JP2006094301A - 高電圧ドライバ回路 - Google Patents

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Hiroki Matsunaga
弘樹 松永
Masahiko Sasada
昌彦 笹田
Eisaku Maeda
栄作 前田
Jinsaku Kaneda
甚作 金田
Hitoshi Ando
仁 安藤
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Abstract

【課題】 サステインモードにおける回生動作時の発熱を抑えることが可能な高電圧ドライバ回路を提供する。
【解決手段】 高電圧電源1からの電源供給によって動作するハーフブリッジ構成の出力回路61と、出力回路61を構成するハイサイドトランジスタ2に制御信号を与えるレベルシフト回路4と、レベルシフト回路4およびローサイドトランジスタ3を駆動するプリドライバ回路5とによって構成され、出力回路61を構成するハイサイドトランジスタ2と並列に、順方向ダイオード電圧の小さい高耐圧ドダイオード8を設ける。高耐圧ダイオード8は、NチャネルMOSトランジスタ9のボディダイオード10であっても良い。
【選択図】 図1

Description

本発明は、プラズマディスプレイ(PDP)等の容量性負荷を駆動するための高電圧ドライバ回路に関するものである。
PDP装置は、約600Vの電源電圧で動作するサステインドライバ回路と、約100Vの電源電圧で動作するスキャンドライバ回路との2種類の高電圧ドライバ回路とによって維持放電駆動され、プラズマ放電によって画像が表示される。この出願では、スキャンドライバ用の高電圧ドライバ回路を取り上げるものであり、サステインドライバ回路はその関連で説明する。
先行技術の高電圧ドライバ回路としては、PチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジスタの相補型MOSトランジスタを用いたドライバ回路が知られている(例えば、特許文献1参照)。図3は、当該特許文献1に記載されている駆動回路の構成を示すものである。ここでは、原理説明に必要な構成要素のみを記載する。この駆動回路は、PDP装置のスキャンドライバ回路として多用されている。
図3において、PDP装置に用いた場合について説明する。図3において、符号1は100V以上の高電圧を供給する高電圧電源を示し、符号2はハイサイドトランジスタを示し、符号3はローサイドトランジスタを示す。符号61はハイサイドトランジスタ2とローサイドトランジスタ3とを直列接続して構成されるハーフブリッジ構成の出力回路を示す。ハイサイドトランジスタ2は、PチャネルMOSトランジスタ11とそのボディダイオード12とで構成される。ローサイドトランジスタ3は、NチャネルMOSトランジスタ13とそのボディダイオード14とで構成される。
符号4はレベルシフト回路を示し、符号5はプリドライバ回路を示し、符号6は出力端子を示し、符号7は入力端子を示し、符号62はモード設定入力として用いられるHIZ端子を示す。
そして、符号30は出力端子6に接続される容量性負荷を示し、符号31はサステインドライバ回路を示す。PDP装置は電気素子である容量性負荷30に置き換えて考えても支障はない。
プリドライバ回路5は、AND回路63,64およびインバータ回路59によって構成され、HIZ端子62の入力によって回路全体の動作モードを設定し、入力端子7の入力によってスイッチング動作をする。この回路は低い電源電圧(例えば5V)で動作する。
レベルシフト回路4は、NチャネルMOSトランジスタ19,21と、PチャネルMOSトランジスタ15,17とで構成され、プリドライバ回路5から出力される低い入力電圧(例えば5V)の振幅を大きな出力電圧(例えば100V以上の電圧)の振幅に変換して出力する。符号16,18,20,22はそれぞれPチャネルMOSトランジスタ15,17とNチャネルMOSトランジスタ19,21のボディダイオードを示す。
ハーフブリッジ構成の出力回路61は、ハイサイドトランジスタ2とローサイドトランジスタ3とを高電圧電源1に直列接続して構成され、ハイサイドトランジスタ2のゲートにはレベルシフト回路4の出力信号が与えられ、ローサイドトランジスタのゲートにはプリドライバ回路5のAND回路64の出力信号が与えられる。
PDP装置がアドレスモードのときは、HIZ端子62にハイレベルが入力され、AND回路63は入力端子7により出力が決定される状態となる。その状態で、入力端子7への入力がローレベルの時はAND回路63の出力がローレベルとなり、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ19がオフとなり、PチャネルMOSトランジスタ17がオフとなる。また、AND回路63によりインバータ59の出力がハイレベルとなるため、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ21がオンとなり、PチャネルMOSトランジスタ15がオンとなり、ハイサイドトランジスタ2がオフとなる。そして、HIZ端子62への入力がハイレベルであり、インバータ59の出力がハイレベルであるので、AND回路64の出力としてはハイレベルが出力され、ローサイドトランジスタ3をオンさせる。そのため、出力端子6はGNDレベルとなる。
逆に、入力端子7への入力がハイレベルの時はAND回路63の出力がハイレベルとなり、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ19がオンとなり、PチャネルMOSトランジスタ17がオンとなる。また、AND回路63によりインバータ59の出力がローレベルとなるため、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ21がオフとなり、PチャネルMOSトランジスタ15がオフとなり、ハイサイドトランジスタ2を構成するPチャネルMOSトランジスタ11がオンとなる。AND回路64の出力はHIZ端子62への入力がハイレベルであるので、インバータ59の出力のローレベルが出力され、ローサイドトランジスタ3を構成するNチャネルMOSトランジスタ13をオフさせる。そのため、出力端子6は高電圧電源1の電圧に相当するハイレベルとなる。
PDP装置がサステインモードのときは、HIZ端子62にローレベルが入力され、AND回路63,64の出力が強制的にローレベルに、インバータ59の出力がハイレベルになる。よって、レベルシフト回路4は、NチャネルMOSトランジスタ19がオフとなり、PチャネルMOSトランジスタ15がオンとなり、ハイレベルを出力する。これによって、ハイサイドトランジスタ2がオフとなる一方、AND回路64の出力がローレベルのためローサイドトランジスタ3がオフとなって、ハーフブリッジ構成の出力回路61はハイインピーダンス状態となる。
サステインモードでは、サステインドライバ回路31が高電圧ドライバ回路の出力端子6に接続されたPDP装置30に交流信号を与える。サステインドライバ回路31の出力によって与えられるプラズマ放電の放電電流は、ローサイドトランジスタ3の寄生ダイオード14によりGNDから出力端子6へ流し出したり、あるいは、ハイサイドトランジスタ2の寄生ダイオード12により出力端子6から高電圧電源1へ流し込んだりして、PDP装置30に交流電圧を与えてAC維持放電をさせる。
特開平5−249916号公報(図6)
先行技術の高電圧ドライバ回路では、ハイサイドトランジスタ2としてPチャネルMOSトランジスタを用い、ローサイドトランジスタ3としてNチャネルMOSトランジスタ3を用いている。そして、サステインモードで動作するとき、PチャネルMOSトランジスタ11に寄生的に付随するボディダイオード12を介して高電圧電源1側にプラズマ放電させたり、NチャネルMOSトランジスタ13に寄生的に付随するボディダイオード14を介してGNDとの間でプラズマ放電させたりしていた。
ところが、PDP装置のような容量性負荷30をスイッチング駆動すると、容量性負荷30をスイッチング駆動する度に過大な過渡電流が流れることになり、ダイオードが順方向に導通していても、その発熱量は大きな値となる。一般的に、PチャネルMOSトランジスタ11のボディダイオード12は、NチャネルMOSトランジスタ13のボディダイオード14と比べて電流能力が小さく順方向ダイオード電圧が大きい。そのため、ボディダイオード12での発熱が大きく、発熱によってPチャネルMOSトランジスタ11が劣化したり、破損したりすることがあった。
したがって、本発明の目的は、PDPのサステインモードにおけるプラズマ放電電流による発熱を低減させることが可能な高電圧ドライバ回路を提供することである。
上記課題を解決するために、本発明に係る高電圧ドライバ回路は、高電圧電源端子からの電源供給によって動作し、出力端子に接続された容量性負荷を駆動するハーフブリッジ構成の出力回路と、前記ハーフブリッジ構成の出力回路を構成するハイサイドトランジスタのオン・オフを制御するレベルシフト回路と、前記ハーフブリッジ構成の出力回路を構成するローサイドトランジスタおよび前記レベルシフト回路のオン・オフを制御するプリドライバ回路と、前記ハイサイドトランジスタと並列に接続され電流能力が前記ハイサイドトランジスタのボディダイオードより大きいハイサイドダイオードとを備えている。
本発明の高電圧ドライバ回路は、例えばサステインドライバ回路によって駆動されるサステインモードでは、プラズマ放電の放電電流が出力端子から高電圧電源端子へ向けて流れるとき、ハイサイドトランジスタと並列に接続される電流能力が大きいハイサイドダイオードが電流パスを構成するため、ハイサイドトランジスタのボディダイオードで消費される電力を低減して、ハイサイドトランジスタの破損または劣化を防止することができる。
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1の高電圧ドライバについて、図面を参照しながら説明する。
この実施の形態1は、PチャネルMOSトランジスタ11で構成されるハイサイドトランジスタ2と並列にハイサイドトランジスタ2のボディダイオード12より電流能力が大きく順方向ダイオード電圧が低いハイサイドダイオード8が設けられている点が先行技術とは異なり、その他の構成は先行技術と同様である。このハイサイドダイオード8は、ゲート・ソース間を短絡したNチャネルMOSトランジスタ9よりなる。
図1において、符号1は高電圧電源を示し、符号61はハーフブリッジ構成の出力回路を示し、符号2はハイサイドトランジスタを示し、符号3はローサイドトランジスタを示し、符号6は出力端子を示し、符号4はレベルシフト回路を示し、符号5はプリドライバ回路を示す。符号9,13,19,21はそれぞれNチャネルMOSトランジスタを示し、符号11,15,17はそれぞれPチャネルMOSトランジスタを示し、符号8はゲート・ソース間を短絡したNチャネルMOSトランジスタ9よりなるハイサイドダイオードを示す。符号10,12,14,16,18,20,22はそれぞれボディダイオードを示し、符号64,63はAND回路を示し、符号59はインバータ回路を示す。符号7は入力端子を示し、符号62はHIZ端子を示す。
以上のように構成された高電圧ドライバについて、以下その動作を説明する。
PDPがアドレスモードのときは、HIZ端子62にハイレベルが入力され、AND回路63は入力端子7により出力が決定される状態となる。ここで、入力端子7への入力がローレベルの時はAND回路63の出力がローレベルとなり、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ19がオフとなり、PチャネルMOSトランジスタ17がオフとなる。また、AND回路63によりインバータ59の出力がハイレベルとなるため、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ21がオンとなり、PチャネルMOSトランジスタ15がオンとなり、ハイサイドトランジスタ2を構成するPチャネルMOSトランジスタ11がオフとなる。AND回路64の出力はHIZ端子62への入力がハイレベルであるので、インバータ59の出力であるハイレベルがそのまま出力され、ローサイドトランジスタ3を構成するNチャネルMOSトランジスタ13をオンさせる。そのため、出力端子6はGNDレベルとなる。
入力端子7への入力がハイレベルの時は、AND回路63の出力がハイレベルとなり、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ19がオンとなり、PチャネルMOSトランジスタ17がオンとなる。また、AND回路63によりインバータ59の出力がローレベルとなるため、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ21がオフとなり、PチャネルMOSトランジスタ15がオフとなり、ハイサイドトランジスタ2を構成するPチャネルMOSトランジスタ11がオンとなる。AND回路64の出力は、HIZ端子62への入力がハイレベルであるので、インバータ59の出力であるローレベルが出力され、ローサイドトランジスタ3を構成するNチャネルMOSトランジスタ13をオフさせる。そのため、出力端子6は高電圧電源1の電圧に相当するハイレベルとなる。
PDPがサステインモードのときは、HIZ端子62にローレベルが入力され、AND回路63,64の出力が強制的にローレベルとなる。よって、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ19がオフとなり、PチャネルMOSトランジスタ17がオフとなる。つぎに、インバータ59の出力がハイレベルとなるため、レベルシフト回路4を構成するNチャネルMOSトランジスタ21がオンとなり、PチャネルMOSトランジスタ15がオンとなり、ハイサイドトランジスタ2を構成するPチャネルMOSトランジスタ11がオフとなる。また、AND回路64の出力がローレベルのため、ローサイドトランジスタ3を構成するNチャネルMOSトランジスタ13がオフとなってハーフブリッジ構成の出力回路61をハイインピーダンス状態とする、
サステインドライバ回路31の駆動によりプラズマ放電の放電電流を流す場合、ローサイドトランジスタ3の寄生ダイオード14によりGNDから出力端子6へ流し出す点は先行技術と同様である。一方、出力端子6から高電圧電源1側へ流し込むときは、ハイサイドトランジスタ2と並列に接続されたハイサイドダイオード8(NチャネルMOSトランジスタ9のボディダイオード10)により、出力端子6から高電圧電源1へ流し込んで、PDP装置のAC維持放電をさせる。NチャネルMOSトランジスタで構成されるボディダイオード10はハイサイドトランジスタのボディダイオードより電流能力が大きいため、ほとんどの放電電流がここを流れ、PチャネルMOSトランジスタ11のボディダイオード12にはほとんど流れない。したがって、ボディダイオード12での発熱は小さくなり、PチャネルMOSトランジスタ11が発熱によって、破損したり劣化したりする心配がない。
(実施の形態2)
以下、本発明の実施の形態2の高電圧ドライバ回路について、図面を参照しながら説明する。この実施の形態2は、ハイサイドトランジスタ2と並列に設けられるハイサイドダイオード8が、ハイサイドトランジスタ2以上の耐圧をもち、ハイサイドトランジスタ2のボディダイオード12より電流能力が大きく順方向電圧が低い高耐圧ダイオード23からなる点が実施の形態1と異なり、その他の構成は実施の形態1と同様である。
図2において、符号1は高電圧電源を示し、符号61はハーフブリッジ構成の出力回路を示し、符号2はハイサイドトランジスタを示し、符号3はローサイドトランジスタを示し、符号6は出力端子を示し、符号4はレベルシフト回路を示し、符号5はプリドライバ回路を示す。符号13,19,21はそれぞれNチャネルMOSトランジスタを示し、符号11,15,17はそれぞれPチャネルMOSトランジスタを示す。符号12,14,16,18,20,22はそれぞれボディダイオードを示し、符号23は高耐圧ダイオードを示し、符号64,63はそれぞれAND回路を示し、符号59はインバータ回路を示す。符号7は入力端子を示し、符号62はHIZ端子を示す。
以上の高電圧ドライバ回路は、実施の形態1のハイサイドダイオード8であるNチャネルMOSトランジスタ9のボディダイオード(寄生ダイオード)10を高耐圧ダイオード23に置き換えたものであり、それ以外は実施の形態1と同様であるので、詳しい動作説明は割愛する。
ここで、高耐圧ダイオード23の構造について、図4および図5を参照しながら説明する。高耐圧ダイオード23は、半導体基板36に形成された一導電型の低濃度の拡散層60(N型拡散層若しくはP型拡散層)の中に高濃度の反対導電型の拡散層50を形成し、その高濃度の拡散層50から離間した周囲に金属電極67を配置し、高濃度の拡散層50を包囲するようにコンタクト部45を設けて低濃度の拡散層60と金属電極67とを電気接触させている。このように構成すると、低濃度の拡散層60のダイオードの抵抗分48を小さくして、順方向ダイオード電圧を小さくすることができ、プラズマ放電時の発熱を小さくすることができる。
図4および図5において、符号37はSiO2膜を示し、符号38はトレンチを示し、符号47はアノード形成層(P型拡散層)を示し、符号49はカソード形成層(N型拡散層)を示し、符号68は金属電極(ダイオードカソード電極)を示している。
なお、高濃度の拡散層50は、少なくとも六角形以上の多角形をしており、この形状効果により高耐圧特性が得られ、平面形状を円形にするとより大きな耐圧特性が得られる。また、コンタクト部45は、上記高濃度の拡散層50を中央に配置してその周囲を包囲する同心形状になるようにほぼ全域に形成すると、ダイオードの抵抗成分48を小さくして、過大電流が流れる時の実質的な順方向ダイオード電圧を小さくすることができる。
なお、高濃度の拡散層(図示せず)は、少なくとも六角形以上の多角形をしており、この形状効果により高耐圧特性が得られ、平面形状を円形にするとより大きな耐圧特性が得られる。また、コンタクト部(図示せず)は、上記高濃度の拡散層を中央に配置してその周囲を包囲する同心形状になるようにほぼ全域に形成すると、ダイオードの抵抗成分を小さくして、過大電流が流れる時の実質的な順方向ダイオード電圧を小さくすることができる。
本発明の高電圧ドライバは、サステインモード時のプラズマ放電電流を高電圧電源へ流し込む時の発熱低減を図るPDP用スキャンドライバとして有用である。
本発明の実施の形態1による高電圧ドライバ回路の回路構成を示す回路図である。 本発明の実施の形態2による高電圧ドライバ回路の回路構成を示す回路図である。 先行技術の高電圧ドライバ回路の回路構成を示す回路図である。 高耐圧ダイオードの構成を示す断面図である。 高耐圧ダイオードの構成を示す平面図である。
符号の説明
1 高電圧電源
2 ハイサイドトランジスタ
3 ローサイドトランジスタ
4 レベルシフト回路
5 プリドライバ回路
6 出力端子
7 入力端子
8 ハイサイドダイオード
9,13,19,21 NチャネルMOSトランジスタ
11,15,17 PチャネルMOSトランジスタ
10,12,14,16,18,20,22 寄生ダイオード
23 高耐圧ダイオード
36 半導体基板(P型支持基板)
37 SiO2
38 トレンチ
45 アノード側のコンタクト部
47 アノード形成層(P型拡散層)
48 ダイオードの抵抗分
49 カソード形成層(N型拡散層)
50 拡散層(カソード側のコンタクト部)
59 インバータ
60 拡散層(SOI層(P−型拡散層))
61 ハーフブリッジ構成の出力回路
62 HIZ端子
67 金属電極(ダイオードアノード電極)
68 ダイオードカソード電極

Claims (4)

  1. 高電圧電源端子からの電源供給によって動作し、出力端子に接続された容量性負荷を駆動するハーフブリッジ構成の出力回路と、前記ハーフブリッジ構成の出力回路を構成するハイサイドトランジスタのオン・オフを制御するレベルシフト回路と、前記ハーフブリッジ構成の出力回路を構成するローサイドトランジスタおよび前記レベルシフト回路のオン・オフを制御するプリドライバ回路と、前記ハイサイドトランジスタと並列に接続され前記ハイサイドトランジスタのボディダイオードより電流能力の大きいハイサイドダイオードとを備えた高電圧ドライバ回路。
  2. 前記ハイサイドダイオードは、NチャネルMISトランジスタのボディダイオードで構成されている請求項1に記載の高電圧ドライバ回路。
  3. 前記ハイサイドダイオードは、前記ハイサイドトランジスタ以上の耐圧をもつ高耐圧ダイオードで構成されている請求項1に記載の高電圧ドライバ回路。
  4. 前記高耐圧ダイオードは、半導体基板に形成された一導電型の低濃度の拡散層の中に反対導電型の高濃度の拡散層を形成し、その高濃度の拡散層から離間した周囲のほぼ全域を包囲するようにコンタクト部を配置し、前記低濃度の拡散層と金属電極とを電気接触させた構造を有する請求項3に記載の高電圧ドライバ回路。

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