JP2006080216A - 基板の品質評価方法および検査装置 - Google Patents

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Masashi Uehara
昌史 上原
Masatoshi Yamaya
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Abstract

【課題】 パッドの中心座標を短時間で精度よく求めることにより、貫通穴中心のパッド中心に対するずれ量の検出精度を向上させ、信頼性に優れる基板の品質評価方法および検査装置を提供する。
【解決手段】 基板1の表面側または裏面側から光を照射して基板1に加工された貫通穴4を撮像し、得られた撮像データから貫通穴4の中心Pの座標を求め、基板1の表面側および裏面側から光を照射して基板1の表面側に形成されたパッド3を撮像し、得られた撮像データから前記パッド3の中心Oの座標を求める。そして、パッド3毎に、貫通穴中心Pのパッド中心Oに対するずれ量δを求め、求めたずれ量δが許容値内にある場合は合格、ずれ量δが1箇所でも許容値から外れている場合は不合格とする。
【選択図】 図2

Description

本発明は、パッドに加工された貫通穴中心のパッド中心に対するずれ量から基板の品質を評価するようにした基板の品質評価方法および検査装置に関する。
電子機器の小型化、高密度実装化に伴い、プリント基板は複数の基板を積層した多層配線基板が主流となっている。多層配線基板では、上下に積層された基板間の導電層を電気的に接続する必要がある。そこで、多層配線基板の絶縁層に下層の導電層に達するビアホール(貫通穴)を形成し、ビアホールの内部に導電性メッキを施すことにより、上下に積層された基板間の導電層を電気的に接続している。
図4は、基板の構成を模式的に示す図であり、(a)は平面図、(b)は断面図である。
絶縁物2で形成された基板1の表面には導電性のパッド(銅箔)3が配置されている。パッド3には多層基板を上下に接続するための貫通穴4が加工されている。貫通穴4の中心Pがパッド3の中心Oからずれていると、上下に配置される基板1間の導通が不十分になり、所望の性能が得られない場合がある。そこで、生産性および基板の信頼性を向上させるため、貫通穴4を加工した後、中心Pの中心Oに対するずれ量を調べ、このずれ量が予め定める範囲内にある場合は、基板1を製品とするために次の工程に送り、その他の場合は不良品として修正または廃棄する。
中心Pの中心Oに対するずれ量は、以下のようにして求める。図4に示すパッド3の近傍を上方から照射すると、絶縁物2からの反射光強度はパッド3からの反射光強度よりも小さい。また、貫通穴4からの反射光はほとんどなく、強度は0に近い。そこで、同図に示す領域を撮像し、絶縁物2からの反射光強度よりも大きい値を閾値として撮像データを2値化すると、パッド3の領域と貫通穴4の領域を同時に識別することができる。得られた領域に基づいて貫通穴4およびパッド3の輪郭を識別し、それぞれの輪郭から中心Oと中心Pの座標を求めるようにすれば、中心Pの中心Oに対するずれを直ちに求めることができる。しかし、輪郭を求める演算は時間を要する。
そこで、2値化されたデータの面積重心をそれぞれの中心とすることにより作業能率を向上させていた。
なお、撮像データを2値化して被写体を識別する例として、特許文献1では、フラックスを介してプリント基板の表面に載置されたはんだボールの位置を検査するため、はんだボールが載置されたプリント基板の表面をラインカメラで撮像し、ラインカメラから出力されたビデオ信号の電圧(すなわち撮像データ)を予め定める電圧値と比較することにより白と黒の2値データに分け、黒のデータをプリント基板、白のデータをはんだボールとして識別している。
特開2001−326456号公報
貫通穴の中心は、面積重心とほぼ一致するが、パッドの面積重心は貫通穴の位置により値が変化する。このため、貫通穴中心のパッド中心に対するずれ量を正確に求めることはできない。
本発明の目的は、パッドの中心座標を短時間で精度よく求めることにより、貫通穴中心のパッド中心に対するずれ量の検出精度を向上させ、信頼性に優れる基板の品質評価方法および検査装置を提供するにある。
上記した課題を解決するため、本発明の第1の手段は、基板表面上のパッドに加工された貫通穴の位置精度を、前記貫通穴中心の前記パッド中心に対するずれ量に基づいて評価するようにした基板の品質評価方法において、前記基板の表面側または裏面側から光を照射して前記貫通穴を撮像し、得られた撮像データから前記貫通穴中心の座標を求め、前記基板の表面側および裏面側から光を照射して前記パッドを撮像し、得られた撮像データから前記パッド中心の座標を求め、得られた前記パッド中心の座標と前記貫通穴中心の座標とから前記位置精度を評価することを特徴とする。
また、本発明の第2の手段は、上記第1の手段である基板の品質評価方法において、前記基板の裏面側から照射され前記貫通穴を透過する光の前記基板の表面における強度が前記パッドから反射される反射光の強度と同等以上になるように、前記基板の裏面側から照射される光の強度を設定することを特徴とする。
また、本発明の第3の手段は、撮像装置と、前記撮像データを処理する画像処理装置と、前記画像処理装置によって処理されたデータを用いて判定を行う判定処理装置と、前記基板の表面側に配置され前記基板を照射する第1の照射装置と、前記基板の裏面側に配置され前記基板を照射する第2の照射装置と、を備え、基板表面上のパッドに加工された貫通穴の位置精度を、前記貫通穴中心の前記パッド中心に対するずれ量に基づいて評価するようにした基板の検査装置において、前記第1または第2の照射装置により前記基板を照射して前記貫通穴を撮像し、得られた撮像データから前記貫通穴中心の座標を求め、前記第1および第2の照射装置により前記基板を照射して前記パッドを撮像し、得られた撮像データから前記パッド中心の座標を求め、得られた前記貫通穴中心の座標と前記パッド中心の座標とから前記位置精度を評価することを特徴とする。
パッドに加工された貫通穴の影響を受けることなくパッド中心の座標を正確に求めることができるので、評価の信頼性を向上させることができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る被加工物の検査装置の概略構成を示す図である。
XYテーブル10は、中央部に穴10aが形成されており、図示を省略する駆動装置により水平なX、Y方向に移動自在である。
XYテーブル10上には、上ガラス11および下ガラス12を介してワークである基板1が固定されている。
XYテーブル10の上方にはCCDカメラ13と照明装置14とが配置され、下方には照明装置15が配置されている。
CCDカメラ13は、図示を省略する上下駆動装置により、図の上下方向に移動自在である。CCDカメラ11は、画像処理装置16、判定処理装置17を介して制御装置18に接続されている。
制御装置18は、XYテーブル10、CCDカメラ13、CCDカメラ13の上下駆動装置、照明装置14、15、画像処理装置16および判定処理装置17を制御する。
次に、本発明の動作を説明する。
図2は、本発明の作業手順を示すフローチャートである。また、図3は撮像データを模式的に示す図であり、(a)は貫通穴、(b)はパッドである。
まず、基板1に形成された総ての貫通穴中心の座標(すなわち貫通穴4の中心座標)を以下の手順により求める(手順S10)。
すなわち、照明装置15を動作(点灯)させた状態で基板1に加工された総ての貫通穴4を撮像し、得られた撮像データを画像処理装置16により2値化し、判定処理装置17によりそれぞれの貫通穴4の中心座標Pを求め、求めた結果を記憶装置に記憶あるいはファイルに保存する。
このように基板1を裏面側(下側)から照射すると、図3(a)に示すように、貫通穴4の輪郭が鮮明になるので、貫通穴4を容易に識別できる。したがって、各貫通穴4の中心座標Pを精度良く求めることができる。
次に、基板1に形成された総てのパッド中心の座標(すなわちパッド3の中心座標)を以下の手順により求める(手順S20)。
すなわち、照明装置14と照明装置15を動作させた状態で基板1に加工された総てのパッド3を撮像し、得られた撮像データを画像処理装置16により2値化し、判定処理装置17によりそれぞれのパッド中心の座標Oを求め、求めた結果を記憶装置に記憶あるいはファイルに保存する。
なお、照明装置15は、貫通穴4を透過する光の基板1の表面における強度がパッド3から反射される反射光の強度と同等以上になるように、照度を調整しておく。
このように基板1を裏面側(下側)から照射すると、図3(b)に示すように、輪郭を2点鎖線で示す貫通穴4は2値化する際にパッド3と見なされるので、パッド3を容易に識別できる。したがって、各パッドの中心座標を面積重心としても精度良く求めることができる。
次に、各パッドにおいてパッドの中心座標と貫通穴の中心座標から貫通穴中心Pのパッド中心Oに対するずれ量δを求め、求めた結果を記憶する(手順S30)。そして、総てのパッド3において貫通穴4のずれ量δが予め設定された許容値内であるかどうかを確認し(手順S40)、ずれ量δが予め設定された許容値内の場合は検査した基板1が合格であることを表示して(手順S50)、処理を終了する。また、ずれ量δが予め設定された許容値から外れるものが1箇所でもある場合は、該当するパッド3の位置とずれ量δを記録し(手順S60)、不合格を表示して(手順S70)、処理を終了する。
なお、上記の実施形態では、手順S10において照明装置15を動作させたが、照明装置14を用いて基板1の上方から貫通穴4を照射するようにしても良い。
また、手順S50において、ずれ量δを出力するようにしてもよい。
本発明の実施形態に係る被加工物の検査装置の概略構成を示す図である。 本発明の作業手順を示すフローチャートである。 本発明における撮像データを模式的に示す図である。 従来技術の説明図である。
符号の説明
1 基板
3 パッド
4 貫通穴
O パッド3の中心
P 貫通穴4の中心
δ ずれ量

Claims (3)

  1. 基板表面上のパッドに加工された貫通穴の位置精度を、前記貫通穴中心の前記パッド中心に対するずれ量に基づいて評価するようにした基板の品質評価方法において、
    前記基板の表面側または裏面側から光を照射して前記貫通穴を撮像し、得られた撮像データから前記貫通穴中心の座標を求め、
    前記基板の表面側および裏面側から光を照射して前記パッドを撮像し、得られた撮像データから前記パッド中心の座標を求め、
    得られた前記パッド中心の座標と前記貫通穴中心の座標とから前記位置精度を評価することを特徴とする基板の品質評価方法。
  2. 前記基板の裏面側から照射され前記貫通穴を透過する光の前記基板の表面における強度が前記パッドから反射される反射光の強度と同等以上になるように、前記基板の裏面側から照射される光の強度を設定することを特徴とする請求項1に記載の基板の品質評価方法。
  3. 撮像装置と、前記撮像データを処理する画像処理装置と、前記画像処理装置によって処理されたデータを用いて判定を行う判定処理装置と、前記基板の表面側に配置され前記基板を照射する第1の照射装置と、前記基板の裏面側に配置され前記基板を照射する第2の照射装置と、を備え、基板表面上のパッドに加工された貫通穴の位置精度を、前記貫通穴中心の前記パッド中心に対するずれ量に基づいて評価するようにした基板の検査装置において、
    前記第1または第2の照射装置により前記基板を照射して前記貫通穴を撮像し、得られた撮像データから前記貫通穴中心の座標を求め、
    前記第1および第2の照射装置により前記基板を照射して前記パッドを撮像し、得られた撮像データから前記パッド中心の座標を求め、
    得られた前記貫通穴中心の座標と前記パッド中心の座標とから前記位置精度を評価することを特徴とする基板の検査装置。
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