JP2006058658A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 液晶パネルの長辺及び短辺の部品実装等の処理を単一の装置で行うような場合において、反り矯正ユニットを用いた液晶パネルの側縁部の吸着処理を適切に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板処理装置１００は、液晶パネル１０４の側縁部近傍の反りを矯正するための吸着パット２０２を有する反り矯正ユニット２０１、加圧ヘッド２０４を用いて電子部品の実装処理を行うための載置台となるバックアップステージ２０３、反り矯正ユニット２０１の内部に形成されている中空部に接続され、吸着パット２０２に接続される真空経路１０１，１０２及び１０３、反り矯正ユニット２０１に形成されている中空部を所定領域において遮断するためのエア止め栓４０１等を備える。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶パネル等の基板の側縁部にＩＣ等の半導体部品の実装を行う基板処理装置に関し、特に、大版の液晶パネルへの部品実装時における処理を行う基板処理装置に関する。

近年、大型の液晶テレビに代表されるように、大版の液晶パネルの需要が増加しており、大版の液晶パネルから小版の液晶パネルまで大小様々な大きさの液晶パネルが生産されている。

そして、従来、液晶パネルの側縁部に半導体部品を接着する液晶実装装置等においては、液晶実装機側にバックアップステージが設けられ、このバックアップステージに液晶パネルの側縁部を載置することにより、電子部品の装着処理が行われる。

また、バックアップステージの近傍に、並設して配置され、液晶パネルの側縁部近傍を所定間隔において吸着する吸着パットを備える反り矯正ユニットを設けて、液晶パネルの側縁部の反りやたわみを防止する基板処理装置がある。

ところで、液晶パネルの側縁部への電子部品の装着精度を向上させるために、液晶パネルの被吸着支持面と部品装着部との段差の違いにも関わらず、これを適正に保持して加圧を伴う部品の接合を首尾よく達成される液晶パネルの基板処理装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開平５−２２８７５５号公報

しかしながら、比較的大版の液晶パネルにおいては、液晶パネルの各辺の距離が長くなるために、小型の液晶パネルと比較して半導体部品の実装面である側縁部の反りやたわみが生じやすく、部品実装における各工程において処理精度が低下するという問題が生じている。

例えば、基板に部品の圧着を行う基板処理装置においては、液晶パネルの部品装着部である側縁部が反りによりバックアップステージから浮き、加圧ツールによって加圧したときに半導体部品の装着ズレ、或いは接合不良が生じたりするという問題である。

また、上述した反り矯正ユニットを設けて液晶パネルの反りを矯正する方法においても、液晶パネルには大小様々な大きさのパネルが存在するために、例えば、液晶パネルの長辺側の実装時において、反り矯正ユニットの長さが液晶パネルの長さより長いために端部の吸着パットからエアのリークが発生したり、或いは吸着領域が短辺側の大きさに設定されているために、液晶パネルの長辺側の実装処理を行う場合において液晶パネルの両端部の反り矯正を行うことができない等の理由で基板サイズによって交換する必要がある。

そこで、本発明は、上述の事情を考慮してなされたもので、大版の液晶パネル等の基板を用いた部品実装等の各工程において、液晶パネルの大きさに合わせた吸着処理を行って、側縁部における反り矯正を行い、基板の処理精度を向上させた基板処理装置を提供することを目的とする。

以上の課題を解決するために、本発明に係る基板処理装置は、基板の側縁部に電子部品を実装するための工程に用いる基板処理装置であって、前記基板の側縁部の下面を支えるための載置台である第一ステージと、前記基板の側縁部の下面を吸着する吸着部、及び前記基板の側縁部の下面を規正する平面部を有する第二ステージと、前記第二ステージに形成されている中空部を介して前記吸着部と接続される複数の真空経路と、前記中空部を開閉する開閉手段とを備えることを特徴とする。

また、本発明に係る基板処理装置の前記中空部は、前記第二ステージを水平方向に横切って内部に形成される第一中空部、及び当該第一中空部と前記吸着部を接続する鉛直方向に形成される第二中空部からなり、前記開閉手段は、前記第一中空部の間に所定間隔において形成される第一止め栓と、前記第二中空部それぞれに形成される第二止め栓とから構成されることを特徴とする。

さらに、本発明に係る基板処理装置は、さらに、前記第二ステージの長手方向の中央部分に位置する前記中空部に接続される第一真空経路と、左右の両端部分に位置する前記中空部に接続される第二真空経路と、前記基板の短辺側及び長辺側の処理を行う場合において、前記第一真空経路及び前記第二真空経路から使用する真空経路を判断する真空経路判断手段とを備えることを特徴とする。

これらの構成により、第二ステージの内部に前記吸着部と接続される複数の中空部が形成されているために、開閉手段により中空部の開閉を行うことにより、基板の大きさに合わせて吸着領域を変更できる。

また、液晶パネル等の基板の長辺方向又は短辺方向の処理において、真空経路判断手段において、使用される真空経路の判断を行い切り替えることができる。
以上により、大小様々な大きさの基板に対しても、エアのリークを確実に防止して、適切に側縁部の吸着処理を行って、反りを矯正し、液晶パネルへの電子部品の処理精度の向上を図ることが可能となる。

そして、本発明に係る基板処理装置は、基板の側縁部に電子部品を実装するための工程に用いる基板処理装置であって、前記基板の側縁部の下面を吸着する吸着部、及び前記基板の側縁部の下面を規正する平面部を有するステージと、前記ステージに形成されている中空部を介して前記吸着部と接続される複数の真空経路と、前記中空部を開閉する開閉手段とを備えることを特徴とする。

また、本発明に係る基板処理装置の前記中空部は、前記ステージを水平方向に横切って内部に形成される第一中空部、及び当該第一中空部と前記吸着部を接続する鉛直方向に形成される第二中空部からなり、前記開閉手段は、前記第一中空部の間に所定間隔において形成される第一止め栓と、前記第二中空部それぞれに形成される第二止め栓とから構成されることを特徴とする。

さらに、本発明に係る基板処理装置は、さらに、前記ステージの長手方向の中央部分に位置する前記中空部に接続される第一真空経路と、左右の両端部分に位置する前記中空部に接続される第二真空経路と、前記基板の短辺側及び長辺側の処理を行う場合において、前記第一真空経路及び前記第二真空経路から使用する真空経路を判断する真空経路判断手段とを備えることを特徴とする。

これらの構成により、バックアップステージ等の基板側縁部の載置台を備えていない基板処理装置においても、真空経路判断手段により液晶パネル等の基板の長辺方向又は短辺方向の処理において、使用される真空経路を切り替えて、基板の大きさに合わせて吸着領域を変更することが出来る。

尚、前記目的を達成するために、本発明は、基板処理装置の特徴的な構成手段をステップとする部品実装方法としたり、この基板処理装置を備える液晶実装機として用いることもできる。

本発明に係る基板処理装置は、大版の液晶パネルに電子部品を実装するための端子洗浄工程、部品実装工程、リードチェッカー等の各工程においても、大小様々な形状の液晶パネルの短辺及び長辺側の大きさに合わせて適切に吸着処理を行って、液晶パネルの反りを矯正して、実装処理時の精度を向上できる。

以下、本発明に係る基板処理装置について図面を参照して説明する。
（実施の形態１）
図１は、本発明に係る基板処理装置１００の拡大斜視図を示す。

尚、本実施の形態１の説明においては、基板処理装置１００としては、半導体部品を液晶パネルに本圧着する本圧着装置の図面を用いて説明を行うが、液晶パネルにＩＣを装着する前工程において液晶パネルの側縁部を洗浄する端子洗浄機、ＩＣの装着後にＴＡＢのリード位置検査を行うリードチェッカー等でも良い。また、本発明に係る基板処理装置１００は、特に、大版の液晶パネルの長辺及び短辺の処理を単一の装置で行うものである。また、本実施の形態１においては、液晶パネルの長辺であるソース側の長さが、反り矯正ユニットの吸着領域と同様である場合について説明するものである。

図１に示す本圧着工程における基板処理装置１００は、反り矯正ユニット２０１、バックアップステージ２０３、加圧ヘッド２０４、エア止め栓４０１等を備えている。
この基板処理装置１００は、バックアップステージ２０３においてプレスするための加圧ヘッド２０４を用いて加熱処理及び加圧処理しながら仮圧着された半導体部品を液晶パネルの側縁部に本接合する。また、反り矯正ユニット２０１を備え、大版の液晶パネルにおいて側縁部の反りを矯正して平坦性を保ちながら、本圧着処理を行うことができる。

また、例えば、液晶パネルの縦方向及び横方向を単体の装置で処理できるように、パネルステージにおいて液晶パネルを吸着しながら回転、移動させる。
反り矯正ユニット２０１には、バックアップステージ２０３から約２０ｍｍ離れた位置に並設して、バックアップステージ２０３と同様の長手方向の長さを持って配置され、液晶パネルを吸引するために複数のジャバラパット２０２が設けられている。このジャバラパット２０２が約３０ｍｍ間隔毎に、所定間隔において長手方向に亘って複数設けられる。また、ジャバラパット２０２は真空吸着を行うために、反り矯正ユニット２０１の内部に設けられる中空部の（後述の図４において詳細に説明）を介して真空源となるバキューム装置に接続されている。

そして、液晶パネル１０４のソース側及びゲート側の側縁部がバックアップステージ２０３及び反り矯正ユニット２０１上に載置され、ジャバラパット２０２を用いて吸引処理を行うことにより液晶パネルの側縁部の平坦性を保つことが可能となる。

バックアップステージ２０３は、液晶パネルの側縁部が半導体装置の圧着時に加圧されるのを背後からバックアップするためのステージであり、加圧ヘッド２０４は加圧処理及び加熱処理により半導体部品を液晶パネルの側縁部へ本圧着する。尚、図１において、加圧ヘッド２０４は半導体部品を個別的に加圧する個別加圧方式を示している。

そして、本発明においては、反り矯正ユニット２０１の中央部下面及び左右両端部の３箇所において真空経路１０１、１０２、及び１０３が設けられている。また、基板処理装置１００は、基板データに基づいて、複数の真空経路１０１、１０２、及び１０３から使用する真空経路を判断する真空経路判断手段となるコントローラを備えている。従って、液晶パネルの長辺及び短辺方向において、コントローラが、これら真空経路１０１、１０２、及び１０３の使用を選択することにより、反り矯正ユニット２０１に設けられている吸着パットの吸着領域を適切に決定することができる。

尚、本図において反り矯正ユニット２０１はバックアップステージ２０３に固定されているが、反り矯正ユニット２０１をバックアップステージ２０３に左右２個のブロックにて取り付けることにより、反り矯正ユニット２０１の品種の変更を簡易的に行うことが可能となる。

図２は、基板処理装置１００において部品が実装される大版の液晶パネル１０４の外観図を示す。ここで大版の液晶パネルとは、例えば、２０インチ以上の３４インチ（７７３ｍｍ×４３３ｍｍ）や、２５インチ（５７３ｍｍ×３２１ｍｍ）のパネルであり、小版の液晶パネルとは、例えば２０インチ以下の１５インチ（３１５ｍｍ×２３９ｍｍ）のパネルとなる。

この液晶パネルの種類には、例えば液晶表示基板（ＬＣＤ基板）、プラズマ表示パネル基板（ＰＤＰ基板）等のガラス製基板、フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ基板）を含む基板、そして、半導体部品の種類としてはＩＣチップ、各種半導体デバイス等となる。

尚、本図においては液晶パネルの３辺に電子部品の実装処理を行う液晶パネルを示したが、例えば小版の液晶パネルにおいては長辺及び短辺の２辺に実装される。
図３は、本実施の形態１に係る基板処理装置１００の反り矯正ユニット２０１において液晶パネル１０４の反りを矯正する場合の説明図を示す。

図３（ａ）は、液晶パネル１０４の側縁部の反りが矯正される前の側面図を示し、液晶パネル１０４がジャバラパット２０２の上に載置される。また、大版の液晶パネル１０４は複数のガラスが重ね合わせて構成されているため、長手方向の中心部が撓むと共に、側縁部が図３（ａ）に示すように波打つ形状となっている。そして、液晶パネルが載置される前においては、ジャバラパット２０２の上面が反り矯正ユニット２０１の上面より、例えば約２．５ｍｍ突出するように構成されている。この構成により、載置される液晶パネルの側面部の形状に沿ってジャバラパット２０２を確実に接触させて、真空吸引できる。尚、ジャバラパット２０２はゴム製の市販のものであり、径は例えば約１０ｍｍとなる。

図３（ｂ）は、液晶パネル１０４の側縁部の反りが矯正された後の側面図を示し、ジャバラパット２０２を用いて真空吸着することにより、確実に液晶パネル１０４の反りを矯正して側縁部の平坦性を保つことが可能となる。

図４は、本実施の形態１に係る基板処理装置１００における反り矯正ユニットの側面図である。
エアの流通経路である中空部は、反り矯正ユニットの内部に形成される水平方向の中空部と、当該水平方向の中空部と吸着パットとの間を垂直方向に貫通する鉛直方向の中空部とから形成されている。そして、中空部には、反り矯正ユニットの中間部と、両端部の３箇所において真空経路１０１〜１０３が接続されている。

また、中空部にはエア止め栓が貫通して形成されている。このエア止め栓は、貫通孔の形成されているエア止め栓及び貫通孔の形成されていないエア通過栓を用いて吸着位置の調整を行ったり、貫通孔の形成されているエア止め栓を９０度回転または軸方向にスライドすることによりエアの通過経路の開閉を行うこともできる。

そして、図４（ａ）は、液晶パネル１０４のゲート側の実装処理を行う場合の側面図であり、真空経路判断手段であるコントローラは、液晶パネルのゲート側の幅に合わせて、エア止め栓４０１を閉じて通路を遮断する。そして、ゲート側の実装時においては真空経路１０２のみを用いて液晶パネルを吸引する。

図４（ｂ）は、液晶パネル１０４のソース側の実装処理を行う場合の側面図であり、ソース側の実装処理においては、コントローラは使用する真空経路を真空経路１０１〜１０３に変更し、その後に吸引処理を行うことにより、エアのリークを生じることなく液晶パネルの側縁部の吸引処理を行って反り矯正を行うことが可能となる。

図５は、本発明に係る反り矯正ユニット２０１において、エア止め栓とエア通過栓を用いる場合の拡大断面図である。
本図に示すように、液晶パネル１０４の側縁部はバックアップステージ２０３の上部まで移動された後に、矢印に示す方向に下降して反り矯正ユニット２０１及びバックアップステージ２０３上に載置される。そして、液晶パネル１０４の側縁部は、反り矯正ユニット２０１より突出して形成されるジャバラパット２０２上に載置されることとなる。

図５（ａ）は、エア止め栓４０１を用いる場合の断面図であり、貫通孔が形成されていないために、エアの通過を遮断することができる。一方、図５（ｂ）はエア通過栓５０２を用いる場合の断面図であり、エアが通過するために真空経路の径に合わせた貫通孔５０２ａが形成されているために、エアの通過を遮ることがない。尚、上述したように、本図に示すようにエア通過栓５０２及びエア止め栓４０１の２種類の栓を用いる以外に、貫通孔を有する１つの栓を９０度回転または軸方向にスライドさせることにより同様の機能を持たせることも可能となる。

図６は、本発明に係る基板処理装置１００において、液晶パネル１０４のゲート側及びソース側の処理手順を説明するためのフローチャートである。
最初に、液晶パネル１０４が基板処理装置１００に搬送されると、液晶パネルのゲート側の実装処理が行われる（Ｓ６０１）。

次に、本実施の形態１においては液晶パネルの３辺の実装処理を行うために、ＸＹステージやパネルステージを用いて液晶パネルを１８０度回転させて（Ｓ６０２）、他端のゲート側の実装処理を行う（Ｓ６０３）。

また、パネルステージ等を用いて液晶パネルを９０度回転させた後に（Ｓ６０４）、液晶パネルのソース側の実装処理を行う（Ｓ６０５）。尚、液晶パネルのソース側の実装処理を先に行うことができるのは言うまでもない。

図７は、本発明に係る基板処理装置１００において、液晶パネル１０４のゲート側の反り矯正における動作手順を示すフローチャートである。
最初に、真空経路判断手段であるコントローラは、液晶実装が行われる液晶パネル１０４のゲート側の端部の幅に合せて、エア止め栓４０１を閉じる（Ｓ７０１）。次に、パネルステージを用いて液晶パネル１０４の側縁部が、反り矯正ユニット２０１及びバックアップステージ２０３上に載置されるように搬入され（Ｓ７０２）、そして、真空経路１０２を用いて、吸着部であるジャバラパット２０２を介して液晶パネル１０４の側縁部の吸引を行って液晶パネルの反りを矯正した後に（Ｓ７０３）、液晶パネル１０４上への電子部品の圧着処理を行う（Ｓ７０４）。

図８は、本発明に係る基板処理装置１００において、液晶パネル１０４のソース側の反り矯正における動作手順を示すフローチャートである。
最初に、パネルステージを用いて液晶パネル１０４の側縁部が、反り矯正ユニット２０１及びバックアップステージ２０３上に載置されるように搬入され（Ｓ８０１）、真空経路判断手段であるコントローラの判断により真空経路１０１〜１０３を用いて液晶パネル１０４の側縁部の真空吸着処理を行い（Ｓ８０２）、最後に、液晶パネル１０４の側縁部へ電子部品の圧着処理を行う（Ｓ８０３）。

以上の説明のように、本実施の形態に係る基板処理装置１００は、液晶パネル１０４の本圧着処理が行われるバックアップステージ２０３に並設して反り矯正ユニット２０１を設け、この反り矯正ユニット２０１には真空吸着するためのジャバラパット２０２を用いて液晶パネル１０４の側縁部を吸引する。

このことにより、特に反りや撓みの生じやすい大版の液晶パネル１０４の側縁部の平坦性を保つことができ、液晶パネルの各処理工程において、電子部品の装着精度を向上させることが可能となる。

また、本実施の形態１に係る基板処理装置１００は、真空経路を反り矯正ユニットの３箇所において設け、真空経路判断手段となるコントローラは液晶パネルのゲート側とソース側の実装処理を行う場合において使用する真空経路を変更する。また、液晶パネルのゲート側の端部近傍に位置するエア止め栓を閉じる。

従って、これら構成により、液晶パネルの吸着時におけるエア漏れ等を確実に防止して、基板処理時における精度の向上を図ることが可能となる。
また、本発明に係る基板処理装置１００は、真空経路の使用を切り替えるのみでゲート側及びソース側の反り矯正を行うことができるために、ソース側及びゲート側を単一の処理工程で行う装置において有効となる。

尚、通常、本圧着装置においては、通常、液晶パネルのソース側及びゲート側の２辺の圧着処理において、全く同じ本圧着装置を並べて行う。このため、電子部品の実装処理を行う基板サイズの変更時においても、各装置の吸着領域のセッティングを変更するのみで、液晶パネルの長辺もしくは短辺に対応可能とすることが可能となる。
（実施の形態２）
以下、本発明に係る基板処理装置１００の第二の形態について図面を参照しながら説明を行う。尚、本実施の形態２においては、液晶パネルのソース側の長さが、反り矯正ユニットの吸着領域よりも短くなる場合における吸着方法に特徴を有する。

図９は、本実施の形態２に係る基板処理装置１００の斜視図となる。
本図の斜線部に示す液晶パネル１０４のように、液晶パネル１０４のソース側の長さが反り矯正ユニット２０１の長手方向の長さに比較して小さい場合においては、液晶パネル１０４のソース側を反り矯正ユニット２０１上に載置した場合において、使用されない吸着パット２０２が反り矯正ユニットの左右の両端部において生じている。尚、基板処理装置１００のその他の構成については、上述した図１と同様のために、その詳細な説明は省略する。

図１０は、本実施の形態２に係る基板処理装置１００における反り矯正ユニットの側面図である。
エアの流通経路である中空部、エア止め栓４０１及び１００２、及び真空経路１０１〜１０３の構成は上述した図４と同様である。

そして、図１０（ａ）は、液晶パネル１０４のゲート側の実装処理を行う場合の側面図であり、液晶パネルのゲート側の幅に合わせて、エア止め栓４０１を閉じて通路を遮断する。そして、ゲート側の実装時においては真空経路１０２のみを用いて液晶パネルを吸引する。

図１０（ｂ）は、液晶パネル１０４のソース側の実装処理を行う場合の側面図であり、液晶パネルのソース側の幅に合わせて、エア止め栓１００２を閉じてエアの通路を遮断する。そして、真空経路判断手段であるコントローラは、ソース側の実装処理においては、使用される真空経路を真空経路１０２のみから真空経路１０１〜１０３に変更して吸引処理を行うことにより、液晶パネルが載置されていないジャバラパットの左右両端部からもエアのリークを生じることなく、液晶パネルの側縁部の吸引処理を適切に行って反り矯正を行うことが可能となる。

図１１は、本発明に係る基板処理装置１００において、液晶パネル１０４のゲート側の反り矯正における動作手順を示すフローチャートである。
最初に、液晶実装が行われるゲート側の液晶パネル１０４の幅に合せて、反り矯正ユニット２０１において真空吸着を行うジャバラパット２０２の領域の端部となるエア止め栓４０１を閉じる。また、液晶パネルのソース側の長さに合わせて、ソース側の左右の端部に位置するエア止め栓１００２を閉じる（Ｓ１１０１）。

以下、Ｓ１１０２〜１１０４間での処理は、上述した実施の形態１の図７に示すＳ７０２〜Ｓ７０４間での処理と同様であるために、その説明は省略する。
図１２は、本発明に係る基板処理装置１００において、液晶パネル１０４のソース側の反り矯正における動作手順を示すフローチャートである。

最初に、液晶実装が行われるゲート側の液晶パネル１０４の幅に合せて、反り矯正ユニット２０１において真空吸着を行うジャバラパット２０２の領域の端部となるエア止め栓９０１を閉じる。また、液晶パネルのソース側の長さに合わせて、ソース側の左右の端部に位置するエア止め栓９０２を閉じる（Ｓ１２０１）。以下、Ｓ１２０２からＳ１２０４までの処理は、上述した図８におけるＳ８０２からＳ８０４までの処理と同様であるために、その説明を省略する。

以上の説明のように、本実施の形態２に係る基板処理装置１００においては、上述した実施の形態１における作用効果と共に、液晶パネル１０４のソース側の長さが、反り矯正ユニット２０１のバックアップの長さである吸着領域よりも短くなるような場合においても、エア止め栓４０１のみでなくエア止め栓１００２を閉じてエアの通路を遮断することにより、液晶パネル１０４が載置されていない吸着パットからのエアのリークを防止すると共に、液晶パネル１０４のゲート側及びソース側の処理を単一の装置において適切に行うことが可能となる。

尚、図１３は、本発明に係る反り矯正ユニット１３０５を備える端子洗浄機１３００の外観図を示す。
端子洗浄機１３００は、液晶パネルへの電子部品の実装処理前の工程において、電子部品が実装される側縁部の上面及び下面を洗浄するための装置であり、液晶パネルの位置の補正を行うために液晶パネルの位置を撮像する補正用カメラ１３０１、液晶パネルの側縁部をクリーニング用の布を用いて洗浄する洗浄ヘッド１３０２、液晶パネルの洗浄する側縁部の近傍が載置されるバックアップステージ１３０３、液晶パネルのＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向の位置決めを行うと共に、液晶パネルのゲート側又はソース側の変更を回転により行い、洗浄中においては真空吸着により載置されている液晶パネルを固定するパネルステージ１３０４、洗浄中において液晶パネルの側縁部の反りを矯正する反り矯正ユニット１３０５等を備えている。

この反り矯正ステージ１３０５には、上述した各実施の形態と同様に、液晶パネルの反りを矯正するための吸着パット１３０５ａ、液晶パネルの大きさに合わせて吸着領域を変更するエア止め栓１３０５ｂやエア通過栓が備えられ、液晶パネルのソース側及びゲート側の処理においてコントローラを用いて複数の真空経路から使用する真空経路を判断して、吸着領域の変更を行う。

このため、端子洗浄機１３００は、ソース側とゲート側の洗浄工程において、反り矯正ユニット１３０５において側縁部の反りを矯正しながら端子の洗浄処理を１つの装置内で行うことができる。

また、上述の各実施の形態の説明において、本発明に係る基板処理装置を、液晶パネルのゲート側及びソース側の装着処理を単体の本圧着装置や端子洗浄機で行うものとして説明を行ったが、例えば、電子部品の圧着工程後のリードチェッカー等の装置において用いることができることは言うまでもない。

本発明に係る基板処理装置は、特に大版の液晶パネルに半導体部品を実装するための各工程において用いることができ、例えば、液晶ドライバ実装機のＡＣＦ貼付け工程、仮圧着工程、本圧着工程や、その前後の工程である端子洗浄機やリードチェッカー等において用いることができる。

本発明に係る基板処理装置の拡大斜視図 基板処理装置において部品が実装される大版の液晶パネルの外観図 実施の形態１に係る基板処理装置の反り矯正ユニットにおいて液晶パネルの反りを矯正する場合の説明図 実施の形態１に係る基板処理装置における反り矯正ユニットの側面図 反り矯正ユニットにおいて、エア止め栓とエア通過栓を用いる場合の拡大断面図 基板処理装置において、液晶パネルのゲート側及びソース側の処理手順を説明するためのフローチャート 基板処理装置において、液晶パネルのゲート側の反り矯正における動作手順を示すフローチャート 基板処理装置において、液晶パネルのソース側の反り矯正における動作手順を示すフローチャート 実施の形態２に係る基板処理装置の斜視図 実施の形態２に係る基板処理装置における反り矯正ユニットの側面図 基板処理装置において、液晶パネルのゲート側の反り矯正における動作手順を示すフローチャート 基板処理装置において、液晶パネルのソース側の反り矯正における動作手順を示すフローチャート 本発明に係る反り矯正ユニットを備える端子洗浄機の外観図

符号の説明

１００ 基板処理装置
１０１，１０２，１０３ 真空経路
１０４ 液晶パネル
２０１ 反り矯正ユニット
２０２ ジャバラパット
２０３ バックアップステージ
２０４ 加圧ヘッド
４０１，１００２ エア止め栓
４０１ａ，４０１ｂ 中空部
１３００ 端子洗浄機
１３０１ 補正用カメラ
１３０２ 洗浄ヘッド
１３０３ バックアップステージ
１３０４ パネルステージ
１３０５ 反り矯正ユニット

Claims (10)

1. 基板の側縁部に電子部品を実装するための工程に用いる基板処理装置であって、
   前記基板の側縁部の下面を支えるための載置台である第一ステージと、
   前記基板の側縁部の下面を吸着する吸着部、及び前記基板の側縁部の下面を規正する平面部を有する第二ステージと、
   前記第二ステージに形成されている中空部を介して前記吸着部と接続される複数の真空経路と、
   前記中空部を開閉する開閉手段とを備える
   ことを特徴とする基板処理装置。
2. 前記中空部は、前記第二ステージを水平方向に横切って内部に形成される第一中空部、及び当該第一中空部と前記吸着部を接続する鉛直方向に形成される第二中空部からなり、
   前記開閉手段は、前記第一中空部の間に所定間隔において形成される第一止め栓と、前記第二中空部それぞれに形成される第二止め栓とから構成される
   ことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記基板処理装置は、さらに、
   前記第二ステージの長手方向の中央部分に位置する前記中空部に接続される第一真空経路と、
   左右の両端部分に位置する前記中空部に接続される第二真空経路と、
   前記基板の短辺側及び長辺側の処理を行う場合において、前記第一真空経路及び前記第二真空経路から使用する真空経路を判断する真空経路判断手段とを備える
   ことを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置。
4. 前記開閉手段は、前記吸着部毎の開閉を調整できるように、前記中空部に貫通して配置され、前記中空部と一致する位置に貫通孔が形成されているエア通過栓、又は貫通孔が形成されていないエア止め栓である
   ことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
5. 前記吸着部は、前記第二ステージの上面に貫通するように、前記第二ステージの長手方向に亘って所定間隔で複数設けられ、前記基板の吸着方向である上下方向に可撓な吸着パットである
   ことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
6. 基板の側縁部に電子部品を実装するための工程に用いる基板処理装置であって、
   前記基板の側縁部の下面を吸着する吸着部、及び前記基板の側縁部の下面を規正する平面部を有するステージと、
   前記ステージに形成されている中空部を介して前記吸着部と接続される複数の真空経路と、
   前記中空部を開閉する開閉手段とを備える
   ことを特徴とする基板処理装置。
7. 前記中空部は、前記ステージを水平方向に横切って内部に形成される第一中空部、及び当該第一中空部と前記吸着部を接続する鉛直方向に形成される第二中空部からなり、
   前記開閉手段は、前記第一中空部の間に所定間隔において形成される第一止め栓と、前記第二中空部それぞれに形成される第二止め栓とから構成される
   ことを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
8. 前記基板処理装置は、さらに、
   前記ステージの長手方向の中央部分に位置する前記中空部に接続される第一真空経路と、
   左右の両端部分に位置する前記中空部に接続される第二真空経路と、
   前記基板の短辺側及び長辺側の処理を行う場合において、前記第一真空経路及び前記第二真空経路から使用する真空経路を判断する真空経路判断手段とを備える
   ことを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
9. 前記請求項１から請求項８までのいずれかに記載の基板処理装置を備える
   ことを特徴とする液晶実装機。
10. 基板の側縁部に電子部品を実装するための工程に用いる基板処理装置に用いる基板処理方法であって、
    前記基板処理装置は、
    前記基板の側縁部の下面を支えるための載置台である第一ステージと、
    前記基板の側縁部の下面を吸着する吸着部、及び前記基板の側縁部の下面を規正する平面部を有する第二ステージと、
    前記第二ステージに形成されている中空部を介して前記吸着部と接続される複数の真空経路と、
    前記中空部を開閉する開閉手段とを備え、
    前記中空部は、前記第二ステージを水平方向に横切って内部に形成される第一中空部、及び当該第一中空部と前記吸着部を接続する鉛直方向に形成される第二中空部からなり、
    前記開閉手段は、前記第一中空部の間に所定間隔において形成される第一止め栓と、前記第二中空部それぞれに形成される第二止め栓とから構成され、
    前記基板処理方法は、
    前記基板のサイズに応じて前記第一止め栓及び前記第二止め栓を開閉するステップと、
    前記複数の真空経路の中から使用する真空経路を判断するステップとを含む
    ことを特徴とする基板処理方法。
    
    

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