JP2006073861A - 磁気記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の磁気記憶装置は、強磁性体層4と強磁性体層6との各々の磁化の向きに基づいて記憶状態を判定する磁気記憶装置であって、反強磁性体層3と、反強磁性体層3上に形成され、磁化の向きが固定された強磁性体層4と、強磁性体層4上に形成された非磁性体層5と、非磁性体層5上に形成され、外部磁場によって磁化の向きが変化する強磁性体層6と、強磁性体層6上に形成された金属膜7とを備えている。金属膜7はRuを含み、かつ強磁性体層6の膜厚は1.5nm以上5nm以下である。好ましくは、強磁性体層6の膜厚は3nm以下である。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1におけるTMR素子の構成を示す断面図である。図1に示すように、TMR素子1は、反強磁性体層3と、固定層としての強磁性体層4と、第1非磁性体層としての非磁性体層5と、自由層としての強磁性体層6と、金属膜7とを備えている。反強磁性体層3は、たとえば下地膜2などの上に形成されている。強磁性体層4は反強磁性体層3上に形成されており、反強磁性体層3との間の交換結合バイアス磁界によってその磁化方向が所定方向に固定されている。非磁性体層5は強磁性体層4上に形成されており、強磁性体層6は非磁性体層5上に形成されている。強磁性体層6の磁化の向きは、外部磁場に応答して自由に変化するようになっており、強磁性体層4の磁化の向きに対して平行あるいは反平行となるようになっている。金属膜7はキャップ層であり、強磁性体層6上に形成されている。言い換えれば、金属膜7と強磁性体層6とは直接接している。本実施の形態において、金属膜7はRuよりなっている。また、強磁性体層6の膜厚は1.5nm以上5nm以下となっており、好ましくは3nm以下である。
図8は、本発明の実施の形態2におけるTMR素子の構成を示す断面図である。図8に示すように、本実施の形態のTMR素子11においては、固定層がSAF(Synthetic Anti-Ferromagnetics)構造となっている。すなわち、TMR素子11は、強磁性体層4の代わりに、第1強磁性体層としての強磁性体層15と、第2非磁性体層としての非磁性体層16と、第2強磁性体層としての強磁性体層17とを備えている。固定層は、強磁性体層15と、非磁性体層16と、強磁性体層17とによって構成されている。強磁性体層15は下地膜2上に形成されており、強磁性体層15は非磁性体層16上に形成されている。そして、非磁性体層16上に強磁性体層17が形成されており、強磁性体層17上には非磁性体層5が形成されている。
Claims (4)
- 固定層と自由層との各々の磁化の向きに基づいて記憶状態を判定する磁気記憶装置であって、
反強磁性体層と、
前記反強磁性体層上に形成され、磁化の向きが固定された前記固定層と、
前記固定層上に形成された第1非磁性体層と、
前記第1非磁性体層上に形成され、外部磁場によって磁化の向きが変化する前記自由層と、
前記自由層上に形成された金属膜とを備え、
前記金属膜はルテニウムを含み、かつ前記自由層の膜厚は1.5nm以上5nm以下である、磁気記憶装置。 - 前記自由層の膜厚は3nm以下である、請求項1に記載の磁気記憶装置。
- 前記自由層はニッケルと鉄とを含んでいることを特徴とする、請求項1または2に記載の磁気記憶装置。
- 前記固定層は、第1強磁性体層と、前記第1強磁性体層上に形成された第2非磁性体層と、前記第2非磁性体層上に形成された第2強磁性体層とを有する、請求項1〜3のいずれかに記載の磁気記憶装置。
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