JP2006060215A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】個別に制御可能な素子のアレイは、反射器の複数の列からなる複数の制御領域を備える。反射器の交互の列は、制御領域が、回折光学素子として使用されることができる制御素子を提供するために格子として機能するように、共通の方法で作動される。
【選択図】図2a
Description
特定の参照が、集積回路(IC)製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して本明細書において行われ得るが、本明細書に記載されるリソグラフィ装置は、集積された光学システム、磁気ドメイン・メモリに関する案内及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造などの他の適用を有することができることは理解されるべきである。当業者は、そのような代わりの適用に関連して、本明細書における用語「ウエハ」又は「ダイ」の任意の使用は、それぞれより一般的な用語「基板」又は「ターゲット部分」と同じ意味と考えることができる。本明細書で参照される基板は、露光の前又は後で、例えばトラック(例えば、一般に基板にレジストの層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール)又は度量衡又は検査ツールで処理されることができる。適切であれば、本明細書における開示は、そのような基板処理ツール及び他の基板処理ツールに適用されることができる。さらに、基板は、例えば複数層のICを作るために1回より多く処理されることができ、本明細書で使用される用語の基板は、既に処理された複数層を含む基板を参照することもある。
図1は、本発明の実施例によるリソグラフィ投影装置100を概略的に示す。装置100は、放射システム102、個別に制御可能な素子104のアレイ、対象物テーブル106(例えば、基板テーブル)、及び投影システム(「レンズ」)108を少なくとも含む。
図2a及び図2bは、リソグラフィ装置における個別に制御可能な素子のアレイで使用される回折光学MEMSデバイスの動作を示す。図2a及び図2bにおいて、回折光学MEMSデバイス10は、一連の並列の反射リボン11、12、13、14、15、及び16から作られる。デバイスは、2つの状態間を切り替えられることができる。図2aに示されるように第1の状態において、全ての反射リボンは、同一の平面内にあり、デバイスは、回折されていない光を反射する平面反射器として作用する。図2bに示されるように第2の状態において、これらの反射リボン11、13、15が、変位されていない反射リボン12、14、16が残る平面に平行である平面とは異なる平面にあるように交互のリボン11、13、15は、変位される。第2の状態にある回折光学MEMSデバイス10は、回折された光を反射する格子として機能する。
図3aから図3fは、本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の代わりの位置を示す。
図4は、本発明の一実施例によるプログラム可能な素子のアレイ402のための制御システム400を示す。ただ2個の素子404が示されているが、プログラム可能な素子のアレイは、そのいくつかの例が上述された、所望の任意の形状で任意の構成の多くの素子を有することができる。コントローラ406及び電源408は、各素子404に関連付けられるアクチュエータ410に結合される。
本発明の様々な実施例が、上述されたが、それら実施例は、例示だけによって示され限定されないことを理解すべきである。形態及び詳細における様々な変更は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、それらに行われ得ることは当業者には明らかである。したがって、本発明の幅及び範囲は、任意の上述された例示的な実施例によって制限されるべきでなく、以下の特許請求項及びそれらの均等物にしたがってだけで定義されるべきである。
11、12、13、14、15、16 反射リボン
20 制御領域
21、50 反射器
22 開口
23、51 ヒンジ
24、52 傾斜軸
25 支持部分
31、32、33、34、53、54、55、56、61、62、63、64、65 列
100 リソグラフィ投影装置
102 放射システム
104 個別に制御可能な素子
106 対象物テーブル
108 投影システム
110 ビーム
112 放射源
114 基板
116 位置決めデバイス
118、140 ビーム・スプリッタ
122 ビーム
124 照明器
126 ビーム・エキスパンダ
128 調整デバイス
130 インテグレータ
132 コンデンサ
134 干渉測定デバイス
136 ベース・プレート
138 干渉ビーム
400 制御システム
402 プログラム可能な素子のアレイ
404 素子
406 コントローラ
408 電源
410 アクチュエータ
412 ピボット・ロッド
414a、414b 接点
416 コンデンサ
418 スイッチ
Claims (17)
- リソグラフィ装置であって、
放射のビームを供給する照明システムと、
前記ビームをパターン形成する反射器のアレイであって、各反射器は、前記反射器を位置付ける関連付けられたアクチュエータを有し、前記反射器のアレイは、それぞれ1つ以上の前記反射器の列を備える複数の制御領域を有する、反射器のアレイと、
各前記複数の制御領域における前記1つ以上の反射器の列の交互の列が、第1の共通位置に設定され、前記複数の制御領域における残りの1つ以上の反射器の列が、第2の共通位置に設定されるように、制御信号を前記アクチュエータに提供するコントローラと、
前記パターン形成されたビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを備えるリソグラフィ装置。 - 各前記複数の制御領域は、前記反射器の1つ以上の列の少なくとも3つ隣接する列を含む請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 各前記反射器の1つ以上の列は、前記反射器の少なくとも3つの隣接する反射器を含む請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラからの共通制御信号は、前記第1の共通位置を設定するために、前記複数の制御領域のそれぞれの制御領域における、前記1つ以上の反射器の交互の列に対応する前記アクチュエータに提供される請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラからの第2の共通制御信号は、前記第2の共通位置を設定するために、前記複数の制御領域における、前記1つ以上の反射器の残りに関連付けられた前記アクチュエータに提供される請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラからの共通制御信号は、前記反射器の位置を設定するために、前記複数の制御領域の第1の制御領域における全ての前記反射器に関連付けられた前記アクチュエータに提供され、
前記複数の制御領域の第1の制御領域の前記交互の列における前記反射器に関連付けられた前記アクチュエータは、前記制御信号に応答して第1の方向に前記反射器を作動し、
前記複数の制御領域の第1の制御領域における前記残りの反射器に関連付けられた前記アクチュエータは、前記制御信号に応答して第2の方向に前記残りの反射器を作動する請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記複数の制御領域の第1の制御領域における前記反射器は、作動されたときにそれぞれの傾斜軸に周りで回転し、
前記それぞれの傾斜軸は、相互に平行であり、
前記第1及び第2の方向は、前記傾斜軸の周りで反対方向の回転である請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記複数の制御領域における前記反射器は、第1の方向に実質的に平行であるそれぞれの傾斜軸の周りを回転し、
前記反射器の前記1つ以上の列は、前記第1の方向に実質的に垂直に配置される請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記複数の制御領域における前記反射器は、第1の方向に実質的に平行であるそれぞれの傾斜軸の周りを回転し、
前記反射器の前記1つ以上の列は、前記第1の方向に実質的に平行に配置される請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記複数の制御領域における前記反射器は、第1の方向に実質的に平行であるそれぞれの傾斜軸の周りを回転し、
前記反射器の前記1つ以上の列は、前記第1の方向に対して実質的に45°に配置される請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記複数の制御領域における前記反射器の1つ以上の列の前記反射器に関連付けられた前記アクチュエータは、前記反射器がともに作動されるように共通構成部品を共有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータは、前記反射器とともに移動する導体と、前記反射器のアレイのベース上の導体との間に力を生成する容量アクチュエータであり、
前記列における前記反射器に関連付けられる前記アクチュエータは、前記ベース上の共通導体を有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 1つ以上の制御領域を有する反射器のアレイであって、前記反射器のアレイは、リソグラフィ装置における放射のビームを変調し、前記リソグラフィ装置は、
反射器のアレイにおけるそれぞれの反射器を位置付けるアクチュエータと、
各前記1つ以上の制御領域における前記反射器の交互の列が、第1の共通位置に設定され、前記反射器の列の残りの列が、第2の共通位置に設定されるように、制御信号を前記アクチュエータに提供するコントローラとを備える反射器のアレイ。 - 各前記1つ以上の制御領域は、前記反射器の列の少なくとも3つの隣接する列を含む請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記各反射器が所望の位置に独立して設定されるように、前記コントローラが、制御信号を前記アクチュエータへ提供する第2の構成に切り替えられる請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
(a)反射器のアレイを使用して放射のビームをパターン形成するステップと、
(b)前記反射器のアレイ内に1つ以上の制御領域を提供するステップであって、前記反射器のアレイにおけるそれぞれの反射器は、関連付けられるアクチュエータによって位置付けられる、1つ以上の制御領域を提供するステップと、
(c)各前記1つ以上の制御領域における前記反射器の交互の列が、第1の共通位置に設定され、前記反射器の列の残りの列が、第2の共通位置に設定されるように、制御信号を前記アクチュエータに提供するステップと、
(d)基板のターゲット部分上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む方法。 - ステップ(b)は、各前記1つ以上の制御領域における前記反射器の列の少なくとも3つの隣接する列を使用することを含む請求項16に記載の方法。
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