JP2006060215A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】個別に制御可能な素子の改善されたアレイを有するリソグラフィ装置で使用するためのシステム及び方法を提供する。
【解決手段】個別に制御可能な素子のアレイは、反射器の複数の列からなる複数の制御領域を備える。反射器の交互の列は、制御領域が、回折光学素子として使用されることができる制御素子を提供するために格子として機能するように、共通の方法で作動される。
【選択図】図２ａ

Description

本発明は、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。

リソグラフィ装置は、基板のターゲット部分上に所望のパターンを与える機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）、フラット・パネル・ディスプレイ、及び微細な構造を含む他のデバイスの製造において使用されることができる。従来のリソグラフィ装置において、代わりにマスク又はレチクルと呼ばれるパターン形成手段は、ＩＣ（又は他のデバイス）の個別層に対応する回路パターンを生成するために使用されることができ、このパターンは、放射感受性材料（例えば、レジスト）の層を有する基板（例えば、シリコン・ウエハ又はガラス・プレート）上のターゲット部分（例えば、１つ又はいくつかのダイの一部からなる）上に画像形成されることができる。マスクの代わりに、パターン形成手段は、回路パターンを生成する個別に制御可能な素子のアレイを備えることができる。

一般に、単一の基板が、連続して露光される隣接するターゲット部分のネットワークを含む。知られているリソグラフィ装置は、各ターゲット部分が、一回でターゲット部分上にパターン全体を露光することによって照射されるステッパと、各ターゲット部分が、所定の方向（「走査」方向）でビームを介してパターンを走査することによって照射され、一方、同期してこの方向に平行に又は反平行に基板を走査するスキャナとを含む。

放射のビームをパターン形成するために、粘弾性（例えば、粘性並びに弾性特性を有する）制御層及び反射表面を有するマトリクス・アドレス指定可能な表面を、個別に制御可能な素子のアレイとして使用することが提案された。粘弾性制御層がアドレス指定されると、その表面は、例えば正弦波を形成するために変形する。そのような装置の基になる基本的な原理は、反射表面の正弦波の形状は、格子として作用するので、反射表面のアドレス指定された領域は、回折光として入射光を反射し、一方アドレス指定されていない領域は、非回折光として入射光を反射することである。適切な空間フィルタを使用して、回折されていない光は、反射されたビームをフィルタリングして取り除かれることができ、回折された光だけ基板に到達する。このように、ビームは、マトリクス・アドレス指定可能な表面のアドレス指定パターンに応じてパターン形成される。

回折光学ＭＥＭＳデバイスのアレイを使用する、対応するデバイスも提案された。各回折光学ＭＥＭＳデバイスは、複数の反射リボンを含み、これら反射リボンは、回折光として入射光を反射する格子を形成するために、互いに対して変形されることができる。

しかしながら、上述されたような個別に制御可能な素子のアレイに関する構成は、製造することが困難である。特に、反射表面下の制御回路の形成は、製造の間に処理ステップの順番に対する制約を課す。さらに個別の素子は、一般に個別の素子の周囲に十分な空間の量を必要とする。これは、特に回折光学ＭＥＭＳデバイスにおいて真実である。例えば、これは、駆動電子装置を提供して行われることができる。これは、個別に制御可能な素子の密な充填を妨げる。

個別に制御可能な素子のアレイとして使用されるさらなる代替は、小さなミラーのマトリクス構成である。各ミラーが、所望の方向に到来する放射を反射するために独立して制御されることができるように、ミラーは、マトリクス・アドレス指定可能である。所定の方向の反射放射だけが、基板上に投影される（すなわち、投影システムのひとみに入る）。したがって、個別ミラーを適切にアドレス指定することによって、放射ビームは、所望なようにパターン形成されることができる。しかしながら、各ミラーの位置が、非常に正確に制御されなければならないので、実際に実行することは困難である。
米国特許第５，２９６，８９１号明細書 米国特許第５，５２３，１９３号明細書 国際公開第９８／３８５９７号パンフレット 国際公開第９８／３３０９６号パンフレット 米国特許第５，２２９，８７２号明細書

したがって必要とされることは、個別に制御可能な素子の改善されたアレイを有するリソグラフィ装置で使用するためのシステム及び方法である。

本発明の実施形態によれば、放射のビームを供給する照明システムと、ビームをパターンで変調するように作用する反射器のアレイとを備えるリソグラフィ装置が提供される。各反射器は、反射器を位置付けることができる関連付けられたアクチュエータを有する。反射器のアレイは、それぞれ少なくとも３つの隣接する反射器の列を備える複数の制御領域を有する。コントローラは、各制御領域における反射器の交互の列が、第１の共通位置に設定されるように、制御信号をアクチュエータに提供するように構成される。残りの列は、第２の共通位置に設定される。基板テーブルは基板を支持する。投影システムは、反射器のアレイから反射された放射を基板のターゲット部分上に投影する。

本発明の他の実施形態によれば、反射器を位置付けるように構成された複数のアクチュエータと、制御信号をアクチュエータに提供するコントローラとを備えるリソグラフィ装置において、放射のビームを変調するように構成された反射器のアレイが提供される。アレイは、それぞれ少なくとも３つの隣接する反射器の列を備える複数の制御領域を有する。コントローラは、各制御領域における反射器の交互の列が、第１の共通位置に設定され、反射器の列の残りの列が、第２の共通位置に設定されるように、制御信号を制御領域における反射器に関連付けられたアクチュエータに提供するように構成されることができる。

本発明のさらなる実施形態によれば、以下のステップを含むデバイス製造方法が提供される。基板を提供するステップ。照明システムを使用して放射のビームを提供するステップ。それぞれ少なくとも３つの隣接する反射器の列を備える複数の制御領域を含む反射器のアレイを使用するステップ。反射器のアレイは、ビームをパターンで変調する。各反射器は、関連付けられたアクチュエータによって位置付けられる。制御信号をアクチュエータに提供するステップ。各制御領域における反射器の交互の列は、第１の共通位置に設定される。反射器の残りの列は、第２の共通位置に設定される。反射器のアレイから反射された放射を、基板のターゲット部分上に投影するステップ。

本発明のさらなる実施例、特徴、及び利点、並びに本発明の様々な実施例の構造及び動作は、添付の図面を参照する以下の詳細に記載される。

本明細書に組み込まれ、かつ明細書の一部を形成する添付の図面は、本発明を図示し、かつ記載とともに本発明の原理を説明し、当業者が本発明を作りかつ使用することを可能にするようにさらに作用する。

本発明は、添付の図面を参照して記載される。図面において、類似する参照符号は、同一又は機能的に類似する要素を示すことがある。

概略及び用語
特定の参照が、集積回路（ＩＣ）製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して本明細書において行われ得るが、本明細書に記載されるリソグラフィ装置は、集積された光学システム、磁気ドメイン・メモリに関する案内及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造などの他の適用を有することができることは理解されるべきである。当業者は、そのような代わりの適用に関連して、本明細書における用語「ウエハ」又は「ダイ」の任意の使用は、それぞれより一般的な用語「基板」又は「ターゲット部分」と同じ意味と考えることができる。本明細書で参照される基板は、露光の前又は後で、例えばトラック（例えば、一般に基板にレジストの層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール）又は度量衡又は検査ツールで処理されることができる。適切であれば、本明細書における開示は、そのような基板処理ツール及び他の基板処理ツールに適用されることができる。さらに、基板は、例えば複数層のＩＣを作るために１回より多く処理されることができ、本明細書で使用される用語の基板は、既に処理された複数層を含む基板を参照することもある。

本明細書で用いられる用語「個別に制御可能な素子のアレイ」又は「反射器のアレイ」は、所望のパターンが、基板のターゲット部分に作られることができるように、到来する放射ビームにパターン形成された断面を与えるために使用されることができる任意のデバイスを参照するものとして広く解釈されるべきである。用語「光バルブ」及び「空間光変調器」（Ｓｐａｔｉａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ、ＳＬＭ）は、これに関連して使用されることもできる。そのようなパターン形成デバイスの例は、以下に議論される。

プログラム可能なミラー・アレイは、粘弾性制御層及び反射表面を有するマトリクス・アドレス指定可能な表面を備えることができる。そのような装置の背景にある基本的な原理は、例えば、反射表面のアドレス指定された領域は、回折光として入射光を反射し、一方アドレス指定されていない領域は、非回折光として入射光を反射することである。適切な空間フィルタを使用して、回折されていない光は、反射された光をフィルタリングして取り除かれることができ、回折された光だけは基板に到達する。このように、ビームは、マトリクス・アドレス指定可能な表面のアドレス指定パターンに応じてパターン形成される。

代替として、フィルタは、回折光をフィルタリングして取り除くことができ、回折されていない光は基板に到達することが理解される。回折光マイクロ電子機構システム（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍ、ＭＥＭＳ）デバイスのアレイは、対応する方法で使用されることもできる。各回折光ＭＥＭＳデバイスは、複数の反射リボンを含むことができ、これら反射リボンは、回折光として入射光を反射する格子を形成するために、互いに対して変形されることができる。

さらなる代替実施例は、それぞれ適切に局所化された電界を印加することによって、又は圧電作動手段を用いることによって、軸の周りで個別に傾斜されることができる、小さなミラーのマトリクス構成を用いるプログラム可能なミラー・アレイを含むことができる。再びミラーは、アドレス指定されたミラーが、到来する放射ビームを異なる方向でアドレス指定されていないミラーに反射するように、マトリクス・アドレス指定可能である。このように、反射されたビームは、マトリクス・アドレス指定可能なミラーのアドレス指定パターンに応じてパターン形成される。要求されるマトリクス・アドレス指定は、適切な電子手段を使用して実行されることができる。

上述された両方の状況において、個別に制御可能な素子のアレイは、１つ以上のプログラム可能なミラー・アレイを備えることができる。本明細書で参照されるミラー・アレイに関するさらなる情報は、例えば、参照によってそれらの全体を本明細書に組み込まれる、米国特許第５，２９６，８９１号及び米国特許第５，５２３，１９３号、並びにＰＣＴ特許出願ＷＯ９８／３８５９７及びＷＯ９８／３３０９６から収集されることができる。

プログラム可能なＬＣＤアレイも使用されることができる。そのような構成の一例は、参照によってその全体を本明細書に組み込まれる、米国特許第５，２２９，８７２号に与えられる。

特徴のプレバイアシング、光学近接訂正の特徴、位相変更技術、及び複数の露光技術が使用される場合、例えば、個別に制御可能な素子のアレイ上に「表示される」パターンは、基板の層又は基板上に最終的に移されるパターンとは実質的に異なることがある。同様に、基板上の最終的に生成されるパターンは、個別に制御可能な素子のアレイ上に任意のある瞬間に形成されるパターンに対応しないことがある。これは、基板の各部分上に形成される最終的なパターンが、所定の時間の期間にわたって、又は個別に制御可能な素子のアレイ上のパターン及び／又は基板の相対位置が変化する間の所定の回数の露光で構築される構成における場合であり得る。

特定の参照が、本明細書において、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に行われることができるが、本明細書で記載されるリソグラフィ装置は、例えばＤＮＡチップ、ＭＥＭＳ、ＭＯＥＭＳ、集積された光システム、磁気ドメイン・メモリのための案内及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造などの他の適用を有することができると理解すべきである。当業者は、そのような代替適用に関して、本明細書における用語「ウエハ」又は「ダイ」の任意の使用は、それぞれより一般的な用語「基板」又は「ターゲット部分」と同じ意味と考えることができる。本明細書で参照される基板は、露光の前又は後で、例えばトラック（一般に基板にレジストの層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール）又は度量衡又は検査ツールで処理されることができる。適切であれば、本明細書における開示は、そのような基板処理ツール及び他の基板処理ツールに適用されることができる。さらに、基板は、例えば複数層のＩＣを作るために１回より多く処理されることができ、本明細書で使用される用語の基板は、既に処理された複数層を含む基板を参照することもある。

本明細書で使用される用語「放射」及び「ビーム」は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ｎｍの波長を有する）、及び極紫外（ＥＵＶ）放射（例えば、５２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子ビームを含む、全てのタイプの電磁放射を包含する。

本明細書で使用される用語「投影システム」は、屈折型光学システム、反射型光学システム、及び適切なように例えば使用される露光放射、又は浸漬流体の使用又は真空の使用などの他の要因に関するカタディオプトリック（ｃａｔａｄｉｏｐｔｒｉｃ）光学システムを含む、様々なタイプの投影システムを包含するものとして広く解釈されるべきである。本明細書における用語「レンズ」の任意の使用は、より一般的な用語「投影システム」と同じ意味であると考慮されることができる。

照明システムは、また、放射の投影ビームを方向付け、成形し、又は制御するための屈折、反射、及びカタディオプトリック光学構成部品を含む、様々なタイプの光学構成部品を包含することができ、そのような構成部品は、また、「レンズ」として集合的に又は単独で以下に参照されることができる。

リソグラフィ装置は、２つ（例えばデュアル・ステージ）、又はより多くの基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプであることができる。そのような「マルチ・ステージ」機械において、追加のテーブルが、並列に使用されることができ、又は１つ以上の他のテーブルが露光のために使用される間に、準備ステップが１つ以上のテーブルで実行されることができる。

リソグラフィ装置は、また、基板が、投影システムの最終素子と基板との間の空間を充填するように、比較的高い屈折率を有する液体（例えば水）で浸漬されるタイプであることができる。浸漬液体は、また、リソグラフィ装置における他の空間、例えば、マスクと投影システムの第１の素子との間に適用されることができる。浸漬技術は、投影システムの開口数を増大するために従来技術で良く知られている。

さらに、装置は、流体と基板の照射された部分との間の相互作用（例えば、基板に化学物質を選択的に付着するために、又は基板の表面構造を選択的に修正するために）を可能にするように流体処理セルを備えることができる。

リソグラフィ投影装置
図１は、本発明の実施例によるリソグラフィ投影装置１００を概略的に示す。装置１００は、放射システム１０２、個別に制御可能な素子１０４のアレイ、対象物テーブル１０６（例えば、基板テーブル）、及び投影システム（「レンズ」）１０８を少なくとも含む。

放射システム１０２は、この特定の場合において放射源１１２も備える、放射（例えば、ＵＶ放射）のビーム１１０を供給するために使用されることができる。

個別に制御可能な素子１０４のアレイ（例えば、プログラム可能なミラー・アレイ）は、ビーム１１０にパターンを与えるために使用されることができる。一般に、個別に制御可能な素子１０４のアレイの位置は、投影システム１０８に対して固定されることができる。しかしながら、代替の構成において、個別に制御可能な素子１０４のアレイは、投影システム１０８に対して個別に制御可能な素子１０４のアレイを正確に位置決めするための位置決めデバイス（図示せず）に接続されることができる。本明細書で示されるように、個別に制御可能な素子１０４は、反射タイプである（例えば、個別に制御可能な素子の反射アレイを有する）。

対象物テーブル１０６は、基板１１４（例えば、レジストが塗布されたシリコン・ウエハ又はガラス基板）を保持するための基板ホルダー（特に図示せず）が提供されることができ、また対象物テーブル１０６は、投影システム１０８に関して基板１１４を正確に位置決めするための位置決めデバイス１１６に接続されることができる。

投影システム１０８（例えば、水晶及び／又はＣａＦ_２レンズ・システム又はそのような材料から作られたレンズ素子を備えるカタディオプトリック・システム、或いはミラー・システム）は、ビーム・スプリッタ１１８から受けたパターン形成されたビームを、基板１１４のターゲット部分１２０（例えば、１つ以上のダイ）上に投影するために使用されることができる。投影システム１０８は、個別に制御可能な素子１０４のアレイの画像を基板１１４上に投影することができる。代わりに、投影システム１０８は、個別に制御可能な素子１０４のアレイの素子が、シャッタとして作用するための二次源の画像を投影することができる。投影システム１０８は、二次源を形成しかつ基板１１４上にマイクロスポットを投影するために、マイクロ・レンズ・アレイ（Ｍｉｃｒｏ Ｌｅｎｓ Ａｒｒａｙ、ＭＬＡ）を備えることもできる。

源１１２（例えば、エキシマ・レーザ）は、放射のビーム１２２を生成することができる。ビーム１２２は、直接、又は例えばビーム・エキスパンダ１２６などの調整デバイス１２６を通過した後のいずれかで照明システム（照明器）１２４内に送られる。照明器１２４は、ビーム１２２における強度分布の外側及び／又は内側の放射範囲（一般にそれぞれσ−外側又はσ−内側）を設定するための調整デバイス１２８を備えることができる。さらに、照明器１２４は、インテグレータ１３０及びコンデンサ１３２などの様々な他の構成部品を含む。このように、個別に制御可能な素子１０４のアレイに当たるビーム１１０は、その断面において所望の均一性及び強度分布を有する。

図１に関して、源１１２は、リソグラフィ投影装置１００のハウジング内（例えば、しばしば、源１１２が水銀ランプである場合であるように）にあることができることに留意されたい。代替実施例において、源１１２は、リソグラフィ投影装置１００から遠隔であることもある。この場合、放射ビーム１２２は、装置１００内に向けられる（例えば、適切な方向付けミラーを用いて）。この後者のシナリオは、しばしば、源１１２がエキシマ・レーザである場合である。これら両方のシナリオは、本発明の範囲内で想定されることは理解されるべきである。

ビーム１１０は、ビーム・スプリッタ１１８を使用して方向付けられる後で、個別に制御可能な素子１０４のアレイをその後さえぎる。個別に制御可能な素子１０４のアレイによって反射されることによって、ビーム１１０は、投影システム１０８を通過し、投影システム１０８は、ビーム１１０を基板１１４のターゲット部分１２０上に集束する。

位置決めデバイス１１６（及びビーム・スプリッタ１４０を介して干渉ビーム１３８を受けるベース・プレート１３６上の任意の干渉測定デバイス１３４）を用いて、基板テーブル１０６は、ビーム１１０の経路内に異なるターゲット部分１２０を位置付けるように正確に移動されることができる。使用される場合、個別に制御可能な素子１０４のアレイのための位置決めデバイスは、例えば走査の間に、ビーム１１０の経路に対して個別に制御可能な素子１０４のアレイの位置を正確に訂正するために使用されることができる。一般に、対象物テーブル１０６の移動は、図１に明示的には示されていない長ストローク・モジュール（粗い位置決め）及び短ストローク・モジュール（微細な位置決め）を用いて実現される。同様なシステムは、個別に制御可能な素子１０４のアレイを位置決めするために使用されることもできる。ビーム１１０は、代わりに／追加して移動可能であり、一方、対象物テーブル１０６及び／又は個別に制御可能な素子１０４のアレイが、必要な相対移動を提供するために固定された位置を有することができることが理解される。

実施例の代わりの構成において、基板テーブル１０６は、基板１１４が基板テーブル１０６上で移動可能である状態で、固定されることができる。これが行われる場合、基板テーブル１０６は、平坦な最上部の表面に多数の開口を備え、気体が、基板１１４を支持できる気体クッションを提供するために開口を介して供給される。これは、従来、空気支承構成と呼ばれる。基板１１４は、ビーム１１０の経路に対して基板１１４を正確に位置決めすることができる１つ以上のアクチュエータ（図示せず）を使用して、基板テーブル１０６上を移動される。代わりに、基板１１４は、開口を介して気体の通過を選択的に開始及び停止することによって、基板テーブル１０６上を移動されることができる。

本発明によるリソグラフィ装置１００が、基板上のレジストを露光するためのものであるとして本明細書に記載されるが、本発明は、この使用に制限されず、装置１００は、レジストの無いリソグラフィで使用するためにパターン形成されたビーム１１０を投影するために使用され得ることが理解される。

示される装置１００は、４つの好ましいモードで使用されることができる。

１．ステップ・モード：個別に制御可能な素子１０４のアレイ上の全体パターンは、ターゲット部分１２０上に１回の操作（すなわち、単一の「フラッシュ」）で投影される。基板テーブル１０６は、次に、パターン形成されたビーム１１０によって照射されるべき異なるターゲット部分１２０のために異なる位置に、ｘ及び／又はｙ方向に移動される。

２．走査モード：所定のターゲット部分１２０が、単一の「フラッシュ」で露光されないことを除いて、ステップ・モードと本質的に同一である。実際に、個別に制御可能な素子１０４のアレイは、パターン形成されたビーム１１０が、個別に制御可能な素子１０４のアレイ上を走査させるように、速度ｖで所定の方向（いわゆる「走査方向」、例えばｙ方向）に移動可能である。同時に、基板テーブル１０６は、同時に速度Ｖ＝Ｍｖで同じ又は反対方向に移動され、ここでＭは、投影システム１０８の強度である。このように、比較的大きなターゲット部分１２０が、解像度を損なうことなく、露光されることができる。

３．パルス・モード：個別に制御可能な素子１０４のアレイは、本質的に静止されたままであり、全体パターンは、パルス状の放射システム１０２を使用して基板１１４のターゲット部分１２０上に投影される。パターン形成されたビーム１１０が、基板１０６を横切るラインで走査させるように、基板テーブル１０６は、本質的に一定の速度で移動される。個別に制御可能な素子１０４のアレイ上のパターンは、放射システム１０２のパルス間で必要に応じて更新され、連続するターゲット部分１２０が基板１１４上の必要な位置で露光されるように、パルスはタイミング設定される。したがって、パターン形成されたビーム１１０は、基板１１４のストリップのために完全なパターンを露光するよう、基板１１４を横切って走査することができる。プロセスは、基板１１４全体がライン毎に露光されるまで繰り返される。

４．連続走査モード：実質的に一定の放射システム１０２が使用され、かつ個別に制御可能な素子１０４のアレイ上のパターンが、パターン形成されたビーム１１０が基板１１４を横切って走査されかつ基板１１４を露光するときに、更新されることを除いて、パルス・モードと本質的に同一である。

上述された使用のモード又は完全に異なる使用のモードに対する組み合わせ及び／又は変形も、用いられることができる。

図１に示される実施例において、個別に制御可能な素子１０４のアレイは、プログラム可能なミラー・アレイである。プログラム可能なミラー・アレイ１０４は、それぞれ軸の周りで個別に傾斜されることができる小さなミラーのマトリクス構成を備える。傾斜の角度は、各ミラーの状態を規定する。素子に欠陥が無いとき、ミラーは、コントローラからの適切な制御信号によって制御可能である。各欠陥が無い素子は、投影された放射パターンにおけるその対応する画素の強度を調整するように、一連の状態の任意の１つの状態をとるように制御可能である。

一実施例において、一連の状態は以下を含む。すなわち、（ａ）ミラーによって反射された放射が、その対応する画素の強度分布への寄与を最小、又はゼロにさえする黒い状態(black state)と、（ｂ）反射された放射が、最大の寄与をする最も白い状態(whitest state)と、（ｃ）反射された放射が、中間の寄与をする間の複数の状態とである。これらの状態は、パターン形成／印刷する通常のビームのために使用される通常のセットと、欠陥のある素子の作用に関する補償のために使用される補償セットとに分割される。通常のセットは、黒い状態と、中間状態の第１のグループとを含む。この第１のグループは、灰色の状態として記述され、それらは、最小の黒の値からある通常の最大値までの画素の強度に対応する次第に増える寄与を提供するように選択可能である。補償セットは、最も白い状態とともに、残りの中間状態の第２のグループを含む。この中間状態の第２のグループは、白い状態として記述され、それらは、最も白い状態に対応する真の最大値まで次第に増える通常の最大値より大きな寄与を提供するように選択可能である。第２のグループの中間状態は、白い状態として記載されるが、これは、通常の露光ステップと補償的な露光ステップとの間の区別を単に容易にするものであることが理解される。全ての多数の状態は、グレースケール印刷を可能にするために選択できる、黒色と白色との間の灰色の状態のシーケンスとして代わりに記述されることができる。

個別に制御可能な素子の例示的なアレイ
図２ａ及び図２ｂは、リソグラフィ装置における個別に制御可能な素子のアレイで使用される回折光学ＭＥＭＳデバイスの動作を示す。図２ａ及び図２ｂにおいて、回折光学ＭＥＭＳデバイス１０は、一連の並列の反射リボン１１、１２、１３、１４、１５、及び１６から作られる。デバイスは、２つの状態間を切り替えられることができる。図２ａに示されるように第１の状態において、全ての反射リボンは、同一の平面内にあり、デバイスは、回折されていない光を反射する平面反射器として作用する。図２ｂに示されるように第２の状態において、これらの反射リボン１１、１３、１５が、変位されていない反射リボン１２、１４、１６が残る平面に平行である平面とは異なる平面にあるように交互のリボン１１、１３、１５は、変位される。第２の状態にある回折光学ＭＥＭＳデバイス１０は、回折された光を反射する格子として機能する。

個別に制御可能な素子の第２の例示的なアレイ
図３ａから図３ｆは、本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の代わりの位置を示す。

個別に制御可能な素子のアレイで使用するための本発明の制御素子は、作動されることができる複数の反射器２１を含む。例えば図３ａに示されるように、反射器２１は、基板（図示せず）上の開口２２の上方のヒンジ２３に取り付けられることができる。各反射器は、その位置を変更するためにアクチュエータ（図示せず）に関連付けられる。例えば、図３ａに示される構成において、アクチュエータは、傾斜軸２４の周りで反射器２１を回転するために、反射器２１に力を印加する。一実施例において、基板における開口２２間で基板に取り付けられる、反射器２１、ヒンジ２３、及び支持部分２５は、単一の金属層から作られる。例えばアルミニウムから作られる。

反射器のアレイは、多数の反射器２１を含む。例えば、アレイは、約５００×２０００個の反射器２１、約２０００×５０００個の反射器２１、又はそれ以上を含むことができる。

一実施例において、反射器のアレイは、例えばそれぞれ４個の反射器２１を含む反射器２１の４列の制御領域に分割される。図３ａから図３ｆに示される実施例は、そのような制御領域２０を表す。各制御領域は、個別に制御可能な素子として機能する。特に、各制御領域は、上述されたように基板上に二次源を画像形成する投影システムを使用する、リソグラフィ装置における二次源のためのシャッタとして機能することができ、又は投影システムが、基板上に反射器のアレイを画像形成するリソグラフィ装置に画素を生成するために使用されることができる。

制御領域２０における反射器２１は、並列で隣接する列３１、３２、３３、３４に構成される。任意の所定の列における反射器２１は、一般的な方法で作動される。この方法において、各制御領域２０は、回折素子として機能するように作られることができる。図３ａに示されるように第１の位置において、いずれの反射器２１も作動されず、制御領域２０は、回折されない放射を反射する平面反射器として実質的に機能する。図３ｂに示されるように第２の位置において、反射器２１の交互の列３１、３３が作動される。この位置において、制御領域２０は、格子として機能し回折された放射を反射する。例えば、制御領域２０が第１の位置にあるときに、特定の方向に反射される放射を考慮する。いったん反射器２１の交互の列３１、３３が、作動されると、介在する列３３によって分離される残りの列３２、３４だけが、前のように同じ方向に放射を反射する。したがって、これらの列は格子として機能し、回折された放射は反射される。

制御可能な格子として機能するために、個別に制御可能である制御領域２０と同様な制御領域に分割される反射器２１のアレイを備える個別に制御可能な素子のそのようなアレイは、所望な特徴を示すことができる。例えば、制御領域２０は、密に詰め込まれることができる。なぜならこの例において、アレイにおける個別の反射器間の分離に関する要件は存在せず、したがって制御領域２０間の分離の要件は存在しないからである。従来のＭＥＭデバイスとは対照的に、そのような密な詰め込みは、一般に利用可能ではなく、個別に制御可能な素子のアレイの非作動領域に入射する放射によるコントラストの損失を結果として生じることがある。他の実施例として、反射器のアレイの製造は、知られている回折光学ＭＥＭＳデバイスより著しく簡略化できる。

この実施例において、コントローラ（図示せず）が、反射器のアレイを駆動するために、すなわち適切な位置に制御領域２０を設定するように制御信号を提供するために使用される。これは、各個別の反射器が、全ての他の反射器とは無関係な必要な位置に設定されることができる従来の反射器のアレイとは対照的である。したがって、従来のシステムにおいて、関連付けられる制御システムは複雑であり、多数の制御ラインは、反射のアレイに制御信号を提供し、かつ個別の反射器に関連付けられる各アクチュエータに対する反射器のアレイ内に制御信号を提供する必要がある。

一実施例において、反射器のアレイを駆動するための複雑性が低減されたコントローラを使用することができる。特に、コントローラは、各制御領域２０内の各個別の反射器２１のための制御信号よりむしろ、全体として各制御領域２０のための制御信号を生成することだけが必要である。なぜなら、以下に議論されるように、独立制御が、制御領域２０内の各列又は交互の列のために提供されることができ（すなわち、制御領域２０における交互の列が、第１の制御信号を受けることができ、制御領域２０における残りの列が、第２の信号を受ける）。

一実施例において、反射器のアレイは、コントローラを有し、コントローラは、２つの動作モード間を切り替えられることができる。すなわち、反射器の制御領域が、制御可能な格子として機能するように集合的に制御される第１のモードと、各個別の反射器が、独立して制御されることができる第２のモードとである。したがって、そのような反射器のアレイは、第１の制御モードを使用するのに適しているリソグラフィ装置で使用されることができ、又は第２の制御モードを使用するのに適している装置で使用されることができる。それは、２つの動作モード間で切り替えることができるリソグラフィ装置で使用されることもできる。

各反射器２１は、独立したアクチュエータを有することができる。この場合、反射器のアレイは、各関連するアクチュエータに接続される制御領域に印加される各制御信号のために単一の制御ラインを有することができ、それによって各アクチュエータに同一の信号を提供する。これは、専用の制御ラインが各制御領域２０のために提供されることを、必ずしも意味するものではないことは理解されるべきである。個別に制御可能な素子のアレイは、マトリクス・アドレス指定を使用することができ、マトリクス・アドレス指定において、複数の個別に制御可能な素子は、アレイ内の共通制御ラインを共有するが、異なるタイミングでアドレス指定される。同様の解決方法が、制御領域２０、制御領域における反射器２１の交互の列、又は制御領域２０内の反射器２１の個別の列をアドレス指定するために使用されることができる。

制御領域２０における各反射器２１は、独立したアクチュエータを有することができるが、これは、必ずしも必要ではない。例えば、反射器２１の各列は、単一のアクチュエータを有することができ、又は単一の列における反射器２１に関連付けられた各アクチュエータは、共通の構成要素を共有することができる。同様に、所定の制御領域２０内の反射器２１の交互の列は、共通のアクチュエータを共有することができ、又は共通の構成要素を共有するアクチュエータを有することができる。

一実施例において、容量アクチュエータは、反射器２１を位置付けるために使用されることができる。そのような構成において、電圧が、反射器のアレイの基板（図示せず）上に配置された導体（図示せず）と、反射器２１とともに移動する他の導体（図示せず）との間に印加される。この他の導体は、反射器２１に接続されることができ、又は反射器自体であることができる。電圧が印加されると、導体は、作動する反射器２１を引き付ける。基板上に配置された導体は、制御領域２０における列内の全ての反射器２１、又は制御領域２０内の反射器２１の交互の列に共通であることができ、それによって、反射器２１に関連付けられる各アクチュエータのために共通の要素を提供する。

本発明は、反射器２１のための特定の作動システムに制限されないことは理解されるべきである。特に、容量アクチュエータ以外のアクチュエータ、例えば圧電アクチュエータが使用されることもできる。本明細書における教示に基づいて、当業者には他のものが明らかになるであろう。

図３ｂに関連して上述されたように、制御領域２０は、反射器２１の交互の列を作動することによって、その第２の状態に設定されることができる。しかしながら、制御領域２０は、図３ｃに示されるように、全ての反射器２１を作動するが、反対方向に交互の反射器２１を作動することによって、回折された放射を反射するように設定されることもできる。図３ｂに示される構成に対するそのような構成の利点は、回折された放射の強度分布が、対称的であり、焦点誤差に対する感度を低減することである。

一実施例において、図３ｂ及び図３ｃに示される位置に加えて、制御領域２０は、反射器の全ての列が、同一の方向に作動されるときに格子として作用することができる。なぜなら、各反射器は、上昇された反射器の構成要素及び低下された反射器の構成要素を有するからである。したがって、制御領域２０は、位相格子として機能する。そのような構成は、必要な制御信号を提供するためにより簡単であるが、格子として効率が低下する。

一実施例において、制御領域２０は、反射器２１の各列に独立した制御信号を提供することによって、又は反射器２１の交互の列に対して共通の制御信号を提供することによって、図３ｃに示されるように、反対方向に反射器の交互の列を作動するように設定される。

一実施例おいて、制御領域２０は、制御領域２０における全ての反射器２１に共通の制御信号を提供することによって、反対方向に反射器２１の交互の列を作動するように設定される。これは、共通制御信号が、所定の制御領域のための全てのアクチュエータに印加されるとき、反射器２１の交互の列に関連付けられるアクチュエータが、第１の方向に反射器２１を作動し、かつ残りの反射器２１に関連付けられるアクチュエータが、反対方向にこれら反射器２１を作動するように、反射器２１のためにアクチュエータを配置することによって達成されることができる。例えば、図３ｃに示される構成において、反射器２１は、互いに平行であるそれぞれの傾斜軸の周りを回転する。

共通制御信号のある適用で、交互の列３１、３３における反射器２１は、第１の方向で傾斜軸の周りで回転し、残りの列３２、３４における反射器２１は、反対方向に傾斜軸の周りを回転する。

一実施例において、図３ｂ及び図３ｃに示される構成で、同一の方法で作動する反射器２１の列３１、３２、３３、３４は、個別の反射器２１の傾斜軸２４に平行に配置される。

一実施例において、図３ｄに示されるように、共通の方法で作動される反射器２１の列４１、４２、４３、４４が、制御領域２０の反射器２１の傾斜軸２４に垂直な方向に配置されるように、制御領域２０が配置される。そのような構成において、反射器２１の交互の列を作動することが単に必要である。しかしながら、全ての反射器２１を作動するが、図３ｄに示されるように、第１の方向に反射器２１の交互の列を作動し、かつ反対方向に残りを作動することによって、回折された放射は、対称に散乱される。さらに、そのような構成は、一次元だけである図３ｂ及び図３ｃの構成とは対照的に、二次元格子を形成する。さらに、図３ｄに示される構成の格子周期は、図３ｂ及び図３ｃに示される構成の格子周期の半分であり、すなわち、それは、個別の反射器２１のサイズである。格子周期のサイズを低減することは、格子の回折角度を増大し、すなわち、ゼロ次の放射と一次の放射との間の分離を増大する。したがって、例えば、ゼロ次の放射及び一次の放射の一方だけが、基板に向けられることを確実にすることがより容易である。

図３ａから図３ｄに示される反射器のアレイの構成において、反射器２１は、形状が実質的に方形であり、反射器２１の傾斜軸２４が、反射器２１の実質的に中央を通過しかつ残る２つの側に平行であるように、反射器２１の反対側間の実質的に中央でヒンジ２３が提供される。

しかしながら、本発明は、そのような構成に制限されないことは理解されるべきである。特に、個別の反射器２１は、制御領域２０内の交互の列が同様に作動されるなら、任意の従来の方法で作動されることができる。

一実施例において、図３ｅに示されるように、反射器５０は、反射器５０の反対側の角でヒンジ５１によって取り付けられる。したがって、作動されたときその周りで反射器５０が回転する傾斜軸５２は、角から角へ反射器５０を通過する。したがって、方形の反射器を使用するとき、反射器５０の傾斜軸５２は、共通の方法で作動される反射器５０の列５３、５４、５５、５６に対して４５°である。

図３ｆは、上述された同じ方法で作動される制御領域２０における反射器の列６１、６２、６３、６４、６５が、反射器の傾斜軸に対して４５°である、さらなる構成を示す。この場合、ヒンジは、反射器の対向する側の中間点に配置され、反射器の傾斜軸は、それらの他の側に平行である。しかしながら、共通の方法で作動される反射器の列内で、隣接する列は、角から角に互いに当接する。

代わりのヒンジ構成及び／又は反射器の形状も使用されることができることは、さらに理解されるべきである。例えば、三角形、矩形、六角形、ダイヤモンド形状などの形状の反射器も使用されることができる。反射器の一方側が、支持体に取り付けられ、かつ反射器全体が曲がり、又は側方がヒンジとして作用する（いわゆる「駆動ボード」ヒンジ構成）同様の反射器が、使用されることができる。

上記実施例及び例示において、システムは、傾斜軸の周りで反射器を傾斜することによって移動される反射器を利用する。

他の実施例において、反射器は、反射器の平面に対して垂直方向に移動するように、すなわち「ピストン反射器」で作動されることができる。この実施例において、ピストン反射器の列を備える制御領域は、位相格子を形成するように、ピストン反射器の交互の列を第１の位置に設定し、かつ残りを異なる位置に設定することによって、格子として機能する。方形ピストン反射器を使用するなら、例えば、ピストン反射器の共通に作動される列が反射器の側方に平行に配置されるなら、一次元の格子が形成されることができる。

一実施例において、ピストン反射器の共通に作動される列が、反射器の側方に対して４５°の角度であることができ、反射器は、反射器を傾斜するために図３ｆに示される構成と類似する構成であることができ、一般に「チェッカーボード」構成と呼ばれる。これは、前述の一次元格子の半分の格子周期を有する、二次元格子を提供する。

反射器の列に対して共通の制御信号を適用することは、列における各反射器から同一の作動応答を提供できず、各反射器が独立して作動される従来の反射器のアレイとは対照的であることは理解される。そのような従来の構成において、個別の反射器の正確な位置は、注意深く制御されなければならず、各個別の反射器の有意な較正制御を必要とする場合がある。さらに、そのような従来の構成において、反射器が、もはや作動されることができない程度に損傷されるなら、例えば永続的にオン又は永続的にオフであり得るその画素を直接補償する方法は無い。したがって、そのような構成を用いて、知られている損傷された画素を補償するために、所定のパターンのために複数の露光を提供することが必要である場合がある。

対照的に、本発明の１つ以上の実施例及び／又は例示において、単一の損傷された反射器は、単一の制御領域の全体性能に著しい影響を有さない場合がある。したがって、本発明の個別に制御可能な素子のアレイの実施例及び／又は例は、従来のシステムより多数の損傷された素子を処理することができる。

上記記載は、第１の位置と第２の位置との間で作動される制御領域２０を参照したが、本発明は、単なる二値制御を提供することに制限されないことは理解される。特に、反射器の列は、複数の共通位置のいずれか１つに設定されることができ、それによって、グレースケール強度制御を提供する。

さらに、本発明は、詳細に記載され、４個の反射器の４列からなる各制御領域２０で図面に示されたが、制御領域２０は、異なるサイズであり得ることは理解される。一実施例において、適切な格子を形成するための反射器の列の最小数は３である。他の実施例において、４列の最小値が使用される。他の実施例において、６個の反射器の６列から、１０個の反射器の１０列まで、又はより多くの制御領域が、使用されることができる。さらに、列の数及び各列内の反射器の数は、同一である必要はないことが理解される。

プログラム可能な素子のアレイに関する例示的な制御システム
図４は、本発明の一実施例によるプログラム可能な素子のアレイ４０２のための制御システム４００を示す。ただ２個の素子４０４が示されているが、プログラム可能な素子のアレイは、そのいくつかの例が上述された、所望の任意の形状で任意の構成の多くの素子を有することができる。コントローラ４０６及び電源４０８は、各素子４０４に関連付けられるアクチュエータ４１０に結合される。

素子４０４は、アクチュエータ４１０、すなわち容量アクチュエータを介して、接点４１４ａ及び４１４ｂ間に作られる電位の作用の下でピボット・ロッド４１２の周りを旋回する。接点４１４ａ及びピボット・ロッド４１２は、コンデンサ４１６を介して容量結合される。

一実施例において、アクチュエータ４１０を通るエネルギーの流れは、コントローラ４０６及び電源４０８に結合されたスイッチ４１８を使用して制御される。この実施例において、コントローラ４０６がスイッチ４１８を開放するとき、エネルギーは流れず、一方、コントローラ４０６がスイッチ４１８を閉鎖するとき、エネルギーは流れることができる。エネルギーが流れるとき、接点４１４ａでの電位は、接点４１４ｂを引き付け、したがってピボット・ロッド４１２の周りで接点４１４ａに向かって素子４０４を移動する。スイッチ４１８は、コントローラ４０６によって生成されるバイアスに基づいて開放及び閉鎖するトランジスタなどであることができるが、これに限定されない。

したがって、より詳細に上述されたように、スイッチ４１８が開放され又は閉鎖されるかに応じて、素子４０４から反射する光は、基板のパターン形成を制御するために、基板（図示せず）に向かって向けられるか又は基板から離れる。

代わりのアクチュエータ及び制御システムが、例えば、各素子４０４のための個別のコントローラ、分散コントローラ、素子４０４のグループのための共有されたコントローラなどを使用することができるが、これらに限定されないことが理解されるべきである。これら全ては、本発明の範囲内であると想定される。

結論
本発明の様々な実施例が、上述されたが、それら実施例は、例示だけによって示され限定されないことを理解すべきである。形態及び詳細における様々な変更は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、それらに行われ得ることは当業者には明らかである。したがって、本発明の幅及び範囲は、任意の上述された例示的な実施例によって制限されるべきでなく、以下の特許請求項及びそれらの均等物にしたがってだけで定義されるべきである。

本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。 リソグラフィ装置における個別に制御可能な素子のアレイで使用される回折光学ＭＥＭＳデバイスの動作を示す図である。 リソグラフィ装置における個別に制御可能な素子のアレイで使用される回折光学ＭＥＭＳデバイスの動作を示す図である。 本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の交互の位置を示す図である。 本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の交互の位置を示す図である。 本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の交互の位置を示す図である。 本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の交互の位置を示す図である。 本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の交互の位置を示す図である。 本発明の一実施例による個別に制御可能な素子のアレイにおける反射器の交互の位置を示す図である。 本発明の一実施例によるプログラム可能な素子のアレイのための制御システムを示す図である。

符号の説明

１０ ＭＥＭＳデバイス
１１、１２、１３、１４、１５、１６ 反射リボン
２０ 制御領域
２１、５０ 反射器
２２ 開口
２３、５１ ヒンジ
２４、５２ 傾斜軸
２５ 支持部分
３１、３２、３３、３４、５３、５４、５５、５６、６１、６２、６３、６４、６５ 列
１００ リソグラフィ投影装置
１０２ 放射システム
１０４ 個別に制御可能な素子
１０６ 対象物テーブル
１０８ 投影システム
１１０ ビーム
１１２ 放射源
１１４ 基板
１１６ 位置決めデバイス
１１８、１４０ ビーム・スプリッタ
１２２ ビーム
１２４ 照明器
１２６ ビーム・エキスパンダ
１２８ 調整デバイス
１３０ インテグレータ
１３２ コンデンサ
１３４ 干渉測定デバイス
１３６ ベース・プレート
１３８ 干渉ビーム
４００ 制御システム
４０２ プログラム可能な素子のアレイ
４０４ 素子
４０６ コントローラ
４０８ 電源
４１０ アクチュエータ
４１２ ピボット・ロッド
４１４ａ、４１４ｂ 接点
４１６ コンデンサ
４１８ スイッチ

Claims (17)

1. リソグラフィ装置であって、
   放射のビームを供給する照明システムと、
   前記ビームをパターン形成する反射器のアレイであって、各反射器は、前記反射器を位置付ける関連付けられたアクチュエータを有し、前記反射器のアレイは、それぞれ１つ以上の前記反射器の列を備える複数の制御領域を有する、反射器のアレイと、
   各前記複数の制御領域における前記１つ以上の反射器の列の交互の列が、第１の共通位置に設定され、前記複数の制御領域における残りの１つ以上の反射器の列が、第２の共通位置に設定されるように、制御信号を前記アクチュエータに提供するコントローラと、
   前記パターン形成されたビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを備えるリソグラフィ装置。
2. 各前記複数の制御領域は、前記反射器の１つ以上の列の少なくとも３つ隣接する列を含む請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 各前記反射器の１つ以上の列は、前記反射器の少なくとも３つの隣接する反射器を含む請求項１に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記コントローラからの共通制御信号は、前記第１の共通位置を設定するために、前記複数の制御領域のそれぞれの制御領域における、前記１つ以上の反射器の交互の列に対応する前記アクチュエータに提供される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記コントローラからの第２の共通制御信号は、前記第２の共通位置を設定するために、前記複数の制御領域における、前記１つ以上の反射器の残りに関連付けられた前記アクチュエータに提供される請求項４に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記コントローラからの共通制御信号は、前記反射器の位置を設定するために、前記複数の制御領域の第１の制御領域における全ての前記反射器に関連付けられた前記アクチュエータに提供され、
   前記複数の制御領域の第１の制御領域の前記交互の列における前記反射器に関連付けられた前記アクチュエータは、前記制御信号に応答して第１の方向に前記反射器を作動し、
   前記複数の制御領域の第１の制御領域における前記残りの反射器に関連付けられた前記アクチュエータは、前記制御信号に応答して第２の方向に前記残りの反射器を作動する請求項１に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記複数の制御領域の第１の制御領域における前記反射器は、作動されたときにそれぞれの傾斜軸に周りで回転し、
   前記それぞれの傾斜軸は、相互に平行であり、
   前記第１及び第２の方向は、前記傾斜軸の周りで反対方向の回転である請求項６に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記複数の制御領域における前記反射器は、第１の方向に実質的に平行であるそれぞれの傾斜軸の周りを回転し、
   前記反射器の前記１つ以上の列は、前記第１の方向に実質的に垂直に配置される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記複数の制御領域における前記反射器は、第１の方向に実質的に平行であるそれぞれの傾斜軸の周りを回転し、
   前記反射器の前記１つ以上の列は、前記第１の方向に実質的に平行に配置される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記複数の制御領域における前記反射器は、第１の方向に実質的に平行であるそれぞれの傾斜軸の周りを回転し、
    前記反射器の前記１つ以上の列は、前記第１の方向に対して実質的に４５°に配置される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
11. 前記複数の制御領域における前記反射器の１つ以上の列の前記反射器に関連付けられた前記アクチュエータは、前記反射器がともに作動されるように共通構成部品を共有する請求項１に記載のリソグラフィ装置。
12. 前記アクチュエータは、前記反射器とともに移動する導体と、前記反射器のアレイのベース上の導体との間に力を生成する容量アクチュエータであり、
    前記列における前記反射器に関連付けられる前記アクチュエータは、前記ベース上の共通導体を有する請求項１に記載のリソグラフィ装置。
13. １つ以上の制御領域を有する反射器のアレイであって、前記反射器のアレイは、リソグラフィ装置における放射のビームを変調し、前記リソグラフィ装置は、
    反射器のアレイにおけるそれぞれの反射器を位置付けるアクチュエータと、
    各前記１つ以上の制御領域における前記反射器の交互の列が、第１の共通位置に設定され、前記反射器の列の残りの列が、第２の共通位置に設定されるように、制御信号を前記アクチュエータに提供するコントローラとを備える反射器のアレイ。
14. 各前記１つ以上の制御領域は、前記反射器の列の少なくとも３つの隣接する列を含む請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
15. 前記コントローラは、前記各反射器が所望の位置に独立して設定されるように、前記コントローラが、制御信号を前記アクチュエータへ提供する第２の構成に切り替えられる請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
16. デバイス製造方法であって、
    （ａ）反射器のアレイを使用して放射のビームをパターン形成するステップと、
    （ｂ）前記反射器のアレイ内に１つ以上の制御領域を提供するステップであって、前記反射器のアレイにおけるそれぞれの反射器は、関連付けられるアクチュエータによって位置付けられる、１つ以上の制御領域を提供するステップと、
    （ｃ）各前記１つ以上の制御領域における前記反射器の交互の列が、第１の共通位置に設定され、前記反射器の列の残りの列が、第２の共通位置に設定されるように、制御信号を前記アクチュエータに提供するステップと、
    （ｄ）基板のターゲット部分上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む方法。
17. ステップ（ｂ）は、各前記１つ以上の制御領域における前記反射器の列の少なくとも３つの隣接する列を使用することを含む請求項１６に記載の方法。

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