を構成する二つのトランジスタ、例えば、トランジスタQ3,Q4及びトランジスタQ7,Q8を半導体基板30にモノリシックに形成してある。そして、トランジスタQ3,Q4の下側のワイヤ14と、トランジスタQ7,Q8の下側のワイヤ14は交差する方向に延在してある。また、トランジスタQ3,Q4の上側のワイヤ14と、トランジスタQ7,Q8の上側のワイヤ14は交差する方向に延在してある。この交差角度は30度以上になっている。
これは、一方の増幅系が動作しているとき、他方の増幅系は動作していないわけであるが、増幅系が異なるトランジスタ間で、同一方向,平行方向に2本のワイヤが近接していると、動作していない増幅系のトランジスタのワイヤに相互誘導作用によって誘起電流が発生し、これがもとで雑音が発生し、動作している増幅系に支障を起こしてしまうことを防止するためである。
本実施形態1による半導体チップ10が組み込まれた高周波電力増幅装置20を組み込んだ無線通信機では、雑音が少ない通話が可能になる。
本実施形態1による半導体チップ10が組み込まれた高周波電力増幅装置20を組み込んだ無線通信機では、雑音が少ない通話が可能になる。
図14は本発明の他の実施例(実施形態)3である外部電極端子を突起電極とした半導体素子の模式図である。図14(a)は半導体素子の平面図である。図14(b)は図14(a)のA−A線に沿う断面図、図14(c)は図14(a)のB−B線に沿う断面図である。なお、図14(b)及び図14(c)には、半導体チップ10を固定する配線基板21を二点鎖線で示してある。
下地電極(バンプパッド)15上に突起電極(バンプ電極)16が設けられ、図では突起電極(バンプ電極)16に配線基板21が接触する状態で示されている。
下地電極(バンプパッド)15上に突起電極(バンプ電極)16が設けられ、図では突起電極(バンプ電極)16に配線基板21が接触する状態で示されている。
半導体チップ10の外部電極端子を突起電極とすることによって、ワイヤによる接続に比較してインダクタンスを低くすることができる。従って、高周波電力増幅装置20の場合、ドレイン側のワイヤの損失を軽減でき特性を向上させることができる。例えば、高周波電力増幅装置20の効率が1〜2%向上し、出力が0.1dBD程度向上する。
図15は本実施形態3の変形例である半導体素子の平面図である。図15(a)は図13に示す半導体チップ10において、外部電極端子を突起電極(バンプ電極)16としたものである。即ち、半導体チップ10の主面には最終増幅段を構成する二つのトランジスタ、例えば、トランジスタQ3,Q4とトランジスタQ7,Q8の各電極が突起電極(バンプ電極)16となったものである。
また、図15(b)は、図15(a)においてトランジスタQ3,Q4となるものが90度回転した配置構成となるものであり、トランジスタQ3,Q4が動作せず、トランジスタQ7,Q8が動作しているときのトランジスタQ7,Q8からトランジスタQ3,Q4への相互誘導作用による誘起電流の発生を減らし、この高周波電力増幅装置20を組み込んだ無線通信機の雑音を減らす効果がある。
以上本発明者によってなされた発明を実施例(実施形態)に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。即ち、本実施形態では、トランジスタとしてMOSFETの例について説明したが、例えば、増幅段を構成する半導体増幅素子(トランジスタ)としてMOSFETを用いた例について説明したが、他のトランジスタでもよい。例えば、トランジスタとして、GaAs−MES(Metal-Semiconductor )FET,HEMT(High Electron Mobility Transistor ),Si−GeFET等であって、前記実施形態同様に適用でき同様な効果を得ることができる。
また、実施形態ではデュアルバンド方式について説明したが、多モード通信方式や多バンド多モード通信方式にも同様に適用でき同様な効果を得ることができる。
また、実施形態ではデュアルバンド方式について説明したが、多モード通信方式や多バンド多モード通信方式にも同様に適用でき同様な効果を得ることができる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)増幅器(増幅段)を組み込んだ縦横の寸法差が小さい小型化された半導体素子を提供することができる。
(2)高周波電力増幅装置の小型化が達成できる。
(3)無線通信機の小型化が達成できる。
(1)増幅器(増幅段)を組み込んだ縦横の寸法差が小さい小型化された半導体素子を提供することができる。
(2)高周波電力増幅装置の小型化が達成できる。
(3)無線通信機の小型化が達成できる。
10…半導体チップ、11…ゲート電極パッド、11a…ゲート電極層、12…ドレイン電極パッド、12a…ドレイン電極層、13…ソース電極パッド、13a…ソース電極層、13c…ソース電極、14…ワイヤ、15…下地電極(バンプパッド)、16…突起電極(バンプ電極)、20…高周波電力増幅装置、21,21B…配線基板(モジュール基板)、21D…ワイヤボンディングパッド、21W…配線、22…キャップ、23…パッケージ、30…半導体基板、31…エピタキシャル層、32,33…Pウエル領域、34…N型ドレインオフセット領域、35…ドレイン領域、39…P+型領域、40…P型コンタクト領域、41…ソース領域、42…ゲート絶縁膜(酸化膜)、43…ゲート電極、47…層間絶縁膜、50…高周波信号処理IC、51…アンテナ、52…アンテナ送受信切替器、53…APC回路、54a,54b…カプラー、55…デュプレクサー、56a,b…送信受信切替スイッチ、57a,57b,60a,60b…フィルター、61a,61b…低雑音アンプ(LNA)。
Claims (10)
- 複数の配線が形成された配線基板と、
前記配線基板上に実装された、電力増幅回路を含む半導体チップと、
前記半導体チップの主面の入力パッド形成領域内に形成された、前記電力増幅回路の入力用パッドと、
前記半導体チップの主面の第1および第2出力パッド形成領域内にそれぞれ形成された、前記電力増幅回路の複数の第1および第2出力パッド
を有する電力増幅モジュールであって、
前記入力パッド形成領域は前記第1および第2出力パッド形成領域の間に位置し、前記入力パッド、第1および第2出力パッドは、それぞれ前記配線基板の配線と突起電極を介して電気的に接続されていることを特徴とする電力増幅モジュール。 - 前記突起電極はバンプ電極であることを特徴とする請求項1記載の電力増幅モジュール。
- 前記半導体チップは、複数の前記入力パッドを前記入力パッド形成領域内に有することを特徴とする請求項1記載の電力増幅モジュール。
- 前記電力増幅モジュールは、直列接続された複数の電力増幅回路を有することを特徴とする請求項1記載の電力増幅モジュール。
- 前記電力増幅回路は電界効果トランジスタによって構成され、
前記入力用パッドは前記電界効果トランジスタのゲート電極と電気的に接続され、
前記第1および第2出力パッドは前記電界効果トランジスタのドレイン領域と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1記載の電力増幅モジュール。 - 前記電力増幅モジュールは、無線通信機器に使用されることを特徴とする請求項1記載の電力増幅モジュール。
- 電力増幅回路を含む半導体チップであって、
前記半導体チップの主面の入力パッド形成領域内に形成された、前記電力増幅回路の入力用パッドと、
前記半導体チップの主面の第1および第2出力パッド形成領域内にそれぞれ形成された、前記電力増幅回路の複数の第1および第2出力パッドを有し、
前記入力パッド形成領域は前記第1および第2出力パッド形成領域の間に位置し、前記入力パッド、第1および第2出力パッド上に、それぞれ突起電極が形成されていることを特徴とする半導体チップ。 - 前記突起電極はバンプ電極であることを特徴とする請求項7記載の半導体チップ。
- 前記半導体チップは、複数の前記入力パッドを前記入力パッド形成領域内に有することを特徴とする請求項7記載の半導体チップ。
- 前記電力増幅回路は電界効果トランジスタによって構成され、
前記入力用パッドは前記電界効果トランジスタのゲート電極と電気的に接続され、前記第1および第2出力パッドは前記電界効果トランジスタのドレイン領域と電気的に接続されていることを特徴とする請求項7記載の半導体チップ。
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