JP2006040578A - プラズマディスプレイ用転写フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】積層膜を転写することのできる、プラズマディスプレイ用転写フィルムを、効率的に安価に生産すること。
【解決手段】
第１のフィルム基板の上に第１の膜を形成し、第２のフィルム基板の上に第２の膜を形成した後、第１の膜と第２の膜が向かい合うようにして張り合わせることにより第１の膜と第２の膜を積層せしめたプラズマディスプレイ用転写フィルムにおいて、第１のフィルム基板と第１の膜との密着力Ａ（ｇ／ｃｍ）、第２のフィルム基板と第２の膜との密着力Ｂ（ｇ／ｃｍ）の関係が、Ｂ＞Ａであり、かつ少なくとも第１の膜が粘着性を有することを特徴とするプラズマディスプレイ用転写フィルム。
【選択図】図３

Description

本発明は、複数の層からなる積層膜を有するプラズマディスプレイに関し、さらには、積層膜を形成するために好適に使用することができる転写フィルムに関するものである。

近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図の１例である。同図において、１および８は対向配置されたガラス基板（通常１は前面板、８は背面板と呼ぶ）、１１は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板８および隔壁１１によりセルが区画形成される。２はガラス基板１に固定された透明電極、７は透明電極の抵抗を下げる目的で透明電極上に形成されたバス電極で、低反射にするため黒色を呈している黒色導電層膜３と主電極４からなる。５は、透明電極２およびバス電極７を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体である。６は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。９はガラス基板８に固定されたアドレス電極、１０はアドレス電極９を被覆するようにガラス基板８の表面に形成された誘電体、１２はセル内に保持された蛍光物質である。

透明電極およびバス電極の形成方法としては、まず、ガラス基板上に、ＣＶＤ法、スパッタ法や真空蒸着法でＩＴＯやＳｎＯ_２を主成分とした膜からなる、所定のパターンの透明電極を形成し、該透明電極の上にバス電極を形成して積層構造とする方法が一般的である。近年、バス電極は、従来の薄膜形成法よりも量産性が高く、大面積化が容易で低コストな厚膜ペーストを用いてスクリーン印刷法により形成する方法の他に、最近は塗布法、ドライフィルム法などで形成する検討がなされている。

誘電体膜はガラス焼結体より形成され、その膜厚は例えば２０〜５０μｍとされる。誘電体膜の形成方法としては、低融点又は高融点ガラス粉末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物（以下、「ガラスペースト組成物」という）を調製し、ガラスペースト組成物をスクリーン印刷法によってガラス基板１の表面に塗布して乾燥することにより膜形成材料層を形成する方法が主流であった。しかし、膜厚のばらつきが大きい、メッシュ跡が残り表面平滑性に劣るため、例えば、ガラスペースト組成物を支持フィルム基板上に塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層を形成し、支持フィルム基板上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体膜を形成するドライフィルム法などが提案されている。（特許文献１参照）
しかしながら、厚膜のバス電極上に、軟化点が５００℃以下の低融点ガラス粉末を主成分とする誘電体ペーストからなる誘電体膜を形成した場合、誘電体膜の焼成時に低融点ガラスが流動してバス電極と透明電極との間に浸食し、透明電極からバス電極が剥離してしまうという問題点がある。さらに、銀を主成分とした厚膜のバス電極上に誘電体膜を形成する場合、焼成時にバス電極が着色するという問題がある。一方、軟化点が５５０℃以上の低融点ガラス粉末を主成分とする誘電体ペーストを用いた場合には、焼成後の誘電体膜中に気泡が多く残存し、白濁して透過率が低下するという問題がある。

これらの問題を解決する手段として、ガラス粉末を含有する第１の薄膜形成材料層からなる第１の誘電体膜と、軟化点の異なるガラス粉末を含有する第２の薄膜形成材料層からなる第２の誘電体膜との積層膜を支持フィルム基板上に塗布法で形成し、これを厚膜バス電極が形成されたガラス基板上に転写／焼成する製造方法が提案されている。（特許文献２参照）
この発明には、第１の誘電体膜を塗布乾燥後、第２の誘電体膜を塗布乾燥する方法が開示されているが、実際に実施してみると、第２の誘電体膜塗布乾燥時に第１の誘電体膜が変形又は再溶解するという問題のため、出来上がった製品の膜品位が著しく劣ったものになる。また、第１の誘電体膜と第２の誘電体膜の界面で、互いに溶解した混合層ができてしまうなどの問題も発生する。さらには、第１の誘電体膜上に第２の誘電体膜を塗布乾燥するため、第２の誘電体を塗布するまでの間に第１の誘電体膜に異物が付着したり、走行傷がついたりして収率が低下する問題があり、誘電体膜が支持フィルムに付着したりして作業性が悪く、生産性も半減するため加工コストが著しくアップしたり、収率も低下するなどの問題もあった。このような理由で、高品質で低コストの多層から成る誘電体膜を量産化するのが困難であった。

同様に、特許文献３には、塗工法によりガラス基板上に無機粉体含有樹脂層、レジスト層をこの順に積層したり、支持フィルム基板上にレジスト層、無機粉体含有樹脂層をこの順に積層したり、あるいは無機粉体含有物を多層積層することが開示されているが、いずれも同様の原因で、積層膜が変形もしくは再溶解し、著しく品位の低いものしかできず、また、レジスト層と無機粉体有樹脂層の界面で、互いに溶解した混合層ができてしまうため、精度の良好なレジストパターンができず、また、レジスト層の残膜が発生するという問題もある。
特開平９−１０２２７３号公報 特開２０００−９５５４５号公報 特開２００３−１００２０５号公報

本発明は、以上のような問題を解決せしめるためになされたものである。本発明の第１の目的は、プラズマディスプレイパネルに要求される高品質の積層膜を効率的に形成すること、第２の目的は、生産性に優れ、収率よく、低コストでプラズマディスプレイ用積層膜を形成する製造する方法を提供すること、第３の目的は、膜厚均一性に優れ、表面平滑性にも優れたプラズマディスプレイ用積層膜を形成することにある。

上記課題を解決するため、本発明のプラズマディスプレイ用転写フィルムは次の構成を有するものである。すなわち、本発明のプラズマディスプレイ用転写フィルムは、第１のフィルム基板の上に第１の膜を形成し、第２のフィルム基板の上に第２の膜を形成した後、第１の膜と第２の膜を向かい合うようにして張り合わせることにより第１の膜と第２の膜を積層せしめ、第１のフィルム基板と第１の膜との密着力Ａ（ｇ／ｃｍ）、第２のフィルム基板と第２の膜との密着力Ｂ（ｇ／ｃｍ）の関係が、Ｂ＞Ａであり、かつ少なくとも第１の膜が粘着性を有することを特徴とするプラズマディスプレイ用転写フィルムである。

本発明によれば、互いに軟化点の異なる２層誘電体膜の製造、上層がパターン化された２層誘電体膜の製造、黒色導電層と主電極からなるバス電極等の製造、誘電体膜と隔壁層からなる背面板の製造などに好適に用いることができるプラズマディスプレイ用転写フィルムを得ることができる。

本発明による転写フィルムによれば、膜の転写工程を含む簡単な方法によって、各製膜工程においてプラズマディスプレイパネルの製造効率を向上させることができる。また、本発明による転写フィルムによれば、膜厚の均一性および平滑性を維持しながら、膜厚の大きな誘電体膜等を形成することができ、大型のパネルに要求される誘電体膜であっても効率的に形成することができる。この結果、本発明による転写フィルムにより製造されるＰＤＰにおいて、輝度ムラなどの表示欠陥が発生することはない。さらに、本発明による転写フィルムによれば、銀からなるバス電極を用いても、剥離せず、着色もない誘電体膜を形成することができる。

以下、本発明について詳細に説明するが、軟化点の異なる２層の誘電体積層膜からなるプラズマディスプレイ用誘電体を形成せしめるための転写フィルムを例にしながら説明する。すなわち、第１のフィルム基板の上に第１の誘電体膜を形成し、第２のフィルム基板の上に第２の誘電体膜を形成した後、第１のフィルム基板と第２フィルム基板を、２つの誘電体膜が互いに向かい合うようにして張り合わせることにより、第１の誘電体膜と第２の誘電体膜を積層せしめたプラズマディスプレイ用転写フィルムを作製し、この誘電体積層膜を電極付きガラス基板に転写する場合について説明する。このとき、転写完了後の誘電体膜の構成は、電極付きガラス基板／第１の誘電体膜／第２の誘電体膜の順になる。

転写フィルムは、支持フィルム基板（以下、フィルム基板とする）と、この支持フィルム基板上に多層積層された誘電体膜によって構成される。

＜フィルム基板＞転写フィルム用のフィルム基板としては、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。フィルム基板を形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。フィルム基板の厚さとしては、例えば１０〜１００μｍが好ましい。また、誘電体膜が塗布されるフィルム基板の表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ガラス基板への転写工程において、フィルム基板の剥離操作を容易に行うことができ、さらには離型剤の種類を替えることにより、フィルム基板と誘電体膜との密着力を変えることができる。

転写フィルムを構成する誘電体膜は、ガラス粉末、結着樹脂および溶剤を成分として含有するガラスペースト組成物を、上記フィルム基板上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤を除去することにより形成することができる。

＜ガラス粉末＞上記ガラスペースト組成物においては、その必須成分であるガラス粉末の軟化点を、各々の膜においてそれぞれ異なるようにするのが好ましい。電極付きガラス基板に接する第１の膜を形成するガラス粉末の軟化点は、第２の膜を形成するガラス粉末の軟化点よりも、５０℃以上高いことが好ましい。具体的には、第１の膜に含有されるガラス粉末の軟化点は、通常、４００℃以上６００℃未満、好ましくは、５００℃以上５８０℃未満である。また、第２の膜形を形成するガラス粉末の軟化点は、通常、３５０℃以上５５０℃未満、好ましくは、４００℃以上５００℃未満である。ここで「軟化点」とは、一般的には、示差熱分析計により測定することができる。

好適なガラス粉末の組成の具体例としては、（ａ）ＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＣａＯ系、（ｂ）ＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系、（ｃ）ＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系、（ｄ）ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系、（ｅ）ＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系、（ｆ）Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系、（ｇ）Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系などを例示することができる。また、本発明に用いられるガラス粉末の粒径は、好ましくは０．１〜５μｍである。なお、ガラス粉末の軟化点を調整するには、一般に、ガラス製造の原料秤量時に各酸化物成分の組成比を変量してガラス化する方法が用いられる。本発明に用いられるガラスペースト組成物におけるガラス粉末の含有割合としては、５０重量％以上であることが好ましい。

＜結着樹脂＞上記ガラスペースト組成物の必須成分である結着樹脂は、特に限定されず、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂、アクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、エチルセルロール樹脂などが好適に使用できるが、特にアクリル樹脂であることが好ましい。結着樹脂としてアクリル樹脂が含有されていることにより、形成される誘電体膜には、ガラス基板に対する優れた（加熱）接着性が発揮される。従って、本発明の組成物をフィルム基板上に塗布して転写フィルムを製造する場合において、得られる転写フィルムは、誘電体膜の転写性（ガラス基板への転写性）に優れたものとなる。かかるアクリル樹脂としては、適度な粘着性を有してガラス粉末を結着させることができ、膜の焼成処理温度（通常、４００℃〜６００℃）によって完全に酸化除去される（共）重合体の中から選択される。具体的には、下記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物の単独重合体、下記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物の２種以上の共重合体、および下記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物と他の共重合性単量体との共重合体が含まれる。

（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ_２は１価の有機機を示す。）
上記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、アルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、フェノキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。

これらのうち、上記一般式（１）中、Ｒ_２で示される基が、アルキル基またはオキシアルキレン基を含有する基であることが好ましく、特に好ましい（メタ）アクリレート化合物として、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレートおよび２−エトキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。（メタ）アクリレート化合物との共重合に供される他の共重合性単量体としては、上記（メタ）アクリレート化合物と共重合可能な化合物であれば特に制限はなく、例えば（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、ビニルフタル酸などの不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレンなどのビニル基含有ラジカル重合性化合物を挙げることができる。アクリル樹脂において、上記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物由来の共重合成分は、好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上、さらに好ましくは１００重量％である。本発明の組成物を構成する結着樹脂の分子量としては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が２，０００〜４００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜３００，０００で、さらに好ましくは５０，０００〜２５０，０００である。

結着樹脂の含有割合としては、ガラス粉末１００重量部に対して、５〜４０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜３０重量部である。結着樹脂の割合が過小である場合には、塗膜強度が不十分で、ガラス粉末を確実に結着保持することができず、一方、この割合が過大である場合には、焼成工程に長い時間を要したり、焼成後形成された誘電体膜中に不純物が混入するなどの弊害が発生する。

＜溶剤＞上記ガラスペースト組成物の必須成分である溶剤としては、ガラス粉末との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、ガラスペースト組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥されることにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。かかる溶剤の具体例としては、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸エチル乳酸エチル、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。

ガラスペースト組成物における溶剤の含有割合としては、組成物の粘度を好適な範囲に維持する観点から適宜調整することができる。例えば、ガラス粉末と樹脂をあわせた１００重量部に対して、５〜５０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜４０重量部である。

本発明に用いられるガラスペースト組成物には、上記の必須成分のほかに、分散剤、粘着性付与剤、可塑剤、表面張力調整剤、安定剤、消泡剤、分散剤などの各種添加剤が任意成分として含有されていてもよい。ガラスペースト組成物は、上記ガラス粉末、結着樹脂および溶剤並びに任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、サンドミルなどの混練・分散機を用いて混練することにより調製することができる。

本発明の第１のフィルム基板上に形成する第１の膜は粘着性を有することが必要である。なぜならば、第１の膜と第２の膜を張り合わせた後、第１のフィルム基板を剥離し、プラズマディスプレイ用ガラス基板に第１の膜側から転写させる。このため、少なくとも第１の膜は、ガラス基板と接着する必要があるため、十分な粘着性を有するのが好ましい。このため、第１の膜中に含まれる樹脂はガラス転移温度が低いものが好ましく、好ましくは６０℃以下、より好ましくは２０℃以下、さらに好ましくは０℃以下である。また、第１の膜中に可塑剤、粘着性付与剤などを添加するのも好ましい。

第１の膜の粘着性としては、ＪＩＳ Ｚ ２３７に準じて測定されたボールタック性が、傾斜角３０度、助走路２０ｍｍの条件にて、ボールＮｏ．１（１／３２吋）〜１０（５／１６吋）の粘着性を有することが好ましく、より好ましくはボールＮｏ．２（１／１６吋）〜５（５／３２吋）である。

好ましいガラスペースト組成物の一例を示せば、軟化点５００〜５８０℃のガラス粉末（酸化鉛５０〜８０重量％、酸化ホウ素１〜２０重量％、酸化ケイ素１０〜５０重量％および酸化カルシウム０〜２０重量％）１００重量部と、アクリル樹脂（ポリブチルメタクリレートと２−エチルヘキシルメタクリレートの共重合体など）１０〜３０重量部と、可塑剤（フタル酸ジブチルなど）１０〜３０重量部と、溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）１０〜５０重量部とを含有する組成物を挙げることができる。また、第２の膜を形成するガラスペースト組成物としては、軟化点４００〜５００℃のガラス粉末（酸化鉛５０〜９０重量％、酸化ホウ素０〜１０重量％、酸化ケイ素５〜５０重量％および酸化亜鉛０〜２０重量％）１００重量部と、アクリル樹脂（ポリブチルメタクリレートなど）１０〜３０重量部と、溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）１０〜５０重量部とを含有する組成物を挙げることができる。

第１の膜及び第２の膜を形成するガラスペースト組成物の粘度は、１００〜１０００００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、より好ましくは、１０００〜１００００ｍＰａ・ｓである。塗液粘度をこれらの範囲に調整するため、溶媒量を適宜調整する。

ガラスペースト組成物をフィルム基板上に塗布する方法としては、膜厚均一性に優れた厚膜塗膜（例えば２０μｍ以上）を効率よく形成することができるものであることが好ましく、具体的には、スリットダイコーター、カーテンフローコーター、ブレードコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーターなどの塗布法が好ましい。この中でも、経時的な溶媒の蒸発による濃度変化や、ゴミの付着が少ないことからスリットダイコーター、カーテンフローコーターが、特に好ましい。

第１のフィルム基板に第１の膜を形成するためにガラスペースト組成物を塗布した後、オーブンで乾燥する。この後、通常、第１の膜の上に第１の保護フィルムをラミネートしながら巻き取る。このような保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどや、これらのフィルムの表面に離型処理が施されているものを挙げることができる。これらの保護フィルムと第１の膜との密着力は、第１のフィルム基板と第１の膜との密着力より小さいことが好ましい。

同様にして、第２のフィルム基板上に、第２の膜を形成するために、ガラスペースト組成物を塗布し、オーブンで乾燥する。この後、第２の膜の上に第２の保護フィルムをラミネートしながら巻き取る。第２の保護フィルムも第１の保護フィルムと同様な材料を用いることができる。また、第２の保護フィルムと第２の膜との密着力は、第２のフィルム基板と第２の膜との密着力より小さいことが好ましい。

このようにして、第１のフィルム基板の上に第１の膜を形成し、第２のフィルム基板の上に第２の膜を形成した後、第１のフィルム基板と第２のフィルム基板を、第１の膜面と第２の膜面が向かい合うようにして張り合わせることにより第１の膜と第２の膜を積層せしめ、プラズマディスプレイ用転写フィルムを作製する。保護フィルムを巻き付けていた場合は、張り合わせる前に剥離させておく。本発明の転写フィルムは、少なくとも第１の膜が粘着性を有しており、第１の膜と第２の膜を容易に張り合わせ、積層せしめることができるのである。

第１の膜面と第２の膜面を張り合わせる方法は、ラミネーターを用いて圧着する方法が一般的である。ロール圧は１〜１０ｋｇ／ｃｍ^２、ローラの表面温度は１０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは２０〜８０℃、さらに好ましくは２５〜６０℃である。ラミネート速度は、０．１〜１０ｍ／分が好ましい。

張り合わせ方法としては、（１）前述のように、第１のフィルム基板上に第１の膜を形成し、第１の保護フィルムを巻き付けてロール状に巻き取り、同じく第２のフィルム基板上に第２の膜を形成後、第２の保護フィルムを巻き付けてロール状に巻き取った後、第１と第２の保護フィルムを剥離しながら、ラミネーターで第１のフィルム基板と第２のフィルム基板を、第１の膜面と第２の膜面が向かい合うようにして張り合わせる方法の他に、（２）第１のフィルム基板上に第１の膜を形成し、第１の保護フィルムを巻き付けてロール状に巻き取った後、第２のフィルム基板上に第２の膜を形成し、オーブンで乾燥後、第１の保護フィルムを剥離しながら連続してラミネーターで第１のフィルム基板と第２のフィルム基板を、第１の膜面と第２の膜面が向かい合うようにして張り合わせる方法、（３）第２のフィルム基板上に第２の膜を形成し、第２の保護フィルムを巻き付けてロール状に巻き取った後、第１のフィルム基板上に第１の膜を形成し、オーブンで乾燥後、第２の保護フィルムを剥離しながら連続してラミネーターで第１のフィルム基板と第２のフィルム基板を、第１の膜面と第２の膜面が向かい合うようにして張り合わせる方法があり、（１）の製造方法よりも、（２）、（３）の製造方法の方が生産効率も良く、保護フィルムも削減でき、コストも低くすることができ、特に好ましい。

このようにして張り合わせた後、第１のフィルム基板と第１の膜との密着力Ａ（ｇ／ｃｍ）、第２のフィルム基板と第２の膜との密着力Ｂ（ｇ／ｃｍ）の関係が、Ｂ＞Ａであることが必要である。第１の膜と第２の膜はラミネートにより密着させるため、必要に応じてラミネート温度を調整する。また、密着力Ａ、Ｂの関係は、Ｂ＞Ａであることが必要であるため、第１のフィルム基板と第２のフィルム基板は前述にように、離型フィルムを用い、その離型力を適宜調製する。密着力の大きい方から、重剥離、中剥離、軽剥離、超軽剥離の４段階で離型フィルムを分類すると、第１のフィルム基板と第２のフィルム基板の組み合わせは、それぞれ、（１）第１のフィルム基板が超軽剥離〜中剥離で、第２のフィルム基板が重剥離、（２）第１のフィルム基板が超軽剥離〜軽剥離で、第２のフィルム基板が中剥離、（３）第１のフィルム基板が超軽剥離で、第２のフィルム基板が軽剥離、などの組み合わせが好ましい。

密着力Ａは、０．１〜１５ｇ／ｃｍが好ましく、より好ましくは０．５〜１０ｇ／ｃｍ、さらに好ましくは１〜８ｇ／ｃｍである。密着力Ｂは、１〜１００ｇ／ｃｍが好ましく、より好ましくは２〜５０ｇ／ｃｍ、さらに好ましくは３〜１５ｇ／ｃｍである。密着力Ａがこの範囲より小さければ、第１の保護フィルムを剥がすときなど、第１のフィルム基板と第１の膜の間が剥がれやすくなり、取り扱いが難しくなり、この範囲より大きいと、転写時に第１のフィルム基板を剥離しにくくなる。密着力Ｂがこの範囲より小さければ、転写時に第１のフィルム基板を剥がすときに第２のフィルム基板と第２の膜の間が剥がれやすくなるなど、取り扱いが難しくなり、この範囲より大きいと、転写後に第２のフィルム基板を剥離しにくくなる。

密着力を測定する方法について説明する。第１のフィルム基板と第１の膜との密着力Ａや第２のフィルムと第２の膜との密着力Ｂは、サンプルを例えば１ｃｍ幅に短冊状に切断し、第１のフィルムと第１の膜又は第２のフィルムと第２の膜をそれぞれ把持し、テンシロンで引っ張りながら、剥離力（＝密着力）を測定する。

以上のようにして作製した転写フィルムを用い、転写フィルム上の膜材料を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写せしめる。転写工程の一例を示せば以下のとおりである。転写フィルムの第１のフィルム基板は、保護フィルムとして働くため、転写前に剥離する。次に、ガラス基板の表面（電極固定面）に、第１の膜表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、積層膜から第２のフィルム基板（支持フィルム）を剥離除去する。これにより、ガラス基板の表面に積層膜が転写されて密着した状態となる。本発明の転写フィルムは、少なくとも第１の膜が粘着性を有しており、第１の膜とガラス基板は容易に張り合わせることができるのである。ここで、転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度は１０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは２０〜８０℃、さらに好ましくは２５〜６０℃で、加熱ローラによるロール圧が１〜１０ｋｇ／ｃｍ^２、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分である。また、ガラス基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば５０〜１００℃とすることができる。

なお、第１の膜と第２の膜との密着力（Ｃとする）は、第１のフィルム基板と第１の膜との密着力Ａや第２のフィルムと第２の膜との密着力Ｂにくらべ、十分に大きいことが好ましい。この密着力Ｃが密着力ＡやＢに比べ小さいと、転写フィルム作製後ガラス基板への転写工程において、例えば、第１のフィルム基板を剥離する工程や、ガラス基板へ第１の膜と第２の膜の積層膜を転写後、第２のフィルム基板を剥離除去する工程において、第１の膜と第２の膜の界面で部分的な剥離が発生したりして好ましくない。

この後、ガラス基板の表面に転写された積層膜は、焼成される。具体的には、積層膜が形成されたガラス基板を、高温雰囲気下に配置することにより、積層膜に含有されている有機物質（例えば結着樹脂、残存溶剤、各種の添加剤）が分解などによって除去され、無機物質であるガラス粉末が溶融して焼結する。これにより、ガラス基板上には、ガラス焼結体よりなる誘電体膜が形成される。ここに、焼成温度としては、積層膜中の構成物質によっても異なるが、例えば４００〜６００℃とされる。

このようにして積層した膜は、従来の２度の塗工方法で積層した膜に比べ、界面が明瞭であり、軟化点の高い層と、軟化点の低い層が均一に積層でき、銀電極の黄変等無く、透明性の高い、欠点の少ない誘電体膜を形成できる。

本発明のプラズマディスプレイ用転写フィルムとしては、第１の膜、第２の膜のいずれか感光性を有すること、あるいは両方共に感光性を有しても良い。感光性を付与することにより、露光、現像工程を経て、パターニングすることができる。感光性を付与するためには、結着樹脂に、光により硬化又は溶解する樹脂を使用することで実現する。以下、具体的な例で説明する。

第１の膜及び第２の膜が共に誘電体膜であり、かつ第２の膜が感光性である場合は、電極が固定されたガラス基板の表面に転写された積層膜は、感光性誘電体膜が上層（表側）になる。この後、露光、現像を行うことにより、パターニングすることができる。この後焼成を行い、上層がパターン化された誘電体膜を形成することができる。これは主として、プラズマディスプレイ前面板に利用することができる。

第１の膜が誘電体膜で、第２の膜が隔壁膜である場合は、電極が固定されたガラス基板の表面に転写された積層膜は、隔壁膜が上層（表側）になる。次に、隔壁膜をサンドブラスト法等で加工することにより、パターニングすることができる。また、隔壁膜が感光性である場合は、直接露光、現像を行うことにより、パターニングすることができる。このようにして、プラズマディスプレイ背面板に利用することができる。隔壁膜は、公知の隔壁用材料を用いて作製できる。例えば、酸化リチウム、酸化珪素、酸化硼素、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粉末、アクリル等の樹脂、有機溶剤などを含むペーストを塗布することにより作製できる。

第１の膜が黒色導電層膜で、第２の膜が主電極膜である場合は、透明電極が固定されたガラス基板の表面に転写された積層膜は、電極膜が上層（表側）になる。この上にさらにレジスト膜を積層し、露光、現像後、黒色導電層膜と電極膜をエッチングすることにより、パターニングすることができる。この後焼成を行い、パターン化されたバス電極を形成することができる。これは主として、プラズマディスプレイ前面板に利用することができる。また、黒色導電層膜及び主電極膜が共に感光性である場合は、直接露光、現像を行うことにより、パターニングすることができる。黒色導電層膜は公知の黒色導電層用材料を用いて作製することができる。例えば、ＲｕＯ_２やＣｒ、Ｃｕ−Ｃｒなどの金属粉末、アクリル等樹脂、ガラスフリット、有機溶剤などを含むペーストを塗布することにより作製できる。主電極膜も、公知の電極用材料を用いて作製することができる。例えば、銀等の金属粉末、アクリル等樹脂、ガラスフリット、有機溶剤などを含むペーストを塗布することにより作製できる。

第１の膜が非感光性の誘電体膜、隔壁膜、黒色導電層膜、主電極膜のいずれか１つであり、第２の膜が感光性のレジスト膜である場合は、プラズマディスプレイ用ガラス基板の表面に転写された積層膜は、感光性レジストが上層（表側）になる。感光性レジストを露光、現像後、下層の誘電体膜、隔壁膜、黒色導電層膜、主電極膜のいずれか１つの膜をエッチングすることにより、パターニングすることができる。この後焼成を行い、パターン化された誘電体膜、隔壁膜、黒色導電層膜、主電極膜を形成することができる。感光性レジスト膜は公知のレジスト用材料を用いて作製することができる。例えば、エチレン不飽和性のカルボキシル基を含むバインダー樹脂、多官能モノマー、光ラジカル発生剤などからなるポジ型レジスト又は、クレゾールノボラック樹脂にナフトキノンジアジド化合物を添加したネガ型レジストと、有機溶剤などを含む塗料を塗布することにより作製できる。

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において「部」は「重量部」を示す。
（実施例１）
＜ガラスペースト組成物Ａの作製＞
ガラス粉末として、酸化鉛４０重量％、酸化ホウ素３０重量％、酸化ケイ素１０重量％、酸化バリウム２０重量％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＢａＯ系ガラス（軟化点５８０℃）１００部と、ｎ−ブチルメタクリレート／エチルヘキシルメタクリレート（８０／２０モル％）の重合体（Ｍｗ：８０，０００）（結着樹脂）３０部と、フタル酸ジブチル１０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤）３０部とを混練することにより、粘度３，０００ｍＰ・ｓのガラスペースト組成物Ａを調製した。
＜ガラスペースト組成物Ｂの作製＞
また、ガラス粉末として、酸化鉛６５重量％、酸化ホウ素５重量％、酸化ケイ素２０重量％、酸化亜鉛１０重量％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＺｎＯ系ガラス（軟化点４７０℃）１００部と、ブチルメタクリレート（１００重量％）の重合体（Ｍｗ：８０，０００）（結着樹脂）３０部と、フタル酸ジブチル５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤）３０部とを混練することにより、粘度３，５００ｍＰ・ｓのガラスペースト組成物Ｂを調製した。
＜転写フィルムの作製＞
まず、ガラスペースト組成物Ａを、ブレードコーターを用いて予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる軽剥離離型の第１のフィルム基板（幅２５０ｍｍ、厚さ５０μｍ）上に塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、膜厚３０μｍの第１の誘電体膜を第１のフィルム基板上に積層した。第１の誘電体膜の上に、保護フィルムとして超軽剥離離型フィルム（幅２５０ｍｍ、厚さ３８μｍ）を、ロール圧４ｋｇ／ｃｍ^２で室温にてラミネートしながら巻き取った。第１のフィルム基板と第１の誘電体膜との密着力Ａは、４ｇ／ｃｍであった。また、第１の膜の粘着性について、ＪＩＳ Ｚ ２３７に準じて、傾斜角３０度、助走路２０ｍｍの条件にて測定した結果、ボールタック性は、ボールＮｏ．２（１／１６吋）であった。

次いで、ガラスペースト組成物Ｂを、ブレードコーターを用いて予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる中剥離離型の第２のフィルム基板（幅２５０ｍｍ、厚さ５０μｍ）上に塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、膜厚３０μｍの第２の誘電体膜を第２のフィルム基板上に形成した。第２のフィルム基板と第２の誘電体膜との密着力Ｂは、１０ｇ／ｃｍであった。

この後、連続して第１のフィルム基板上に第１の誘電体膜を形成したものを、保護フィルムを巻き取りながら、第１の誘電体膜と第２の誘電体膜が重なるようにして、ロール圧４ｋｇ／ｃｍ^２で室温にてラミネートし、２層の誘電体が積層された転写フィルムを作製した。
＜誘電体積層膜の転写工程＞
６インチパネル用のガラス基板上にあらかじめＩＴＯ透明導電膜を形成し、さらにその上に銀ペーストをスクリーン印刷で塗布後焼成し、厚さ１０μｍ、幅１００μｍのバス電極を形成した。次に転写フィルムより第１のフィルム基板をはがし、バス電極を形成した基板上に第１の誘電体膜の表面が当接されるよう転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムをラミネーターで熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を６０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ^２、加熱ローラの移動速度を１ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、転写フィルムから第２のフィルム基板を剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に第１の誘電体膜および第２の誘電体膜が転写されて密着した状態となった。この積層膜について膜厚を測定したところ、６０μｍ±１μｍの範囲にあった。
＜誘電体積層膜の焼成工程＞
転写された誘電体積層膜を室温から１０℃／分の昇温速度で５９０℃まで昇温し、５９０℃の温度雰囲気下３０分間にわたって焼成処理することにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる誘電体膜を形成した。この誘電体膜の膜厚を測定したところ３０μｍ±０．５μｍの範囲にあり、膜厚の均一性に優れているものであった。
＜誘電体積層膜の性能評価＞
このようにして、誘電体膜を有するガラス基板よりなるパネル材料を５台分作製した。形成された誘電体膜について、断面および表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、全てのパネル材料に形成された誘電体膜においてピンホールやクラックなどの膜欠陥は認められなかった。また、低融点ガラスが軟化流動してバス電極と透明導電膜との間に浸食することも、透明導電膜からバス電極が剥離することもなかった。また目視による外観の観察においても、バス電極の着色は認められなかった。さらに、このようにして、誘電体膜を有するガラス基板よりなるパネル材料を５台分作製し、形成された誘電体膜の光透過率（測定波長５５０ｎｍ）を測定したところ、光透過率の平均値は８３％であり、良好な透明性を有するものであることが認められた。
（実施例２）
＜感光性ガラスペースト組成物Ｃの作製＞
ガラス粉末として、酸化鉛４０重量％、酸化ホウ素３０重量％、酸化ケイ素１０重量％、酸化バリウム２０重量％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＢａＯ系ガラス（軟化点５８０℃）１００部と、ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシルエチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（Ｍｗ：８０，０００、酸価＝１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）からなる結着樹脂１５部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成社製、Ｍ−３０５）１２部、光重合開始剤（チバガイギ社製、イルガキュア３６９）１部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤）３０部とを混練することにより、粘度３，０００ｍＰ・ｓの感光性ガラスペースト組成物Ｃを調製した。
＜転写フィルムの作製＞
実施例１と同様にして、ガラスペースト組成物Ａからなる膜厚３０μｍの第１の非感光性誘電体膜を軽剥離離型の第１のフィルム基板上に形成し、保護フィルムとして超軽剥離離型フィルム（幅２５０ｍｍ、厚さ３８μｍ）を、ラミネートしながら巻き取った。第１のフィルム基板と第１の非感光性誘電膜との密着力Ａは、４ｇ／ｃｍであった。また、第１の膜の粘着性は、実施例１と同じくボールタック性がボールＮｏ．２（１／１６吋）であった。

次いで、感光性ガラスペースト組成物Ｃを、ブレードコーターを用いて予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる中剥離離型の第２のフィルム基板（幅２５０ｍｍ、厚さ５０μｍ）上に塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、膜厚３０μｍの第２の感光性誘電体膜を第２のフィルム基板上に形成した。第２のフィルム基板と第２の誘電膜との密着力Ｂは、１２ｇ／ｃｍであった。

この後、連続して第１のフィルム基板上に第１の非感光性誘電体膜を形成したものを、保護フィルムを巻き取りながら、第１の非感光性誘電体膜と第２の感光性誘電体膜が重なるようにして、ロール圧４ｋｇ／ｃｍ^２で室温にてラミネートし、２層の誘電体が積層された転写フィルムを作製した。
＜誘電体積層膜の転写工程＞
実施例１と同様にして、６インチパネル用のガラス基板上に転写した。熱圧着処理の終了後、転写フィルムから第２のフィルム基板を剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に第１の非感光性誘電体膜および第２の感光性誘電体膜の積層膜が転写されて密着した状態となった。この積層膜について膜厚を測定したところ６０μｍ±１μｍの範囲にあった。この後、マスクを用いて第２の感光性誘電体膜を２００ｍＪ／ｃｍ^２で露光し、アルカリ現像液で現像し、線幅３０μｍのストライプパターンを形成した。残膜などもなく、綺麗なパターンであった。
＜誘電体積層膜の焼成工程＞
実施例１と同様にして焼成処理することにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる誘電体膜を形成した。この誘電体膜の膜厚を測定したところ２層部で３０μｍ±０．５μｍの範囲にあり（第１の非感光性誘電体部は１５μｍ±０．３μｍ）、膜厚の均一性に優れているものであった。
＜誘電体積層膜の性能評価＞
実施例１と同様にして、パネルを作製した。形成された誘電体膜について、断面および表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、全てのパネル材料に形成された誘電体膜においてピンホールやクラックなどの膜欠陥は認められなかった。また、感光性誘電体膜は明瞭なパターンが形成され、残膜などもなかった。また目視による外観の観察においても、バス電極の着色は認められなかった。さらに、このようにして、誘電体膜を有するガラス基板よりなるパネル材料を作製し、形成された誘電体膜の光透過率（測定波長５５０ｎｍ）を測定したところ、第１の非感光性誘電体膜部分の光透過率の平均値は８６％であり、良好な透明性を有するものであることが認められた。
（比較例１）
＜ガラスペースト組成物Ｄの作製＞
ガラス粉末として、酸化鉛４０重量％、酸化ホウ素３０重量％、酸化ケイ素１０重量％、酸化バリウム２０重量％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＢａＯ系ガラス（軟化点５８０℃）１００部と、ｎ−ブチルメタクリレート重合体（Ｍｗ：８０，０００）（結着樹脂）３０部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤）３０部とを混練することにより、粘度３，０００ｍＰ・ｓのガラスペースト組成物Ｄを調製した。
＜転写フィルムの作製＞
まず、感光性ガラスペースト組成物Ｃを、ブレードコーターを用いて予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる中剥離離型フィルム基板（幅２５０ｍｍ、厚さ５０μｍ）上に塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、膜厚３０μｍの感光性誘電体膜をフィルム基板上に積層した。この膜の粘着性について、ＪＩＳ Ｚ ２３７に準じて、傾斜角３０度、助走路２０ｍｍの条件にて測定した結果、ボールタック性はなく、粘着性は無かった。

次いで、ガラスペースト組成物Ｄを、この上に塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、膜厚３０μｍの非感光性誘電体膜を感光性誘電体膜上に形成した。ガラスペースト組成物Ｄ塗布時に、感光性誘電体が一部溶けだし、塗膜表面が粗れ、さらには膜の一部が剥離し、積層膜の品位は良くなかった。さらに、保護フィルムとして超軽剥離離型フィルム（幅２５０ｍｍ、厚さ３８μｍ）を、ロール圧４ｋｇ／ｃｍ^２で室温にてラミネートしながら巻き取った。
＜誘電体積層膜の転写工程＞
実施例１と同様にして、１２インチパネル用のガラス基板上に転写した。非感光性誘電体膜は粘着性が無いため、転写工程において、非感光性誘電体膜とガラス基板の位置合わせ時に滑りが発生し、位置ずれが発生した。熱圧着処理の終了後、転写フィルムから中剥離離型フィルム基板を剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に非感光性誘電体膜と感光性誘電体膜の積層膜が転写されて密着した状態となった。この積層膜について膜厚を測定したところ６０μｍ±３μｍの範囲にあった。この後、マスクを用いて第２の感光性誘電体膜を２００ｍＪ／ｃｍ^２で露光し、アルカリ現像液で現像し、線幅３０μｍのストライプパターンを形成した。全面に残膜が発生し、綺麗なパターンが形成できなかった。非感光性誘電体膜と感光性誘電体膜の界面で両者が混合し、現像できないゾーンができたためと考えられる。
＜誘電体積層膜の焼成工程＞
実施例１と同様にして焼成処理することにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる誘電体膜を形成した。この誘電体膜の膜厚を測定したところ２層部で３０μｍ±１．５μｍの範囲にあり、膜厚の均一性に劣っていた。また、残膜のため、明確に非感光性誘電体部と見られる部分はなかった。
＜誘電体積層膜の性能評価＞
実施例１と同様にして、パネルを作製した。形成された誘電体膜について、断面および表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、全てのパネル材料に形成された誘電体膜においてピンホールやクラックなどの膜欠陥は認められなかったものの、感光性誘電体膜は明瞭なパターンが形成されず、全面に残膜が発生していた。さらに、このようにして、誘電体膜を有するガラス基板よりなるパネル材料を作製し、形成された誘電体膜の光透過率（測定波長５５０ｎｍ）を測定したところ、第１の非感光性誘電体膜部分の光透過率の平均値は表面が粗れているため、７５％であり、透明性が不良であった。

本発明のプラズマディスプレイ用転写フィルムは、第１にプラズマディスプレイパネルに要求される高品質の積層膜を効率的に形成すること、第２に生産性に優れ、収率よく、低コストでプラズマディスプレイ用積層膜を形成する製造する方法を提供すること、第３に膜厚均一性に優れ、表面平滑性にも優れたプラズマディスプレイ用積層膜を形成すること、に好適なプラズマディスプレイ用転写フィルムであり、有用である。

交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。 本発明のプラズマディスプレイ用転写フィルムの作製方法を示した断面模式図である。 本発明のプラズマディスプレイ用転写フィルムの断面模式図である。

符号の説明

１ ガラス基板（前面基板）
２ 透明電極
３ 黒色導電層
４ 主電極
５ 誘電体膜
６ 保護層
７ バス電極
８ ガラス基板（背面基板）
９ アドレス電極
１０ 誘電体膜
１１ 隔壁
１２ 蛍光物質
１３ 第１のフィルム基板
１４ 第１の膜
１５ 第２の膜
１６ 第２のフィルム基板

Claims (9)

1. 第１のフィルム基板の上に第１の膜を形成し、第２のフィルム基板の上に第２の膜を形成した後、第１の膜と第２の膜が向かい合うようにして張り合わせることにより第１の膜と第２の膜を積層せしめたプラズマディスプレイ用転写フィルムにおいて、第１のフィルム基板と第１の膜との密着力Ａ（ｇ／ｃｍ）、第２のフィルム基板と第２の膜との密着力Ｂ（ｇ／ｃｍ）の関係が、Ｂ＞Ａであり、かつ少なくとも第１の膜が粘着性を有することを特徴とするプラズマディスプレイ用転写フィルム。
2. 第１の膜及び／又は第２の膜が感光性を有することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。
3. 第１の膜及び第２の膜がガラスを含む誘電体膜であり、第１の膜に含まれるガラスの軟化点と第２の膜に含まれるガラスの軟化点が異なることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。
4. 第１の膜及び第２の膜が誘電体膜であり、かつ第１の膜が非感光性で第２の膜が感光性であることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。
5. 第１の膜が誘電体膜で、第２の膜が隔壁膜であることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。
6. 隔壁膜が感光性であることを特徴とする請求項５記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。
7. 第１の膜が黒色導電層膜で、第２の膜が主電極膜であることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。
8. 黒色導電層膜及び主電極膜が共に感光性であることを特徴とする請求項７記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。
9. 第１の膜が非感光性の誘電体膜、隔壁膜、黒色導電層膜、主電極膜のいずれかであり、第２の膜が感光性のレジスト膜であることを特徴とする請求項記１又は２記載のプラズマディスプレイ用転写フィルム。

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