JP2006089832A - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高周波電源113より出力された高周波電力を、整合器114及び高周波電極117を介して反応容器101内に導入し、プラズマを生起して、基体102にプラズマ処理を施す。この際、高周波電源113の出力インピーダンスと整合器114の入り口のインピーダンスとのインピーダンス整合の状態を表す整合パラメーターが、予め設定された設定条件を満たすように、整合器114内の整合回路のインピーダンス調整を実施する。この設定条件は、プラズマ処理条件が一定の際の設定条件をp、プラズマ処理条件が変化する際の設定条件をqとした場合、p⊂qとする。
【選択図】図1A
Description
図1に示した電子写真用感光体製造装置において、発振周波数105MHzの高周波電源113を用い、前記した方法により、反応容器101内に設置された、直径80mm、長さ358mmの円筒状アルミニウムシリンダである基体102上に、表1に示す条件で電荷注入阻止層、光導電層、表面層を形成した電子写真用感光体を、5ロット連続して作製した。
実施例1と同様に図1に示した電子写真用感光体製造装置を使用し、表1に示す条件で電子写真用感光体を5ロット連続して作製した。又、本比較例においても、インピーダンス整合の状態を表す整合パラメーターとしては、高周波電力の反射率(α)を使用するが、プラズマ処理の全工程において、反射率の設定条件をα1≦1.0[%]として、インピーダンス調整を実施した。
実施例1及び比較例1における、各5ロットのうち1回目の電子写真用感光体作製中の反射率の変化の様子を、それぞれ図2及び図3に示す。図中(1)、(2)、(3)はそれぞれ、(1)電荷注入阻止層形成初期に高周波電力を0wから600wまで変化させる部分、(2)連続変化A部、(3)連続変化B部を示している。
作製した各々の電子写真用感光体を本テスト用に改造されたキヤノン製の複写機iR−5000に設置し、評価項目は、『帯電能』及び『感度』の2項目とし、以下の具体的評価法により各項目の評価を行った。
複写機の主帯電器に一定の電流を流したときの現像器位置での暗部電位を『帯電能』とした(但し、周方向一周の平均値とし、又本例においては、母線方向中位置で測定した)。従って、数値が大きいほど良好である。実施例1、比較例1において作製した、それぞれ30本の電子写真用感光体の『帯電能』を測定し、それぞれ30本の平均値を求め、比較例1を基準として以下のランクに区分した。
B:比較例1より5%未満増加
C:比較例1と同等
D:比較例1より減少
『感度』
現像器位置における暗部電位が所定の値となるように、主帯電器の電流値を調整した後、像露光する。ついで像露光光源の光量を調整して、現像器位置における表面電位(明電位)が所定の値となるようにし、そのときの露光量を『感度』とする(但し、周方向一周の平均値とし、又本例においては、母線方向中位置で測定した)。従って、数値が小さいほど良好である。実施例1及び比較例1において作製した、それぞれ30本の電子写真用感光体の『感度』を測定し、それぞれ30本間の平均値を求め、比較例1を基準として以下のランクに区分した。
B:比較例1より5%未満減少
C:比較例1と同等
D:比較例1より増加
これらの評価結果を表2に示す。
作製した各々の電子写真用感光体を本テスト用に改造されたキヤノン製の複写機iR−5000に設置し、評価項目は、『帯電能再現性』及び『感度再現性』の2項目とし、以下の具体的評価法により各項目の評価を行った。
実施例1及び比較例1の各ロットにおいて作製した、それぞれ6本の電子写真用感光体の『帯電能』を測定し、ロット毎に6本の平均値を求めた。次に、実施例1及び比較例1毎に、全ロットの『帯電能』の平均値を求め、M1とした。さらに、実施例1及び比較例1毎に、各5ロット内での『帯電能』の平均値の最大値と最小値の差を求め、M2とした。そして、実施例1及び比較例1それぞれにおいて、M2/M1を求め、『帯電能再現性』として評価した。従って数値が小さいほど良好である。比較例1を基準として以下のランクに区分した。
B:比較例1より30%未満減少
C:比較例1と同等
D:比較例1より増加
『感度再現性』
実施例1及び比較例1の各ロットにおいて作製した、それぞれ6本の電子写真用感光体の『感度』を測定し、ロット毎に6本の平均値を求めた。次に、実施例1及び比較例1毎に、全ロットの『感度』の平均値を求め、m1とした。さらに、実施例1及び比較例1毎に、各5ロット内での『感度』の平均値の最大値と最小値の差を求め、m2とした。そして、実施例1及び比較例1それぞれにおいて、m2/m1を求め、『感度再現性』として評価した。従って数値が小さいほど良好である。比較例1を基準として以下のランクに区分した。
B:比較例1より30%未満減少
C:比較例1と同等
D:比較例1より増加
これらの評価結果を表3に示す。
本実施例では、整合器114によるインピーダンス調整を自動制御によって実行する以外は、実施例1と同様の条件で、電子写真用感光体を作製した。又、本実施例においても、5ロット連続して電子写真用感光体の作製を行った。
実施例2において作製した、各30本の電子写真用感光体の電子写真特性及び再現性を実施例1と同様の方法で評価した。
本実施例では、発振周波数が
(イ) 30MHz
(ロ) 50MHz
(ハ) 250MHz
(ニ) 300MHz
の高周波電源113を使用した以外は、実施例1と同様の条件で、計4種類の電子写真用感光体の作製を行った。この際、本実施例においては、(イ)〜(ニ)それぞれについて、5ロット連続して、電子写真用感光体の作製を行った。
実施例3の(イ)〜(ニ)において作製した、それぞれ30本の電子写真用感光体の『帯電能』、『感度』を実施例1と同様に評価した。
本実施例では、インピーダンス整合の状態を表す整合パラメーターとしては、反射率(α)を使用し、プラズマ処理条件が一定の場合と、プラズマ処理条件が変化する場合とで、反射率(α)の設定条件として異なる範囲を設定した。すなわち、プラズマ処理条件が一定の場合においては、α1≦1.0[%]、プラズマ処理条件が変化する場合においては、α2≦4.0[%]、と設定した。それ以外は実施例1と同様にして、5ロット連続して電子写真用感光体の作製を行った。
実施例4において作製した、各30本の電子写真用感光体の電子写真特性を実施例1と同様の方法で評価し、実施例1と同様に比較例1を基準としてランク区分を行った。その結果を表6に示す。
本実施例では、インピーダンス整合の状態を表す整合パラメーターとして、高周波電源より出力される全電流と高周波電圧の位相差、及び高周波電源の出力インピーダンスと整合回路の入り口インピーダンス間のインピーダンス差を使用した以外は実施例1と同様にして、5ロット連続して電子写真用感光体を作製した。
本実施例では、図4に示した製造装置を用いた。この装置は発振周波数105MHzの高周波電源113A及び発振周波数70MHzの高周波電源113Bを使用し、2つの周波数の高周波電力を整合器114内の整合回路を介した後、重畳させて高周波電極109に供給する以外は、図1に示した電子写真感光体製造装置と同様である。プラズマ処理条件は表7に示す条件を使用し、他は実施例1と同様の方法で、5ロット連続して電子写真用感光体を作製した。
102 基体
109 高周波電極
113 高周波電源
114 (整合回路を内包する)整合器
Claims (9)
- 高周波電源より出力された高周波電力を、整合回路及び高周波電極を介して反応容器内に導入し、前記反応容器内にプラズマを生起して、前記反応容器内に設置された基体に処理を施すプラズマ処理方法において、
前記高周波電源の出力インピーダンスと前記整合回路の入り口のインピーダンスとのインピーダンス整合の状態を表す整合パラメーターが、予め設定された設定条件を満たすように、前記整合回路のインピーダンス調整をプラズマ処理中に実行する工程を有し、
プラズマ処理条件が一定の際の前記整合パラメーターの設定条件をp、プラズマ処理条件が変化する際の前記整合パラメーターの設定条件をqとした場合、p⊂qとすることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 前記整合回路によるプラズマ処理中のインピーダンス調整を自動制御によって実施することを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ処理方法。
- 前記整合パラメーターが、前記高周波電力の反射率αであることを特徴とする、請求項1乃至2に記載のプラズマ処理方法。
- 前記反射率αの設定条件を、プラズマ処理条件が一定の際はα1≦xとし、プラズマ処理条件が変化する際はα2≦yとした場合、x<y≦3xを満たすことを特徴とする、請求項3に記載のプラズマ処理方法。
- 前記整合パラメーターを高周波電源より出力される全電流と高周波電圧の位相差、及び高周波電源の出力インピーダンスと整合回路の入り口インピーダンス間のインピーダンス差とし、前記整合パラメーターの設定条件を前記位相差及びインピーダンス差が所定の範囲となるという条件とすることを特徴とする、請求項1乃至2に記載のプラズマ処理方法。
- 前記プラズマ処理条件が、前記高周波電力の出力値、堆積膜形成用ガスの種類及び流量、前記反応容器内圧力、及び基体温度の内の少なくとも1つであることを特徴とする、請求項1乃至5に記載のプラズマ処理方法。
- 前記高周波電力の周波数が50MHz以上250MHz以下であることを特徴とする、請求項1乃至6に記載のプラズマ処理方法。
- 前記高周波電力として、異なる周波数の高周波電力をそれぞれの整合回路を介した後重畳し、その後、前記高周波電極を介して前記反応容器内に導入することを特徴とする、請求項1乃至7に記載のプラズマ処理方法。
- 前記プラズマ処理方法が、電子写真感光体用の堆積膜を形成するものであることを特徴とする、請求項1乃至8に記載のプラズマ処理方法。
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JP2008118017A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理方法および処理装置 |
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JP2003179045A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-06-27 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置及びその制御方法 |
JP2003268557A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-09-25 | Canon Inc | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 |
JP2004156059A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-06-03 | Canon Inc | プラズマ処理方法 |
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