第1の従来技術の基板検出装置は、反射体が、ハンドに保持された基板の中心位置に対向して配置される。したがってハンドが保持領域から少しずれた程度では、投光部から投光される光が基板によって遮光される状態が維持されてしまい、受光部の受光状態が変化しない。これによって基板の位置ずれについて判定することができない。
第2の従来技術の基板検出装置は、各センサ本体と、センサ本体にそれぞれ対応する反射体とが離れた位置に配置されており、センサ本体から投光される光は、ハンドの基端部から先端部に向かってほぼ水平に進む。したがって第1の従来技術と同様に、基板が保持領域から少しずれた程度では、基板のずれを検出することができず、保持領域から基板が大きくずれている場合についてしか、基板のずれ状態を検出することができない。
したがって本発明の目的は、ハンドに保持した基板、たとえば半導体基板のずれを精度よく検出する基板状態検出装置を提供することである。
本発明は、基板を保持するロボットハンドに備えられ、ロボットハンドに設定される保持領域に基板が配置されたか否かを検出する基板状態検出装置であって、
保持領域に基板が配置された場合にその基板の縁部に対向し、保持領域よりもハンド厚み方向一方に配置され、基板の厚み方向表面に対して略垂直に延びて保持領域を挿通する第1光軸に沿って進む光を投光する投光部と、
保持領域に基板が配置された場合にその基板の縁部に対向し、保持領域よりもハンド厚み方向他方に配置され、第1光軸に沿って進む光を予め定める第2光軸に沿って進むように反射する反射体と、
反射体から第2光軸に沿って進む光を受光可能な受光部と、
受光部の受光状態に基づいて、基板が保持領域に配置されたか否かを判定する判定部とを含むことを特徴とする基板状態検出装置である。
本発明に従えば、基板が保持領域に配置される場合、投光部から投光された光は、基板によって遮光されて、反射体に到達することが阻止される。また基板が保持領域からずれて配置される場合、投光部から投光された光は、基板によって遮光されず反射体に到達して、反射体によって反射される。この反射された光が受光部に到達することによって受光部が受光状態となる。このように保持領域に対する基板のずれによって、受光部の受光状態が変化する。したがって判定手段が受光部の受光状態の変化に基づいて、保持領域に配置される基板のずれ状態を判断することができる。
本発明では、保持領域に配置された基板の縁部の厚み方向一方側に投光部が配置され、基板の縁部の厚み方向他方側に反射体が配置される。また投光部から投光される光が、第1光軸に沿って進む。第1光軸は、基板の厚み方向表面に対して略垂直に延びる。したがって保持領域に対する基板のずれが小さくても、基板による投光部からの光の遮光状態が変化して、受光部の受光状態が変化する。これによって判定手段は、基板が保持領域に配置されたか否か、すなわち基板のずれを精度よく検出することができる。
また本発明は、投光部は、予め定める第1方向にだけ振動する偏光された光を投光し、
受光部は、予め定める第2方向にだけ振動する偏光された光を受光し、
反射体は、第1方向に振動する光を第2方向に振動する光として反射することを特徴とする。
本発明に従えば、投光部によって第1方向にだけ振動する光が投光される。反射体は、投光部から投光された光を、第2方向に振動する光として反射する。受光部は、第2方向にだけ振動する光を受光するので、反射体を介して投光部から投光された光を受光する。したがって投光部から投光された光とは異なる光が受光部に達しても、また反射体で反射しない光が受光部に達しても、受光部がその光を受光することを防ぎ、誤検出を防ぐことができる。
このように受光部は、投光部からの光が反射体で反射した光について受光することができ、検出精度を向上することができる。たとえば投光部から投光された光が、基板によって反射して受光部に達した場合、受光部が光を受光することがなく、安定して基板のずれを判定することができる。
また本発明は、反射体は、入射した光の方向に対して平行でかつ向きが反対となる方向に光を反射する回帰反射型リフレクタによって実現され、第1光軸と第2光軸とがほぼ一致するように設定されることを特徴とする。
本発明に従えば、反射体が回帰反射型リフレクタによって実現されることによって、投光部から反射体に入射した光の方向に対して、平行でかつ向きが反対となる方向に光を反射する。これによって投光部に近接した位置に受光部を配置することで、反射体で反射した投光部からの光を受光部で受光することができる。したがって投光部と受光部との位置合せを容易化して、投光部と受光部と反射体との取付けを容易に行うことができる。たとえば投光部の周囲に受光部を配置することによって、反射体で反射した投光部からの光を受光部で効率よく受光することができる。
また本発明は、対応する反射体と投光部と受光部とを1つの検出構成体として、3つ以上の検出構成体を有し、
判定部は、各検出構成体の受光部の受光結果に基づいて、保持領域に対して基板がずれる方向を判定することを特徴とする。
本発明に従えば、判定手段が、各検出構成体の受光部からの受光結果に基づくことによって、保持領域に対して基板のずれる方向を判定する。基板のずれる方向を判定することによって、より利便性を向上することができる。
また本発明は、基板を吸着してハンドを保持するロボットハンドに備えられることを特徴とする。
本発明に従えば、ハンドによって基板を吸着保持した状態で、ハンドとともに基板を移動させた場合、基板が保持領域からスライド移動する場合がある。本発明では、上述したように精度よく基板のずれを検出することができるので、ハンドとともに基板を搬送しているときに基板がスライド移動した場合であっても、基板のずれを精度よく検出することができる。
なお基板がスライドする方向はハンドの移動方向によって異なる。したがって3つ以上の検出構成体が設けられることが好ましい。これによって任意の位置に基板がずれた場合であっても、判定手段が基板のずれおよびその方向を精度よく判定することができる。
また本発明は、基板を乗載する乗載部と、基板を位置あわせするための位置決め部と、乗載部に乗載された基板をハンド厚み方向に交差する移動方向に変位させて、基板を位置決め部に当接させて保持領域に基板を配置する変位手段とを有するロボットハンドに備えられ、反射体は、乗載部に設けられることを特徴とする。
本発明に従えば、基板を保持するにあたって、まず乗載部に基板が乗載される。次に、変位手段が基板に当接して基板を変位させる。基板は、移動して位置決め部に当接することによってさらなる移動が阻止されて、保持領域に配置される。乗載部に反射体が設けられることによって、乗載部に基板が乗載された状態で、基板がずれているか否かを判断することができる。これによって変位手段によって基板を移動させる前に、基板のずれを検出することができ、基板がずれた状態で変位手段が基板を変位させることを防ぐことができ、基板の損傷および破損を防ぐことができる。
また本発明は、変位手段の両側に前記乗載部がそれぞれ設けられ、対応する反射体と投光部と受光部とを1つの検出構成体とし、変位手段に対して基板の周方向両側に設けられる2つの乗載部に対して検出構成体がそれぞれ設けられることを特徴とする。
本発明に従えば、変位手段の両側に設けられる乗載部毎に検出構成体が形成されることによって、変位手段によって基板が移動させる移動方向のずれを検出することができるとともに、2つの乗載部が並ぶ方向に基板がずれているか否かを判断することができる。これによって変位手段によって基板を移動させる前に、移動方向および乗載部が並ぶ方向の基板のずれを検出することができ、基板がずれた状態で変位手段が基板を変位させることをより確実に防いで、基板の損傷を防ぐことができる。
また本発明は、光反射率が高い基板を保持するロボットハンドに備えられ、ロボットハンドに設定される保持領域に基板が配置されたか否かを検出する基板状態検出装置であって、
保持領域に基板が配置された場合にその基板の縁部に対向し、保持領域よりもハンド厚み方向一方に配置され、基板の厚み方向表面に対して略垂直に延びて保持領域よりも外方の領域を挿通する第1光軸に沿って進む光を投光する投光部と、
保持領域に基板が配置された場合にその基板の縁部に対向し、保持領域よりもハンド厚み方向他方に配置され、第1光軸に沿って進む光を予め定める第2光軸に沿って進むように反射する反射体と、
反射体から第2光軸に沿って進む光が、基板によって反射されて予め定める第3光軸に沿って進む光を受光する受光部と、
受光部の受光状態に基づいて、基板が保持領域に配置されたか否かを判定する判定部とを含むことを特徴とする基板状態検出装置である。
本発明に従えば、基板が保持領域に配置される場合、投光部から投光された光は、保持領域の外方を通過して、反射体に到達し、反射体によって第2光軸に沿う方向に反射される。第2光軸に沿う光は基板によって反射されて第3光軸に沿う方向に反射される。第3光軸に沿う光は、受光部に到達することによって受光部が受光状態となる。
基板が保持領域を通過してずれた場合、投光部から投光された光は、基板によって遮光されて、反射体に到達することが阻止される。また基板が保持領域よりも手前にずれて配置される場合、反射体によって反射されて第2光軸に沿って進む光は、基板によって反射されず、受光部に到達することがない。
このように保持領域に対する基板のずれによって、受光部の受光状態が変化する。判定手段は、受光部の受光状態の変化に基づいて、保持領域に配置される基板のずれ状態を判断することができる。本発明では、反射体と基板とによって光をそれぞれ反射させて、投光部から受光部に光を導くことによって、基板のずれを精度よく検出することができる。具体的には、反射体からの光が基板によって反射されない場合と、投光部から反射体へ向かう光を遮光する場合と、を基板のずれとして判断することができる。すなわち基板が保持領域まで達していなくても、基板が保持領域を通り過ぎていても、基板のずれとして判断することができる。上述したように、投光部は、予め定める第1方向にだけ振動する偏光された光を投光し、受光部は、予め定める第2方向にだけ振動する偏光された光を受光し、反射体は、第1方向に振動する光を第2方向に振動する光として反射してもよい。
また本発明は、前記基板状態検出装置を備えるロボットハンドである。
本発明に従えば、ロボットハンドが基板状態検出装置を備えることによって、基板を保持した状態で、保持領域に対する基板のずれを判断することができる。
また本発明は、前記ロボットハンドと、
ロボットハンドを支持する基板搬送用アームと、
基板搬送用アームを変位駆動するアーム駆動手段と、
基板状態検出装置の検出結果に基づいて、アーム駆動手段を制御する制御手段とを含むことを特徴とする基板搬送用ロボットである。
本発明に従えば、制御手段が、基板状態検出装置の検出結果に基づいて、アーム駆動手段を制御することによって、基板がずれた場合における基板搬送用アームの動作を変更することができる。
請求項1記載の本発明によれば、保持領域に配置された基板の縁部に対して、厚み方向一方側に投光部が配置され、厚み方向他方側に受光部が配置される。また第1光軸が基板の厚み方向表面に対して略垂直に延びる。これによって第1光軸が基板の厚み方向表面に略平行な場合に比べて、基板のずれを精度よく検出することができる。
このようにハンドに保持した基板のずれを精度よく検出することができるので、保持領域に対して基板がずれた状態で、基板を搬送することを防ぐことができる。これによって基板の損傷および破損を防止することができる。またカセットなどの基板支持体に基板がずれた状態で支持される場合であっても、基板のずれを防いで保持することができ、基板支持体が基板を正確に保持する必要がない。
また請求項2記載の本発明によれば、偏光を用いることによって、投光部から投光されて反射体によって反射された光とは異なる光が、受光部に達する場合であっても、基板のずれを正確に判断することができる。たとえば投光部からの光が基板によって反射して受光部に向かって進む場合であっても、基板ずれの誤検出を防ぐことができる。
また請求項3記載の本発明によれば、反射体として回帰反射型リフレクタを用いることによって、投光部と受光部との位置合せを容易に行うことができる。たとえば投光部と受光部とを一体化した1つのユニットとして形成することが可能であり、基板状態検出装置を安価に形成することができる。
また請求項4記載の本発明によれば、3つ以上の検出構成体が設けられることによって、任意の方向に対する基板のずれを検出することができる。これによって基板を保持するときはもちろん、基板を搬送するときに基板が任意の方向にずれた場合であっても、基板のずれを検出することができる。
また請求項5記載の本発明によれば、ハンドによって基板を吸着保持した状態で、保持領域から任意の方向に基板がスライド移動する場合であっても、基板のずれを精度よく判定することができ、利便性を向上することができる。
また請求項6記載の本発明によれば、変位手段によって基板を移動させる前に、基板のずれを検出することができ、基板がずれた状態で変位手段が基板を変位させることを防ぐことができる。これによって基板の損傷および破損を防ぐことができる。
また請求項7記載の本発明によれば、変位手段によって基板が移動させる移動方向のずれを検出することができるとともに、2つの乗載部が並ぶ方向に基板がずれているか否かを判断することができる。これによって変位手段によって基板を移動させる前に、移動方向および2つの乗載部が並ぶ方向の基板のずれを検出することができ、基板がずれた状態で変位手段が基板を変位させることをより確実に防いで、基板の損傷を防ぐことができる。
また請求項8記載の本発明によれば、反射体と基板とによって光をそれぞれ反射させて、投光部から受光部に光を導くことによって、基板が保持領域まで達していなくても、また基板が保持領域を通り過ぎていても、基板のずれとして判断することができる。なお、基板によって光を反射させることによって、基板状態検出装置の構成を簡略化することができ、基板のずれ検出精度が高く、安価な基板状態検出装置を実現することができる。
また請求項9記載の本発明によれば、ロボットハンドが基板状態検出装置を備えることによって、基板を保持した状態で、保持領域に対する基板のずれを判断することができる。これによって基板がずれた状態で、基板を搬送することを防ぐことができ、基板の損傷および破損を防いで、生産効率を向上することができる。
また請求項10記載の本発明によれば、制御手段が、基板状態検出装置の検出結果に基づいて、アーム駆動手段を制御することによって、基板がずれた場合における基板搬送用アームの動作を変更することができ、利便性を向上することができる。たとえば基板がずれたことを判断すると、基板を保持装置に戻して、保持動作を再度行わせることによって、基板をずれなく保持させることができる。また基板状態検出装置が、基板がずれた方向を出力可能である場合には、基板のずれた方向に基づいて、アーム駆動手段の移動位置を変更することによって、基板のずれを補正して基板を正確に基板を保持することができる。
図1は、本発明の第1実施の形態である基板状態検出装置20を示す斜視図である。図2は、基板状態検出装置20を備えるロボットハンド22を示す平面図である。基板状態検出装置20は、基板を保持するロボットハンド22に備えられる。本実施の形態では、ハンド22が保持する基板は、円板状に形成される半導体ウェハ21である。
ロボットハンド22は、ロボットアーム23に連結され、ロボットアーム23によって任意の位置に移動可能となる。ロボットアーム23は、予め定める所定位置に配置されるウェハ21をハンド22に乗載して、予め定める他の所定位置に搬送する。
ハンド22は、ウェハ21の縁部50に当接して、ウェハ21を保持する。図2に示すようにロボットハンド22は、ブレード30と、アーム連結部31とが形成される。ブレード30は、板状に形成される。アーム連結部31は、ブレード30に連なりロボットアーム23に連結される。
本実施の形態のブレード30は、大略的に長手方向Xと幅方向Yとが設定されて略Y字状に形成される。具体的には、ブレード30は、アーム連結部31に連なる基端部32と、基端部32から長手方向Xに延びるとともに幅方向Yに分岐して延びる2つの先端部33,34とが形成される。ブレード30は、その厚み方向Zに延びる中心軸線L1が設定される。中心軸線L1は、ブレード30の長手方向Xおよび幅方向Yの中間位置に設定され、2つの先端部33,34の幅方向Yの間を通過する。ブレード30の先端部33,34は、長手方向Xに進み中心軸線L1を挿通する仮想線U1に対して対称に配置される。以下、ブレード30の長手方向を単に長手方向Xと称し、ブレード30の幅方向を単に幅方向Yと称し、ブレード30の厚み方向を単に厚み方向Zと称する。本実施の形態では、ブレード30は、水平に延びる。厚み方向一方Z1が上方となり、厚み方向他方Z2が下方となる。
ブレード30には、ウェハ21を下方から支持する複数の乗載部35,36,37,38が設けられる。各乗載部35〜38は、ウェハ21の厚み方向Z下側の縁部50に下方からそれぞれ当接する。本実施の形態では、乗載部35〜38は、4つ設けられる。具体的には、ブレード30の基端部32に2つの基端乗載部35,36が設けられる。基端乗載部35,36は、長手方向Xに進み中心軸線L1を挿通する仮想線U1に対して幅方向Yに等間隔に配置される。またブレード30の各先端部33,34にそれぞれ先端乗載部37,38が設けられる。複数の乗載部35〜38のうち、隣接する2つの乗載部は、中心軸線L1まわりの周方向角度が180度未満に設定される。これによって安定してウェハ21を保持することができる。
ウェハ21は、中心軸線L1に同軸に配置された状態で、ウェハ21を保持する。ウェハ21がブレード30の中心軸線L1に同軸に配置されると、ブレード30に設定される保持領域にウェハ21が配置される。保持領域に配置されたウェハ21は、水平に延びる。すなわちウェハ21は、ブレード30の厚み方向一方側の面と平行に配置される。このとき各乗載部35〜38は、ウェハ21の縁部50に当接して、ウェハ21を支持する。
図3は、図2のS3−S3切断面線で切断して示す断面図である。基端部32に設けられる基端乗載部35は、乗載面40が形成される。乗載面40は、水平面に対して傾斜し、中心軸線L1に向かうにつれてブレード30の上面42に近づく。なお2つの基端乗載部35,36は、長手方向Xに延びて中心軸線L1を挿通する仮想線U1に対して、対称に形成される。また2つの基端乗載部35,36は、幅方向Yに間隔を開けて配置される。
基端乗載部35,36の乗載面40のうち、中心軸線L1の半径方向内周側縁の中心軸線L1からの半径方向寸法W1は、ウェハ21の半径方向寸法よりも小さく形成される。また基端乗載部35,36の乗載面40のうち、中心軸線L1の半径方向外周側縁の中心軸線L1からの半径方向寸法W2は、ウェハ21の半径方向寸法よりも大きく形成される。
図4は、図2のS4−S4切断面線で切断して示す断面図である。先端部34に設けられる先端乗載部35は、乗載面41が形成される。乗載面41は、水平面に対して傾斜し、中心軸線L1に向かうにつれてブレード30の上面42に近づく。2つの先端乗載部37,38は、長手方向Xに延びて中心軸線L1を挿通する仮想線U1に対して、対称に形成される。また2つの先端乗載部37,38は、幅方向Yに間隔を開けて配置される。
先端乗載部37,38の乗載面41のうち、中心軸線L1の半径方向内周側縁における中心軸線L1からの半径方向寸法W3は、ウェハ21の半径方向寸法よりも小さく形成される。また先端乗載部35,36の乗載面41のうち、中心軸線L1の半径方向外周側縁における中心軸線L1からの半径方向寸法W4は、ウェハ21の半径方向寸法とほぼ等しく形成される。
また先端乗載部37,38は、乗載面41の半径方向外周側縁部に連なり、上方に突出する位置決め部19が形成される。位置決め部19は、ウェハ21を位置あわせするために設けられ、乗載部35〜38に乗載されたウェハ21の外周部に臨む当接面18が形成される。当接面18は、中心軸線L1を中心とする曲面を有し、その曲率半径は、ウェハ21の半径とほぼ一致する。これによってウェハ21は、先端乗載部37,38の乗載面41の当接面18にそれぞれ当接した状態で、保持領域に配置される。また、上述した寸法W1〜W4に基端乗載部35,36の乗載面40と、先端乗載部37,38の乗載面41とが形成されることによって、ウェハ21は、各乗載部35〜38に乗載された状態で、長手方向Xに移動可能に形成される。
ロボットハンド22は、変位手段17を有する。変位手段17は、各乗載部35〜38に乗載されたウェハ21に当接して、ウェハ21の厚み方向に交差する移動方向、本実施の形態では長手方向Xにウェハ21を変位させて、ウェハ21を位置決め部19に当接させて保持領域にウェハ21を配置する。
図1および図2に示すように、変位手段17は、ウェハ21に当接し、長手方向Xに移動可能に形成される当接片16と、当接片16を長手方向Xに変位駆動するエアシリンダ15とを含んで実現される。当接片16は、2つの基端乗載部35,36の間に設けられる。当接片16は、乗載部35〜38に乗載されたウェハ21の外周部に臨む当接面13を有する。当接片16の当接面13の曲率半径は、ウェハ21の半径と一致する。エアシリンダ15は、中心軸線L1を挿通し長手方向Xに延びる仮想軸線に沿ってピストンロッドが延びる。ピストンロッド14の先端部に当接片16が固定される。したがってエアシリンダ15がピストンロッド14を変位駆動すると、当接片16が長手方向Xに移動する。
各乗載部35〜38にウェハ21が乗載された状態で、エアシリンダ15が当接片16を変位駆動すると、当接片16がウェハ21の外周面に当接し、ウェハ21を長手方向Xに移動させる。ウェハ21の下方縁部は、乗載部35〜38を摺動して位置決め部19に当接する。このときウェハ21の外周部は、位置決め部19と当接片16とによって異なる3箇所が当接する。位置決め部19と当接片16とは、中心軸線L1まわりに間隔を開けて配置され、その間隔は180度以下に設定される。これによってウェハ21は、位置決め部19と当接体16とによって挟持され、ハンド22に設定される保持領域に配置される。
本発明の実施の一形態では、ロボットハンド22は、基板状態検出装置20を備える。基板状態検出装置20は、保持領域にウェハ21が配置されたか否かを検出する。基板状態検出装置20は、投光部43と受光部44とが一体化されるセンサユニット45と、アーム連結部31に設けられてセンサユニット45を支持する支持体46と、反射体となる回帰反射型リフレクタ47と、判定部48とを含む。なお、対応する投光部43と受光部44とリフレクタ47とを含んで検出構成体と称する場合がある。センサユニット45は、ブレードの基端部32に設けられ、本実施の形態では、基端乗載部35,36付近に配置される。
図3に示すように、投光部43は、保持領域にウェハ21が配置された場合にそのウェハ21の縁部50に対向する。投光部43は、保持領域よりもハンド厚み方向一方Z1に配置される。投光部43は、予め定められる第1光軸51に沿って進む光を投光する。なお、第1光軸51は、ウェハ21の厚み方向表面49に対して略垂直に延びて、保持領域を挿通してハンド厚み方向他方Z2に向かう。
回帰反射型リフレクタ47は、保持領域にウェハ21が配置された場合にそのウェハ21の縁部50に対向する。リフレクタ47は、保持領域よりもハンド厚み方向他方Z2に配置される。したがってウェハ21の縁部50に対して、その厚み方向両側に投光部43とリフレクタ47とがそれぞれ配置される。
リフレクタ47は、入射した光の方向に対して平行でかつ向きが反対となる方向に光を反射する。リフレクタ47は、第1光軸51に沿って進む光を反射する。そして、リフレクタ47は、第1光軸51に一致または近接して、第1光軸51に平行に延びる第2光軸52に沿って進むようにする。
受光部44は、第2光軸52に沿って進む光を受光する。受光部44は、受光状態を示す情報を判定手段48に与える。判定手段48は、受光部44から与えられた受光状態を示す情報、たとえば光の強さに基づいて、ウェハ21が保持領域に配置されたか否か、すなわちウェハ21のずれの有無を判定する。たとえば受光部44は、光ファイバを介して受光部44の受光状態を判定部48に与える。判定部48は、ウェハ21のずれの有無をロボットコントローラ76に与える。また判定手段48は、各センサユニットのそれぞれの受光部44から与えられる受光状態を示す情報に基づいて、ウェハ21が保持領域に対してずれている方向を推定してもよく、推定した情報をロボットコントローラ76に与えてもよい。
支持体46は、アーム連結部31から水平に突出し、基端乗載部35,36に対向する。支持体46の先端部には、上述したセンサユニット45が固定される。支持体46と乗載部50との厚さ方向寸法W5は、予め設定される。たとえばカセットによって上下方向に複数積載されたウェハ21をハンド22が保持する場合には、支持体46と乗載部50との厚さ方向寸法W5は、上下方向に並ぶウェハ21のピッチよりも小さく設定される。これによって上下方向に並ぶウェハ21に干渉することなく、ウェハを保持することができる。
図5は、リフレクタ47の一部を拡大して示す正面図である。リフレクタ47は、四面体であるコーナキューブ53を複数有する。各コーナキューブ53は、1つの透過面と、相互に垂直に交差する3つの反射面とを有する。コーナキューブ53に対して透過面から入射した光は、各反射面によって反射し、透過面から出射する。各コーナキューブ53は、透過面が仮想一平面に沿って設けられ、図5に示されるように、相互に隣接して配置される。このようなリフレクタ47は、上述のように入射する光を、この入射する光の入射方向に対して反対の方向である反射方向に反射する。
本実施の形態では、基部乗載部35,36には、リフレクタ47が嵌め込まれる嵌合凹所が形成される。リフレクタ47は、基部乗載部35,36に形成される嵌合凹所にはめ込まれることによって、保持領域に配置されたウェハ21に対向する。リフレクタ47は、乗載部35,36の乗載面40と面一に形成されるかまたは乗載面40から没入して形成される。リフレクタ47は、厚み方向一方側の面が平坦に形成され、厚み方向他方側の面に凹凸が形成される。本実施の形態では、厚み方向一方側の平坦な面が上方側に配置される。
中心軸線L1からの半径方向がウェハ21の半径と等しい仮想円を考慮した場合、リフレクタ47は、前記仮想円よりも内側に配置され、好ましくは、仮想円に沿って基準軸線L1まわりに周方向に帯状に延びることが好ましい。これによってセンサユニット45の位置合せを容易に行うことができるとともにリフレクタ47によって反射して受光部44に到達する光の光量を大きくすることができる。
図6は、センサユニット45を示す断面図である。センサユニット45は、投光部43と受光部44とを有し、投光部43と受光部44とが一体に設けられる。たとえば投光部43から投光される光は、LED(Light Emitting Diode)素子を発光源とするLED光となる。たとえば受光部44は、結合電荷素子(Charge Coupled Device:CCD)によって実現される。投光部43は、第1偏光フィルタ60が設けられる。第1偏光フィルタ60は、LED光を予め定める第1方向にだけ振動する光を通過させる。これによって投光部43は、予め定める第1方向にだけ振動する偏光されたLED光を投光する。また受光部44は、第2偏光フィルタ61が設けられる。第2偏光フィルタ61は、LED光を予め定める第2方向にだけ振動する光を通過させる。これによって受光部44は、予め定める第2方向にだけ振動する光を受光する。
なお可能であれば、投光部43から投光する光は、LED光でなくてもよくファイバ光を用いてもよい。ファイバ光を用いることによって発光源と投光部43とを離反させることができ、ロボットハンドを小形化することができる。
図7は、センサユニット45とリフレクタ47とを示す斜視図である。ウェハ21が保持領域に配置されていない場合、投光部43から投光された光は、第1光軸51に沿って移動して、保持領域を通過してリフレクタ47に入射する。なお、リフレクタ47に入射する光は、予め第1方向にだけ振動する偏光された光である。
リフレクタ47は、第1方向に振動する偏光された光を第2方向に振動として反射する。またリフレクタ47は、入射した光の方向に対して平行でかつ向きが反対となる方向に光を反射する。このようにしてリフレクタ47から反射した光は、第1光軸51と平行でかつ第1光軸と一致または近傍を通過する第2光軸52に沿って進み、受光部44に到達する。受光部44は、第2方向にだけ振動する偏光された光を受光する構成であるので、リフレクタ47で反射した第2方向にだけ振動する偏光された光を受光することができる。また投光部43と受光部44とは、同軸に形成されてもよい。具体的には、投光部43の周囲に受光部44が一周するようにしてもよい。これによって受光部44は、リフレクタ47を介して、投光部43からの投光された光を受光する受光量を向上することができる。これによって検出精度を向上することができるとともに短時間でウェハ21のずれを検出することができる。
図8は、保持領域にウェハ21が配置された状態を示す断面図である。正常にウェハ21が位置あわせされた場合には、ウェハ21は、保持領域に配置される。この場合には、投光部43から照射された光は、ウェハ21で遮光されてリフレクタ47に達することがない。したがって受光部44は、予め定める光量未満の受光量となり、非受光状態となる。仮にウェハ21によって反射光が受光部44に達したとしても、受光部44に到達する光は、第1方向に振動する偏光された光であって、受光部44が光を受光することが防がれる。
図9は、位置決め部19を乗り越えて、保持領域からウェハ21がずれて配置された状態を示す断面図である。ウェハ21が位置決め部19に乗り上げた状態で、変位手段17がウェハ21を長手方向Xに移動させると、ウェハ21は、保持領域から長手方向Xへずれてしまう。この場合、投光部43から投光された光は、ウェハ21によって遮光されることがない。すなわち投光部43から投光された光は、リフレクタ47に入射する。そしてリフレクタ47で反射した光は、保持領域59を通過して受光部44に達する。このとき、受光部44に到達する光は、第2方向に振動する偏光された光であって、受光部44が光を受光することができる。したがって受光部44は、予め定める光量以上の受光量となり、受光状態となる。なおウェハ21が保持領域に配置されていない場合も、ウェハ21によって光が遮光されることがないので、受光部44は、受光状態となる。判定手段48は、受光部44から受光状態を示す信号が与えられることによって、ウェハのずれおよびウェハの有無を判定することができる。
図10は、ウェハ処理システム70を示す斜視図である。ウェハ処理システム70は、半導体ウェハ21に成膜処理、エッチング処理および洗浄処理などを行って、半導体装置として形成するシステムである。上述したロボットハンド22は、ロボットアーム23に連結される。ハンド22に保持されたウェハ21は、ロボットハンド22によって、一方の処理位置、たとえばカセット71から他方の処理位置、たとえばアライナ72に搬送される。
本実施の形態のロボットアーム23は、予め定める旋回軸線L2を有する。ロボットアーム23は、旋回軸線L2まわりに角変位自在に設けられる旋回部73と、旋回部73に対して上下方向に移動自在に設けられる昇降部74と、昇降部74に対して旋回軸線L1と垂直な方向に移動自在に設けられるアーム部75とを有する。本実施の形態では、昇降部74に対してアーム部75が移動する方向は、長手方向Xに設定される。旋回部73、昇降部74およびアーム部75は、それぞれ個別に設けられるアーム駆動手段、たとえばサーボモータによって変位駆動される。各サーボモータは、制御手段となるロボットコントローラ76によってそれぞれ制御される。本実施の形態では、コントローラ76は、変位手段であるエアシリンダ15も制御する。
ロボットコントローラ76は、予め定めるプログラムを記憶する。ロボットコントローラ76が予め定めるプログラムを実行することによって、ロボットハンド22によるウェハ移載動作を実行するように、ロボットハンドを移動させることができる。また本実施の形態では、ロボットコントローラ76は、基板状態検出装置20の判定手段48からウェハのずれ状態を示す情報が与えられる。ロボットコントローラ76は、判定手段48から与えられる情報に基づいて、ハンドの動作を変更することができる。
図11は、ロボットコントローラ76によるウェハ移載動作を示すフローチャートである。ステップs1において、コントローラ76は、作業者などからの指令によって、ハンド22によるウェハ21の搬送指示が与えられると、ステップs1に進み、ウェハ移載動作を開始する。ステップs1では、コントローラ76は、各サーボモータを制御してハンド22をウェハ保持準備位置に移動させる。具体的には、ウェハ21の下側にハンド22を配置させて、ステップs2に進む。
ステップs2では、コントローラ76は、各サーボモータを制御してハンド22にウェハ21を乗載させる。具体的には、ウェハ21の下側に配置させたハンド22を上昇させて、カセットなどからウェハ21を受取る。このときウェハ21は、ハンド22の各乗載部35〜38によって支持される。ウェハ21をハンド22に乗載すると、ステップs3に進む。
ステップs3では、コントローラ76は、エアシリンダ15によって当接片16を変位駆動させて、当接片16をウェハ21に当接させる。また当接片16によってウェハ21を長手方向Xに移動させて、ステップs4に進む。ステップs4では、基板状態検出装置20を動作させて、投光部43から光を投光するとともに、受光部44における受光状態を判定部48から取得する。
コントローラ76は、判定部48から与えられる情報に基づいて、保持領域に対するウェハ21がずれていない、すなわち受光部44が非常光状態であることを判断すると、ステップs5に進む。またロボットコントローラ76は、保持領域に対してウェハ21がずれている、すなわち受光部44が受光状態であることを判断すると、ステップs6に進む。
ステップs5では、ウェハ21がずれていないので、コントローラ76は、ハンド22にウェハ21を保持した状態で、ウェハ21を載置すべき載置位置に移動させ、ウェハ21を所定位置に載置し、ステップs9に進む。ステップs9では、コントローラ76は、ウェハ21の移載動作を終了する。
ステップs4において、保持領域に対してウェハ21がずれていることを判断すると、ステップs6に進む。ステップs6では、リトライ回数を調べ、リトライ回数が所定値以下であると、ステップs7に進み、リトライ回数が所定値を超える場合には、ステップs8に進む。なお、移載動作を開始してから始めてステップs6に進んだ場合には、リトライ回数は、ゼロである。
ステップs7では、ステップs2で保持したウェハ21を基板支持体に戻して、ウェハの保持を解除する。具体的には、エアシリンダ15を変位駆動して当接片16をウェハ21から退避させる。そしてウェハ21を下降させて、ウェハ21の乗載を解除する。ウェハ21の乗載を解除すると、ステップs2に戻る。
この後、ステップs2で再びウェハs2を乗載する動作を行う。このとき判定手段48が保持領域に対するウェハ21のずれ方向を推定可能である場合には、コントローラ76は、ウェハ21の推定された情報に基づいて、ハンド22をずらしてウェハ21を乗載してもよい。このようにしてウェハ21の乗載をしなおした回数に応じて、リトライ回数を更新する。
ステップs6において、リトライ回数が予め定める所定値を超えた場合、ウェハ21の乗載および乗載解除を繰り返しても、ウェハ21のずれを解消することができないことをエラー表示し、ステップs9に進む。ステップs9では、コントローラ76は、ウェハ21の移載動作を終了する。
以上のように第1実施の形態では、保持領域に対するウェハ21のずれによって、受光部44の受光状態が変化する。したがって判定手段48が受光部44の受光状態の変化に基づいて、保持領域に配置されるウェハ21のずれ状態を判断することができる。光を用いてウェハ21の有無とともにウェハ21のずれを検出することによって、比較例として当接片16の移動量を検出し、その検出結果に基づいて間接的にウェハ21の有無を検出する場合に比べて、正確にウェハ21のずれを検出することができる。
また保持領域に配置されたウェハ21の縁部50に対して、厚み方向一方Z1に投光部43が配置され、厚み方向他方Z2に受光部44が配置される。また第1光軸51がウェハ21の厚み方向表面に対して略垂直に延びる。これによってウェハ21が中心軸線L1から少しずれただけでも、ウェハ21のずれを検出することができ、第1光軸51がウェハ21の厚み方向表面に略平行な場合に比べて、ウェハ21のずれを精度よく検出することができる。また第1実施形態に示すように、ウェハ21を当接片16によって移動させて挟持する場合、ウェハ21のずれる方向が長手方向Xにずれる場合が多い。本実施の形態では、ブレード30の基端部32にセンサユニットを配置することによって、ウェハ21のずれを好適に判定することができる。
このようにハンド22に保持したウェハ21のずれを精度よく検出することができるので、保持領域に対してウェハ21がずれた状態で、ウェハ21を搬送することを防ぐことができる。これによってウェハ21の損傷および破損を防止することができる。またウェハ21がずれた状態で基板支持体であるカセット71に支持される場合であっても、ウェハ21のずれを防いで保持することができ、カセット71にウェハ21をずれなく正確に保持する必要がない。
また光を偏光することによって、投光部43から投光されて反射体47によって反射された光とは異なる光が、受光部44に達する場合であっても、ウェハ21のずれを正確に判断することができる。たとえば投光部43からの光がウェハ21によって反射して受光部44に達する場合に、ウェハずれの誤検出を防ぐことができる。
また反射体として回帰反射型リフレクタ47を用いることによって、投光部43と受光部44との位置合せを容易に行うことができる。たとえば投光部43と受光部44とを一体化した1つのユニットとして形成することが可能であり、基板状態検出装置20を安価に形成することができる。また投光部43に対して、リフレクタ47を傾けて取り付けてもよく、リフレクタ47の取付けも容易に行うことができる。また乗載部35〜38がウェハ21に対して傾斜している場合であっても、ウェハ21がずれている場合に、投光部43から投光される光を反射して受光部44に容易に受光させることができる。
またリフレクタ47が基部乗載部35,36に設けられることによって、変位手段17によってウェハ21を移動させる前に、ウェハ21のずれを検出することができ、ウェハ21がずれた状態のままで変位手段17がウェハ21を変位させることを防ぐことができる。
またロボットハンド22が基板状態検出装置20を備えることによって、ウェハ21を保持した状態で、保持領域に対するウェハ21のずれを判断することができる。これによってウェハ21がずれた状態のままで、ウェハ21を搬送することを防ぐことができ、基板の損傷および破損を防いで、生産効率を向上することができる。
またロボットコントローラ76が、基板状態検出装置20の判定手段48の検出結果に基づいて、サーボモータを制御することによって、ウェハ21がずれた場合におけるロボットアーム23およびハンド22の動作を変更することができ、利便性を向上することができる。たとえばウェハ21がずれたことを判断すると、ウェハ21をカセット71に戻して、保持動作を再度行わせることによって、ウェハ21をずれなく保持させることができる。また基板状態検出装置20が、ウェハ21がずれた方向を出力可能である場合には、ウェハ21のずれた方向に基づいて、アーム駆動手段の移動位置を変更することによって、ウェハ21のずれを補正してウェハ21を正確に保持することができる。
さらに2つ以上のセンサユニットが設けられることによって、ハンド22によってウェハ21を保持した状態で、幅方向Yにウェハ21がスライド移動する場合であっても、ウェハ21のずれを精度よく判定することができ、利便性を向上することができる。これによってウェハ21がずれた状態で変位手段17がウェハ21を変位させることをより確実に防いで、ウェハ21の損傷を防ぐことができる。なお、ハンド22が変位手段17を有する場合には、ウェハ21がずれる方向が長手方向Xおよび幅方向のいずれかであるので、2つのセンサユニットによって、ウェハ21のずれを十分に判定することができる。またセンサユニットが2つ以上設けられることによって、ウェハ21にオリフラやノッチが形成される場合であっても、正確にウェハ21のずれを判断することができる。
また投光部43と受光部44とが同軸に形成されてもよい。これによって投光部43によって投光された光を、受光部44が受光する受光効率を向上することができる。また乗載部35〜38にリフレクタ47を設けることによって、ブレード本体を加工する必要がなく、ロボットハンドを安価に形成することができる。
図12は、本発明の第2実施の形態である基板状態検出装置120を示す斜視図である。第2実施形態では、ロボットハンド122は、ウェハ21を吸着して保持する。ロボットハンド122は、上述したロボットハンドと同様にアーム連結部131と、ブレード130とが形成される。ブレード130には、ウェハ21を下方から吸着する吸着パッド100が設けられる。吸着パッド100は、ブレード130の各先端部133,134にそれぞれ設けられる。
第2実施の形態である基板状態検出装置120は、3つの検出構成体101,102,103が設けられる。第1の検出構成体101は、長手方向Xに延びて中心軸線L1を挿通する仮想線U1に沿って配置され、保持領域に配置されるウェハ21の縁部150に対向する。また第2および第3の検出構成体102,103は、第1の検出構成体101に対して幅方向Y両側にそれぞれ配置される。すなわち各検出構成体100〜103は、幅方向Yにそれぞれずれるとともに、第1の検出構成体101と、第2および第3の検出構成体102,103とが長手方向Xにずれて設けられる。このように3つの検出構成体101〜103が設けられることによって、保持領域に対してウェハ21のずれを幅方向Yおよび長手方向Xにより精度よく判定することができる。またウェハ21が保持領域に対してずれる方向についてもより精度よく判定することができる。
図13は、基板状態検出装置120を説明するための断面図である。各検出構成体101〜103は、投光部143と、受光部144と、反射体147とを有する。投光部143は、保持領域にウェハ21が配置された場合にそのウェハ21の縁部150に対向し、保持領域よりもハンド厚み方向一方Z1に配置される。投光部143は、第1光軸152に沿って進む光を投光する。第1光軸152は、ウェハ21の厚み方向一報側の表面に略垂直に延び、保持領域の外方であって、保持領域よりもアーム連結部131側となり保持領域に隣接する隣接領域を挿通してハンド厚み方向他方Z2に向かう。
反射体147は、保持領域にウェハ21が配置された場合にそのウェハ21の縁部に対向する。反射体147は、保持領域よりもハンド厚み方向他方Z2に配置され、第1光軸151に沿って進む光を、定める第2光軸152に沿って進むように反射する。第2光軸152は、厚み方向一方Z1に進むとともに反射体147から中心軸線L1に向かう方向に進む。
受光部144は、保持領域にウェハ21が配置された場合に反射体147によって反射されて第2光軸152に沿って進む光が、ウェハ21によって反射されて予め定める第3光軸153に沿って進む光を受光する。第3光軸153は、第2光軸152とウェハ21との交点から厚み方向他方Z2に進むとともに中心軸線L1に向かう方向に進む。
図13に示すように、ウェハ21が保持領域に配置された状態では、投光部143から投光された光は、隣接領域を通過して、反射体147に到達し、反射体147によって第2光軸152に沿う方向に反射される。第2光軸152に沿う光はウェハ21によって反射されて第3光軸153に沿う方向に反射される。第3光軸153に沿う光は、受光部144に到達することによって受光部144が受光状態となる。
図14は、ウェハ21が保持領域よりも手前にずれて配置される場合を示す断面図である。この場合、投光部143から投光された光は、隣接領域を通過して、反射体147に到達し、反射体147によって第2光軸152に沿う方向に反射される。反射体147によって反射されて第2光軸152に沿って進む光は、ウェハ21によって反射されず、受光部144に到達することがない。これによって受光部144は、非受光状態となる。
図15は、ウェハ21が保持領域を通過して隣接領域までずれて配置される場合を示す断面図である。この場合、投光部143から投光された光は、ウェハ21によって遮光されて、反射体147に到達することが阻止される。これによって受光部144は、非受光状態となる。
このように保持領域に対するウェハ21のずれによって、受光部144の受光状態が変化する。判定手段は、受光部144の受光状態の変化に基づいて、保持領域に配置されるウェハ21のずれ状態を判断することができる。本実施の形態では、反射体147とウェハ21とによって光をそれぞれ反射させて、投光部143から受光部144に光を導くことによって、ウェハ21のずれを精度よく検出することができる。具体的には、反射体147からの光がウェハ21によって反射されない場合と、投光部143から反射体147へ向かう光を遮光する場合と、をウェハ21のずれとして判断することができる。すなわちウェハ21が保持領域まで達していなくても、ウェハ21が保持領域を通り過ぎていても、ウェハ21のずれとして判断することができる。また上述したように、投光部143は、予め定める第1方向にだけ振動する偏光された光を投光し、受光部144は、予め定める第2方向にだけ振動する偏光された光を受光し、反射体147は、第1方向に振動する光を第2方向に振動する光として反射してもよい。これによって検出精度をさらに向上することができる。
さらに3つ以上の検出構成体101〜103が設けられることによって、ハンド22によってウェハ21を吸着保持した状態で、保持領域から任意の方向にウェハ21がスライド移動する場合であっても、ウェハ21のずれを精度よく判定することができ、利便性を向上することができる。また長手方向Xおよび幅方向Yのずれを検出することができる。
以上のように本発明の第2実施の形態によれば、3つ以上の検出構成体101〜103が設けられることによって、任意の方向に対するウェハ21のずれを検出することができる。またウェハ21がずれる方向を検出することができる。これによってウェハ21を保持するときはもちろん、ウェハ21を搬送するときにウェハ21が任意の方向にずれた場合であっても、ウェハ21のずれを検出することができる。
また反射体147とウェハ21とによって光をそれぞれ反射させて、投光部143から受光部144に光を導くことによって、ウェハ21が保持領域まで達していなくても、またウェハ21が保持領域を通り過ぎていても、ウェハ21のずれとして判断することができる。またウェハ21によって光を反射させることによって、基板状態検出装置120の構成を簡略化することができ、ウェハ21のずれ検出精度が高く、安価な基板状態検出装置120を実現することができる。
上述した実施の形態は、本発明の例示に過ぎず、発明の範囲内において構成を変更することができる。たとえば基板として半導体ウェハを用いたが、基板状態検出装置20は、半導体ウェハ以外の位置ずれを検出してもよい。またハンド22は、第1実施の形態のようにウェハ21の外周部を挟持するチャック式ハンドであってもよく、第2実施の形態のようにウェハ21を吸着パッドによって吸着する吸着パッド式ハンドであってもよい。またハンドに案内面が形成されており、案内面に案内させてウェハ21を落とし込む落とし込み式ハンドであってもよい。このようにハンド22によるウェハ21の保持形式についてはこだわらない。また第1実施形態において、第2実施形態に示す検出構成体を設けてもよい。また第2実施形態において、第1実施形態に示すセンサユニットを設けてもよい。また各実施形態では、2つ以上の乗載部を設けたが、乗載部およびセンサユニットは、4つ以上であってもよい。ただし図12に示すように、複数センサユニットが設けられる場合、中心軸線L1まわりの周方向一方のセンサユニットと、中心軸線L1まわりの周方向他方のセンサユニットとの間の角度θ1は、180度以下に設定されることが好ましく、投光部および受光部をロボットハンドの基端部側に設けることが好ましい。これによって、先端部側にセンサユニットを配置する場合に比べて、ウェハ21の保持動作を容易に行うことができる。
また第1実施形態において、反射体として回帰反射型リフレクタを用いたが、リフレクタに換えて、プリズムによって実現されてもよい。このように第1実施形態では、反射体は、入射する光の入射方向に対して反対の方向である反射方向に反射するような性質、いわゆる回帰性を有するものであればよい。また本実施形態では、ブレード30は、水平に延びるとしたが、吸着パッド方式の場合など、水平方向以外の方向に延びてもよい。