JP2006013435A - 電子デバイスの内部接続構造および内部接続方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 デバイス内部の各端子部の接合強度を維持すると共に、該内部の電気配線の短絡を容易に防止し、電子デバイス小型化を可能とする、電子デバイスの内部接続構造、および電子デバイスの内部接続方法を提供すること。
【解決手段】 電子部品パッケージと、集積回路とを、リードフレームを用いて接続することで、一体として機能するようにした電子デバイスの内部接続構造であって、接続端子部32の上面の半田塗布領域64に隣接して、防護層としてのAlメッキ層65が、傾斜部33から接続端子用ボンディングパッド34にかけての上面に形成されている。
【選択図】 図3
【解決手段】 電子部品パッケージと、集積回路とを、リードフレームを用いて接続することで、一体として機能するようにした電子デバイスの内部接続構造であって、接続端子部32の上面の半田塗布領域64に隣接して、防護層としてのAlメッキ層65が、傾斜部33から接続端子用ボンディングパッド34にかけての上面に形成されている。
【選択図】 図3
Description
本発明は、電子デバイス内部における電気機械接続の構造、およびその接続方法に関する。
HDD(ハード・ディスク・ドライブ)、モバイルコンピュータ、あるいはICカード等の小型の情報機器や、携帯電話、自動車電話、またはページングシステム等の移動体通信機器において、圧電発振器は広く使用されている。
図10は、従来の圧電発振器の断面図である(例えば、特許文献1参照)。
図10は、従来の圧電発振器の断面図である(例えば、特許文献1参照)。
圧電発振器100は、リードフレーム124の下側に圧電振動子102を、上側に発振回路素子110をそれぞれ配置し、これらを樹脂101で封止するようにしている。
リードフレーム124は、平面的な一枚のフレームからなり、実装基板に実装するための実装端子部(図示せず)と、発振回路素子110と圧電振動子102とを電気的に接続するための接続端子部とを形成するようになっている。
圧電振動子102は、シリンダ104内に圧電振動片(図示せず)を収容し、この圧電振動片に設けられた励振電極(図示せず)と導通する外部端子部106がシリンダ外部に引き出されている。そして、この外部端子部106が接続端子部と電気的に接続されている。
発振回路素子110は、発振回路を構成する集積回路素子等が使用され、中央部に設けられたダイパッド108上に配置されている。この発振回路素子110は、リードフレーム124の実装端子部及び接続端子部とボンディングワイヤ130により電気的に接続されている。
リードフレーム124は、平面的な一枚のフレームからなり、実装基板に実装するための実装端子部(図示せず)と、発振回路素子110と圧電振動子102とを電気的に接続するための接続端子部とを形成するようになっている。
圧電振動子102は、シリンダ104内に圧電振動片(図示せず)を収容し、この圧電振動片に設けられた励振電極(図示せず)と導通する外部端子部106がシリンダ外部に引き出されている。そして、この外部端子部106が接続端子部と電気的に接続されている。
発振回路素子110は、発振回路を構成する集積回路素子等が使用され、中央部に設けられたダイパッド108上に配置されている。この発振回路素子110は、リードフレーム124の実装端子部及び接続端子部とボンディングワイヤ130により電気的に接続されている。
ところで、近年、上述のような情報機器や移動体通信機器などの様々な電子機器については、小型薄型化がめざましく、それらに用いられる圧電発振器も小型薄型化が要求されている。このような要求に応じて、内部部品である圧電振動子102を小型化する技術が進んでいるが、圧電発振器100を小型化するためには、パッケージの水平方向に展開する実装端子部(図示せず)や接続端子部の占有スペースを小さくする努力も欠かせない。
ところが、これらの端子を一様に小さくしてしまうと、実装端子部の実装基板への接合面積や、接続端子部の外部端子部106への接合面積も小さくならざるを得ず、該接合強度の低下を招いてしまう。
そこで、本願出願人は、特願2003−334616に係る発明を提案している。
図11は、この特願2003−334616に係る圧電発振器200の断面図を示している。
この圧電発振器200は、第1のパッケージである振動子パッケージ210と第2のパッケージである実装部220とからなり、振動子パッケージ210は、内部に圧電振動片212を収容し、外部に露出した外部端子部214を有している。また、実装部220は、上下に配置された2枚のリードフレームを使用しており、内部に発振回路素子222を収容し、この発振回路素子222とボンディングワイヤにより、それぞれ電気的に接続された接続端子部226と実装端子部228とを有している。
ここで、実装部220は、概ね次のように形成することで、接続端子部226と実装端子部228とが平面的に見て重なるように配置している。
すなわち、第1のリードフレーム234と第2のリードフレーム235の2枚のリードフレームを用意し、第1のリードフレーム234の端部を外部端子部214と対向するように配置して接続端子部226を形成し、また、第2のリードフレーム235の端部を接続端子部226と平面的に見て重なるように配置して、実装部220の上に振動子パッケージ210を重ねる。
そして、リフロー炉等で半田232を溶融させて、接続端子部226と外部端子部214とを接続し、次いで、実装端子部228の実装面を残すようにして、発振回路素子222やボンディングワイヤ224などを含む全体を樹脂等の絶縁部材230で封止しつつ、この絶縁部材230で振動子パッケージ210と実装部220とを接合固定している。
図11は、この特願2003−334616に係る圧電発振器200の断面図を示している。
この圧電発振器200は、第1のパッケージである振動子パッケージ210と第2のパッケージである実装部220とからなり、振動子パッケージ210は、内部に圧電振動片212を収容し、外部に露出した外部端子部214を有している。また、実装部220は、上下に配置された2枚のリードフレームを使用しており、内部に発振回路素子222を収容し、この発振回路素子222とボンディングワイヤにより、それぞれ電気的に接続された接続端子部226と実装端子部228とを有している。
ここで、実装部220は、概ね次のように形成することで、接続端子部226と実装端子部228とが平面的に見て重なるように配置している。
すなわち、第1のリードフレーム234と第2のリードフレーム235の2枚のリードフレームを用意し、第1のリードフレーム234の端部を外部端子部214と対向するように配置して接続端子部226を形成し、また、第2のリードフレーム235の端部を接続端子部226と平面的に見て重なるように配置して、実装部220の上に振動子パッケージ210を重ねる。
そして、リフロー炉等で半田232を溶融させて、接続端子部226と外部端子部214とを接続し、次いで、実装端子部228の実装面を残すようにして、発振回路素子222やボンディングワイヤ224などを含む全体を樹脂等の絶縁部材230で封止しつつ、この絶縁部材230で振動子パッケージ210と実装部220とを接合固定している。
このように、接続端子部226および実装端子部228をパッケージの厚み方向に対して積層配置して、圧電発振器内部の電気的接続を行うことで、接続端子部226および実装端子部228が平面方向に占めるスペースを小さくすることを実現したものである。
ところが、上述した構成において、半田の塗布領域241と、ワイヤボンディングの接合箇所242とを近接させた場合に、次のような課題が発生することを、本願発明の発明者らは見出した。
すなわち、溶融させた半田232を介して接続端子部226と外部端子部214とを接合する際に、余剰な半田232が、第1のリードフレーム234の表面を伝ってワイヤボンディングの接合箇所242まで流れ出すことがある。また、もし、上述のような半田の流れ出しが起こらなかったとしても、半田232に含まれるSn(錫)が、第1のリードフレーム234の表面層(例えば、Agメッキが施されている)の金属と固溶して拡散し、ワイヤボンディング箇所242まで到達することがある。
ボンディングワイヤ224として、その扱いやすさと導電性の観点からAu(金)ワイヤが、広く用いられているが、SnがAuワイヤに到達すると、AuがSn中に拡散し断線に至る。
以上のような課題のために、半田の塗布領域241と、ワイヤボンディングの接合箇所242との距離は、ある程度離しておかねばならず、圧電発振器200をパッケージの長手方向(図11の左右方向)に小さくすることに限界が生じている。
すなわち、溶融させた半田232を介して接続端子部226と外部端子部214とを接合する際に、余剰な半田232が、第1のリードフレーム234の表面を伝ってワイヤボンディングの接合箇所242まで流れ出すことがある。また、もし、上述のような半田の流れ出しが起こらなかったとしても、半田232に含まれるSn(錫)が、第1のリードフレーム234の表面層(例えば、Agメッキが施されている)の金属と固溶して拡散し、ワイヤボンディング箇所242まで到達することがある。
ボンディングワイヤ224として、その扱いやすさと導電性の観点からAu(金)ワイヤが、広く用いられているが、SnがAuワイヤに到達すると、AuがSn中に拡散し断線に至る。
以上のような課題のために、半田の塗布領域241と、ワイヤボンディングの接合箇所242との距離は、ある程度離しておかねばならず、圧電発振器200をパッケージの長手方向(図11の左右方向)に小さくすることに限界が生じている。
上述した課題を解決するために、半田232の塗布量を少なくすると、接続端子部226と外部端子部214との所定の接合強度を確保することが出来なくなってしまう。
また、半田の塗布領域241の内側に凸部を設けて、半田232がワイヤボンディングの接合箇所242に接近しないようにする方法も考えられるが、この場合、凸部の高さのばらつきを制御することが困難である。
また、半田の塗布領域241の内側に凸部を設けて、半田232がワイヤボンディングの接合箇所242に接近しないようにする方法も考えられるが、この場合、凸部の高さのばらつきを制御することが困難である。
本発明は、以上の課題を解決するためになされたもので、デバイス内部の各端子部の接合強度を維持すると共に、該内部の電気配線の断線を容易に防止し、電子デバイス小型化を可能とする、電子デバイスの内部接続構造、および電子デバイスの内部接続方法を提供することを目的としている。
上述の目的は、第1の発明によれば、電子部品パッケージと、集積回路素子とを、リードフレームを用いて接続することで、一体として機能するようにした電子デバイスの内部接続構造であって、前記リードフレームは、該接続をするための接続リードを備えており、前記集積回路素子の外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の一端側とが、ボンディングワイヤによって接続され、前記電子部品パッケージの外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の他端側とが、溶融性の導電性材料を介して接続され、前記接続リードの一面の一部には、前記導電性材料の少なくとも一組成物が前記他端側から前記一端側へ移動することを、阻止するための防護層を備え、前記防護層が、前記組成物の該移動を妨げる物性を有している材料で形成されていることを特徴とする、電子デバイスの内部接続構造、により達成される。
第1の発明の構成によれば、接続リードの一面の一部には、導電性材料の少なくとも一組成物の移動を阻止するための防護層であって、該防護層を形成する材料が前記組成物の該移動を阻止する物性を有している、防護層を備えている。ここで、導電性材料の組成物とは、導電性材料を構成している材料のうち、原子単位または分子単位の組成で分解することができる組成のもの全てを含んでいる。また、物性とは、濡れ性や化学反応性などの、該材料が固有に有する性質のことを指している。本発明は、このような防護層の性質を利用して、溶融性の導電性材料の移動を阻止するような構成となっているため、容易に、しかも有効に、内部の電気配線の断線を防止すると共に、電子デバイスの小型化を実現することができる。
第1の発明の構成によれば、接続リードの一面の一部には、導電性材料の少なくとも一組成物の移動を阻止するための防護層であって、該防護層を形成する材料が前記組成物の該移動を阻止する物性を有している、防護層を備えている。ここで、導電性材料の組成物とは、導電性材料を構成している材料のうち、原子単位または分子単位の組成で分解することができる組成のもの全てを含んでいる。また、物性とは、濡れ性や化学反応性などの、該材料が固有に有する性質のことを指している。本発明は、このような防護層の性質を利用して、溶融性の導電性材料の移動を阻止するような構成となっているため、容易に、しかも有効に、内部の電気配線の断線を防止すると共に、電子デバイスの小型化を実現することができる。
第2の発明は第1の発明の構成において、前記溶融性の導電性材料がSnを主成分とするろう材であり、前記防護層は、Al(アルミニウム)メッキによって形成されていることを特徴とする。
第2の発明の構成によれば、溶融性の導電性材料がSnを主成分とするろう材、例えばSn系半田であり、防護層は、Al(アルミニウム)メッキによって形成されている。電子デバイスの内部(電気的)接続に関し、導電性材料としてSnを含んだ半田が、ボンディングワイヤとして、Auワイヤが広く用いられている。半田は、Al表面に対して濡れにくい性質を持つため、Alメッキの防護層は、半田がAuワイヤのボンディング箇所の方へ流出するのを有効に阻止する。また、AlとSnとは非固溶系であるので、金属固溶反応によるSnの拡散を有効に阻止する。
第2の発明の構成によれば、溶融性の導電性材料がSnを主成分とするろう材、例えばSn系半田であり、防護層は、Al(アルミニウム)メッキによって形成されている。電子デバイスの内部(電気的)接続に関し、導電性材料としてSnを含んだ半田が、ボンディングワイヤとして、Auワイヤが広く用いられている。半田は、Al表面に対して濡れにくい性質を持つため、Alメッキの防護層は、半田がAuワイヤのボンディング箇所の方へ流出するのを有効に阻止する。また、AlとSnとは非固溶系であるので、金属固溶反応によるSnの拡散を有効に阻止する。
第3の発明は、第1または2のいずれかの発明の構成において、前記防護層は、前記接続リードと前記ボンディングワイヤとの接続箇所を含んで形成されていることを特徴とする。
第3の発明の構成によれば、防護層は、前記接続リードと前記ボンディングワイヤとの接続箇所を含んで形成されている。この構成により、短絡を防止したい箇所である、接続リードとワイヤボンディングの接合箇所とを、確実に、溶融性の導電性材料および、その組成物から防護することができる。また、防護層がAlメッキによって形成され、ボンディングワイヤがAuワイヤである場合に、AlとAuとは化学反応によって共晶合金を生成するため、該メッキ層とAuワイヤの接合部分はこの共晶合金によって、より強固な接合強度を得ることができる。
第3の発明の構成によれば、防護層は、前記接続リードと前記ボンディングワイヤとの接続箇所を含んで形成されている。この構成により、短絡を防止したい箇所である、接続リードとワイヤボンディングの接合箇所とを、確実に、溶融性の導電性材料および、その組成物から防護することができる。また、防護層がAlメッキによって形成され、ボンディングワイヤがAuワイヤである場合に、AlとAuとは化学反応によって共晶合金を生成するため、該メッキ層とAuワイヤの接合部分はこの共晶合金によって、より強固な接合強度を得ることができる。
第4の発明は、第1ないし第3のいずれかの発明の構成において、前記防護層は、前記導電性材料の塗布領域に近接して形成されていることを特徴とする。
第4の発明によれば、防護層が導電性材料の塗布領域に隣接して形成されているので、有効に、導電性材料およびその組成物の移動による断線を防止することができる。
第4の発明によれば、防護層が導電性材料の塗布領域に隣接して形成されているので、有効に、導電性材料およびその組成物の移動による断線を防止することができる。
第5の発明は、第1または2のいずれかの発明の構成において、前記防護層は、前記接続リードと前記ボンディングワイヤとの接続箇所を中心とする一定領域に形成されていることを特徴とする。
第5の発明によれば、防護層が、接続リードとボンディングワイヤとの接続箇所を中心とする一定領域に形成されているので、該防護層の視覚的な識別性によって、ワイヤボンディングを行う際の、該接合箇所の装置による位置認識が容易となる。また防護層の位置ズレが生じた時にも防護層にてパターンマッチングさせれば支障は生じない。このことにより、接合箇所の高精度化や位置認識の高速化が実現する。
第5の発明によれば、防護層が、接続リードとボンディングワイヤとの接続箇所を中心とする一定領域に形成されているので、該防護層の視覚的な識別性によって、ワイヤボンディングを行う際の、該接合箇所の装置による位置認識が容易となる。また防護層の位置ズレが生じた時にも防護層にてパターンマッチングさせれば支障は生じない。このことにより、接合箇所の高精度化や位置認識の高速化が実現する。
第6の発明は、第1ないし第5の発明のいずれかの構成において、前記接続リードの一面の一端側と前記接続リードの一面の他端側との間には、前記他端側が前記一端側よりも高い位置になるように傾斜部が形成されていることを特徴とする。
第6の発明の構成によれば、接続リードの一面の一端側と接続リードの一面の他端側との間には、他端側が一端側よりも高い位置になるように傾斜部が形成されているため、水平方向(平面方向)の寸法を大きくしないでも、一端側と他端側との距離を大きくとることができる。したがって、電子デバイスの水平方向の寸法を小型化しつつ、一端側に接続されたボンディングワイヤと他端側に接続された溶融性の導電性材料との距離を十分に確保して、集積回路素子の外面に設けられた端子から引き出されたボンディングワイヤと、電子部品パッケージの外面に設けられた端子とのショートを防止できる。
第6の発明の構成によれば、接続リードの一面の一端側と接続リードの一面の他端側との間には、他端側が一端側よりも高い位置になるように傾斜部が形成されているため、水平方向(平面方向)の寸法を大きくしないでも、一端側と他端側との距離を大きくとることができる。したがって、電子デバイスの水平方向の寸法を小型化しつつ、一端側に接続されたボンディングワイヤと他端側に接続された溶融性の導電性材料との距離を十分に確保して、集積回路素子の外面に設けられた端子から引き出されたボンディングワイヤと、電子部品パッケージの外面に設けられた端子とのショートを防止できる。
上述の目的は、第7の発明によれば、外枠の内側に接続リードを備えたリードフレームであって、前記接続リードの一面に該接続リードの一端側を含んでAl(アルミニウム)メッキが形成された、リードフレームが用意され、前記リードフレームを用いて、電子部品パッケージと集積回路素子とを接続し、一体として機能するようにした電子デバイスを製造するための、内部接続方法であって、前記集積回路素子の外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の一端側とを、Au(金)ワイヤを用いたワイヤボンディングによって接続する工程と、前記電子部品パッケージの外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の他端側とを、溶融性の導電性材料を介して接続する工程と、を含み、前記ワイヤボンディングによる接続工程は、前記接続リードの一面の一端側に、Auワイヤの先端に形成した溶融ボールを介した第1接合を行う工程と、前記溶融ボールからAuワイヤを延長させて、前記集積回路素子の外部端子に第2接合を行う工程と、を含むことを特徴とする、電子デバイスの内部接続方法、により達成される。
第7の発明の構成によれば、接続リードの一面の一端側に施されたAlメッキが、溶融性の導電性材料からAuワイヤを確実に防護するため、容易に、しかも有効に、内部の電気配線の短絡を防止すると共に、電子デバイスの小型化を実現することができる。
また、ワイヤボンディング工程において、溶融ボールを介した第1接合部分は、AlとAuの共晶合金を生成することにより、強固に接合させることができる。すなわち、例えばAgメッキなどへの単なる機械的接合による(共晶合金の生成を伴わない)、溶融ボールを介した第1接合では、十分な接合強度を得ることができないが、本発明では、この共晶合金による接合を利用することで、接続リード側においてこの第1接合を行い、集積回路素子側において第2接合を行うこととしている。このようなワイヤボンディングにおける引き回し方向は、Auワイヤを引き回す軌跡に影響し、結果として、パッケージの厚み方向に対して、その軌跡を低くすることができる。かくして、電子デバイスの厚み方向に対する小型化も実現できる。
第7の発明の構成によれば、接続リードの一面の一端側に施されたAlメッキが、溶融性の導電性材料からAuワイヤを確実に防護するため、容易に、しかも有効に、内部の電気配線の短絡を防止すると共に、電子デバイスの小型化を実現することができる。
また、ワイヤボンディング工程において、溶融ボールを介した第1接合部分は、AlとAuの共晶合金を生成することにより、強固に接合させることができる。すなわち、例えばAgメッキなどへの単なる機械的接合による(共晶合金の生成を伴わない)、溶融ボールを介した第1接合では、十分な接合強度を得ることができないが、本発明では、この共晶合金による接合を利用することで、接続リード側においてこの第1接合を行い、集積回路素子側において第2接合を行うこととしている。このようなワイヤボンディングにおける引き回し方向は、Auワイヤを引き回す軌跡に影響し、結果として、パッケージの厚み方向に対して、その軌跡を低くすることができる。かくして、電子デバイスの厚み方向に対する小型化も実現できる。
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
本発明が適用される電子デバイスにはいろいろあるが、以下では、電子部品パッケージとして圧電振動子パッケージを選び、電子デバイスとしての圧電発振器を例として、実施形態の説明を行う。
ただし、電子部品パッケージと集積回路素子の組み合わせは多様に許容されるものであり、本実施形態における電子デバイスは、圧電発振器に限定されるものではない。例えば、同じ振動子パッケージを用いたジャイロセンサであってもよいし、受光素子を含んだパッケージを用いた光学式のスイッチデバイス等であってもよい。
ただし、電子部品パッケージと集積回路素子の組み合わせは多様に許容されるものであり、本実施形態における電子デバイスは、圧電発振器に限定されるものではない。例えば、同じ振動子パッケージを用いたジャイロセンサであってもよいし、受光素子を含んだパッケージを用いた光学式のスイッチデバイス等であってもよい。
図1および図2は、本実施形態に係る圧電発振器を示しており、図1はその概略分解斜視図、図2は図1のA−A線概略断面図である。
圧電発振器1は、集積回路素子としてのICチップ60と、積層リードフレーム50とが電気的且つ機械的に接続され、さらに、積層リードフレーム50と電子部品パッケージとしての圧電振動子10とが電気的且つ機械的に接続され、これら全体が樹脂2でモールド成形されることで、構成される。以下、具体的にその構造を説明する。
圧電発振器1は、集積回路素子としてのICチップ60と、積層リードフレーム50とが電気的且つ機械的に接続され、さらに、積層リードフレーム50と電子部品パッケージとしての圧電振動子10とが電気的且つ機械的に接続され、これら全体が樹脂2でモールド成形されることで、構成される。以下、具体的にその構造を説明する。
先ずは圧電振動子10の構造について、図1および図2を参照して説明する。圧電振動子10は、パッケージ11内の内部空間12に圧電振動片13を収容し、圧電振動片13の表面に形成された励振電極14と、パッケージ11の外表面に形成された外部端子部16とを、電気的に配線し、パッケージ11の開口部に蓋体17を接合することで、構成されている。
パッケージ11の内底部には、内部電極18が形成されている。また、パッケージの外部に露出する底面の四隅には、外部端子部16が形成されている。
内部電極18と、外部端子部16のうちの2つ(うち一つは作図の関係で図示されず)とは、導電スルーホール(図示せず)により、電気的に接続されている。外部端子部16の残りの2つは、パッケージ内部とは電気的に接続されないダミー電極としている。
圧電振動片13は、水晶等の矩形圧電材料からなるATカット板の両面に、1対の励振電極14を形成したものである。各々の励振電極に対応して、圧電振動片13の端部に、接続電極15が形成されており、この接続電極15と内部電極18とは、導電性接着剤19を介して接続されている。導電性接着剤19は、接続電極15と内部電極18とを、電気的に接続すると共に、機械的に圧電振動片13を片持ち状態で支えている。
パッケージ11の内底部には、内部電極18が形成されている。また、パッケージの外部に露出する底面の四隅には、外部端子部16が形成されている。
内部電極18と、外部端子部16のうちの2つ(うち一つは作図の関係で図示されず)とは、導電スルーホール(図示せず)により、電気的に接続されている。外部端子部16の残りの2つは、パッケージ内部とは電気的に接続されないダミー電極としている。
圧電振動片13は、水晶等の矩形圧電材料からなるATカット板の両面に、1対の励振電極14を形成したものである。各々の励振電極に対応して、圧電振動片13の端部に、接続電極15が形成されており、この接続電極15と内部電極18とは、導電性接着剤19を介して接続されている。導電性接着剤19は、接続電極15と内部電極18とを、電気的に接続すると共に、機械的に圧電振動片13を片持ち状態で支えている。
次に、積層リードフレーム50とICチップ60との接続構造について、図1および図2を参照して説明する。積層リードフレーム50は、第1のリードフレーム30と、第2のリードフレーム40とが、図1のZ軸方向に積層して組み合わさることで構成されている。積層リードフレーム50はパッケージデバイスの内部配線に広く利用される、金属製の薄板であり、例えば、42アロイ等のFe合金、あるいはCu合金等により形成されている。
第1のリードフレーム30には4つの接続リード31が設けられている。接続リード31は、図示されない外枠に一体に接続された状態で提供され、後述する内部接続の工程後において、外枠と切り離される。接続リード31は、接続端子部32、傾斜部33、接続端子用ボンディングパッド34を有しており、図示するように折り曲げ加工されて、段構造となっている。すなわち、接続リード31の一面の一端側に接続端子用ボンディングパッド34が配置され、接続リード32の一面の他端側に接続端子部32が配置されている。そして、接続端子部32は、接続端子用ボンディングパッド34よりもやや上方で、その上面を露出させるように構成され、接続端子部32と接続端子用ボンディングパッド34との間には、接続端子部32が接続端子用ボンディングパッド34よりも高い位置になるように傾斜部33が形成されている。
第2のリードフレーム40には、上述した各接続リード31に対応した実装リード42が設けられている。実装リード42は、実装端子部43、傾斜部44、実装端子用ボンディングパッド45を有しており、図示するように折り曲げ加工されて、段構造となっている。すなわち、実装端子部43は、実装端子用ボンディングパッド45よりもやや下方でその底面を露出させるように構成されている。
第2のリードフレーム40の中央付近には、さらに、ICチップを固定するためのアイランド部41が設けられている。また、アイランド部41の縁からY方向に伸びた一対のリードであって、アイランド部41を支持するための、保持リード49が設けられている。
第2のリードフレーム40にはさらに、X方向に沿って、左右にそれぞれ2本ずつ伸びた、調整端子用リード46が設けられている。
実装用リード42、保持リード49、調整端子用リード46は、図示されない外枠に一体に接続された状態で提供され、後述する内部接続の工程後において、それぞれ外枠と切り離される。
第2のリードフレーム40の中央付近には、さらに、ICチップを固定するためのアイランド部41が設けられている。また、アイランド部41の縁からY方向に伸びた一対のリードであって、アイランド部41を支持するための、保持リード49が設けられている。
第2のリードフレーム40にはさらに、X方向に沿って、左右にそれぞれ2本ずつ伸びた、調整端子用リード46が設けられている。
実装用リード42、保持リード49、調整端子用リード46は、図示されない外枠に一体に接続された状態で提供され、後述する内部接続の工程後において、それぞれ外枠と切り離される。
第1のリードフレーム30と第2のリードフレーム40とが、図示するように積層されると、接続端子部32と実装端子部43とは、Z軸方向から見てほぼ重なった位置関係となり、第1のリードフレーム30と第2のリードフレーム40との間には、ICチップ60の配置、および、内部配線を行うための空間が構成される。かくして、パッケージの厚み方向に対する内部接続が可能となる。
具体的には、ICチップ60は、アイランド部41の上面に、エポキシ系やシリコン系の接着剤を用いて固定されている。さらに、ICチップ60の外部に設けられた外部端子と接続端子用ボンディングパッド34、および実装端子用ボンディングパッド45、および調整端子用リード46とが、それぞれ、Auワイヤ61によるワイヤボンディングによって電気的に接続されている。ワイヤボンディング工程の詳細については、後述する。
具体的には、ICチップ60は、アイランド部41の上面に、エポキシ系やシリコン系の接着剤を用いて固定されている。さらに、ICチップ60の外部に設けられた外部端子と接続端子用ボンディングパッド34、および実装端子用ボンディングパッド45、および調整端子用リード46とが、それぞれ、Auワイヤ61によるワイヤボンディングによって電気的に接続されている。ワイヤボンディング工程の詳細については、後述する。
ここで、調整端子用リード46は、圧電発振器1が完成した状態において、外部に露出した端子である調整端子を構成する。調整端子は、ICチップ60の特性検査、特性調整、内部配線の導通確認等を行うために用いられる。
接続端子部32は図1に示すように4つ設けられており、圧電振動子10の四隅に設けられた外部端子部16と、それぞれ電気的に接続されることになる。具体的には、導電性材料としての固形の半田(図1では図示されない)を接続端子部32の上に置いてから、対応する各端子どうしが重なるように、圧電振動子10をマウントし、前記半田を溶融させて、いわゆるリフロー半田付法により接合する。
以上の構成により、圧電発振器1における、圧電振動子10、積層リードフレーム50、ICチップ60の電気機械的な接続がなされる。
次に、図3を参照して、接続リード31の周辺における接続構造についての、より詳細な説明を行う。
図3は、図1の内部接続工程の一部を示す概略斜視図である。但し、便宜上、接続端子部上方に配置されている圧電振動子10は図示していない。接続端子部32の上面の半田塗布領域64には、半田62が溶融した状態で広がっている。また、半田塗布領域64に隣接して、防護層としてのAl(アルミニウム)メッキ層65が、傾斜部33から接続端子用ボンディングパッド34にかけての上面に形成されている。Alメッキ層65は、あらかじめ、例えば、電解メッキやスパッタリングによって形成されている。尚、Alメッキ層65は、図3では斜線領域として示してあり、特に厚みは図示していない。すなわち、Alメッキ層65はごく薄い膜として形成してもよいし、ある程度の厚みを持たせて形成して、半田62の移動を機械的に止める機能を併せ持たせてもよい。
接続端子用ボンディングパッド34のほぼ中央付近に位置する、接続リード側ボンディング箇所66からは、Auワイヤ61が伸びていて、ICチップの外部端子(図示せず)の一つに接続されている。
図3は、図1の内部接続工程の一部を示す概略斜視図である。但し、便宜上、接続端子部上方に配置されている圧電振動子10は図示していない。接続端子部32の上面の半田塗布領域64には、半田62が溶融した状態で広がっている。また、半田塗布領域64に隣接して、防護層としてのAl(アルミニウム)メッキ層65が、傾斜部33から接続端子用ボンディングパッド34にかけての上面に形成されている。Alメッキ層65は、あらかじめ、例えば、電解メッキやスパッタリングによって形成されている。尚、Alメッキ層65は、図3では斜線領域として示してあり、特に厚みは図示していない。すなわち、Alメッキ層65はごく薄い膜として形成してもよいし、ある程度の厚みを持たせて形成して、半田62の移動を機械的に止める機能を併せ持たせてもよい。
接続端子用ボンディングパッド34のほぼ中央付近に位置する、接続リード側ボンディング箇所66からは、Auワイヤ61が伸びていて、ICチップの外部端子(図示せず)の一つに接続されている。
ここで、材料としてのAl表面は、材料としての半田に対して濡れにくい性質を持っている。このため、溶融した半田62は、Alメッキ層65の領域にまで濡れ広がることがなく、接続リード側ボンディング箇所66にまで到達することがない。
また、材料としてのAlは、半田の主成分であるSn(錫)と非固溶の化学的性質を有している。このため、半田62が冷え固まった後、長時間を経過したとしても、半田中のSnがAlメッキ層65の中を拡散移動して、接続リード側ボンディング箇所66にまで到達することがない。
かくして、Auワイヤ61の成分であるAuと半田62の主成分であるSnとが、化学反応によって非常にもろい化合物を生成することがなく、Auワイヤ61の断線が未然に防止される。
また、接続リード側ボンディング箇所66において、Auワイヤ61とAlメッキ層65との接合部分は、AuとAlの共晶合金を生成することにより、強固に接合させることができる。
また、材料としてのAlは、半田の主成分であるSn(錫)と非固溶の化学的性質を有している。このため、半田62が冷え固まった後、長時間を経過したとしても、半田中のSnがAlメッキ層65の中を拡散移動して、接続リード側ボンディング箇所66にまで到達することがない。
かくして、Auワイヤ61の成分であるAuと半田62の主成分であるSnとが、化学反応によって非常にもろい化合物を生成することがなく、Auワイヤ61の断線が未然に防止される。
また、接続リード側ボンディング箇所66において、Auワイヤ61とAlメッキ層65との接合部分は、AuとAlの共晶合金を生成することにより、強固に接合させることができる。
次に、ワイヤボンディング工程について、図4および図5を参照して説明する。
図4は、ワイヤボンディング工程の一部を示す概略斜視図である。ワイヤボンディングを行うための装置は、Auワイヤを導出するためのキャピラリ81、キャピラリ81の位置を移動させるためのアーム82、アーム82を駆動するためのアーム駆動部83、ワイヤボンディングの位置を認識するためのカメラ80、キャピラリ81およびアーム駆動部83を制御するための制御部84を備えている。制御部84は、カメラ80からの画像情報を基に、接続リード31の外形から接続リード側ボンディング箇所66を認識し、また、ICチップ60の上面に設けられたIC外部端子68の窪みを認識して、キャピラリ81をこれらの接合箇所に移動させ、後述する工程動作を制御する。
図4は、ワイヤボンディング工程の一部を示す概略斜視図である。ワイヤボンディングを行うための装置は、Auワイヤを導出するためのキャピラリ81、キャピラリ81の位置を移動させるためのアーム82、アーム82を駆動するためのアーム駆動部83、ワイヤボンディングの位置を認識するためのカメラ80、キャピラリ81およびアーム駆動部83を制御するための制御部84を備えている。制御部84は、カメラ80からの画像情報を基に、接続リード31の外形から接続リード側ボンディング箇所66を認識し、また、ICチップ60の上面に設けられたIC外部端子68の窪みを認識して、キャピラリ81をこれらの接合箇所に移動させ、後述する工程動作を制御する。
図5は、図4のB−B断面による工程動作を示す概略断面図である。まず、IC外部端子68上方にキャピラリ81を移動させ、キャピラリ81の先端に形成された溶融ボールとしての第1のAuボール70を、IC外部端子68の上面にあらかじめ設けられたAlパッド(図示せず)に押し付けて接合する(図5(a))。該接合は、例えば、超音波と熱との併用により行われる。この後、第1のAuボール70はキャピラリ81の先端から切り離されるが、この第1のAuボール70とIC外部端子68との接合を便宜上、予備接合と呼ぶことにする。
次に、キャピラリ81を接続端子用ボンディングパッド34の上方へ移動させる。そして、キャピラリ81の先端に形成された溶融ボールとしての第2のAuボール67を、接続リード側ボンディング箇所66に押し付け、第1接合を行う(図5(b))。
次に、第2のAuボール67に一体のままAuワイヤ61を導出しつつ、キャピラリ81をIC外部端子68の上方へ移動させる(図5(c))。
最後に、キャピラリ81の先端を第1のAuボール70に押し付けて第2接合を行い、一つのワイヤボンディングが完成する(図5(d))。このとき、接続リード31からICチップ60まで伸びるAuワイヤ61の軌跡は、アイランド部41の上面からh1の高さとなる(図5(e))。
次に、キャピラリ81を接続端子用ボンディングパッド34の上方へ移動させる。そして、キャピラリ81の先端に形成された溶融ボールとしての第2のAuボール67を、接続リード側ボンディング箇所66に押し付け、第1接合を行う(図5(b))。
次に、第2のAuボール67に一体のままAuワイヤ61を導出しつつ、キャピラリ81をIC外部端子68の上方へ移動させる(図5(c))。
最後に、キャピラリ81の先端を第1のAuボール70に押し付けて第2接合を行い、一つのワイヤボンディングが完成する(図5(d))。このとき、接続リード31からICチップ60まで伸びるAuワイヤ61の軌跡は、アイランド部41の上面からh1の高さとなる(図5(e))。
ここで、第2のAuボール67を介した第1接合は、強固に接合される。すなわち、第2のAuボール67は、Alメッキ層(図5では図示せず)との接合箇所において共晶合金を生成し、このような共晶合金を介在する接合は、単なる機械的な接合に比べて接合強度が強い。このことは、予備接合についても同様であり、第1のAuボール70はAlパッド(図示せず)との接合箇所において共晶合金を生成し、強固に接合される。
逆の言い方をすれば、接続リード側ボンディング箇所66にAlメッキ層65が形成されていない場合においては、接合強度の不足のため、図5に示す方法によるワイヤボンディングを行うことができなかった。以下で例を示して説明する。
逆の言い方をすれば、接続リード側ボンディング箇所66にAlメッキ層65が形成されていない場合においては、接合強度の不足のため、図5に示す方法によるワイヤボンディングを行うことができなかった。以下で例を示して説明する。
図6は、図5に係る発明の効果を説明するための参考例を示す概略断面図である。この例においては、IC外部端子68にて第1のAuボール70を介した第1接合を行い(図6(a))、第1のAuボール70からAuワイヤ61を延長させて(図6(b))、接続リード側ボンディング箇所66にキャピラリ81の先端を押し付けて第2接合を行っていた(図6(c))。このように、接合箇所に対してキャピラリ81の先端を直接押し付けて接合を行う第2接合によれば、該接合部のステッチ71によって、強い接合強度を持った接合を行うことができる。
このとき、Auワイヤ61の軌跡は、アイランド部41の上面からh2の高さとなるが(図6(d))、h2は図5(e)に示すh1よりも高い。このことは、第1接合箇所の初期的な高さ(アイランド部41の上面からの距離)の違いに起因しており、Auワイヤ61をAuボールから延長させて引き回す都合から、必然的に生じる結果である。
このように、Auワイヤの軌跡が高くなってしまった場合には、図6(d)の点線72に示すように、接続リード31の段差を大きくせねばならず、圧電発振器1の厚みを増加させてしまうことになる。
このとき、Auワイヤ61の軌跡は、アイランド部41の上面からh2の高さとなるが(図6(d))、h2は図5(e)に示すh1よりも高い。このことは、第1接合箇所の初期的な高さ(アイランド部41の上面からの距離)の違いに起因しており、Auワイヤ61をAuボールから延長させて引き回す都合から、必然的に生じる結果である。
このように、Auワイヤの軌跡が高くなってしまった場合には、図6(d)の点線72に示すように、接続リード31の段差を大きくせねばならず、圧電発振器1の厚みを増加させてしまうことになる。
以上の説明からわかるように、接続リード側ボンディング箇所66にAlメッキ層65が形成されている本実施形態では、接続リード側ボンディング箇所66で第1接合を、IC外部端子68で第2接合を行うことで、ワイヤボンディングによるAuワイヤ61の軌跡を低くすることができる。かくして、ワイヤボンディングの十分な接合強度を維持しつつ、圧電発振器1を厚み方向に小さくすることが可能となる。
図8は、Alメッキ層65の形成に関し、その変形例2を示す概略斜視図である。この変形例2においては、Alメッキ層65は、半田塗布領域64に隣接して、傾斜部33の領域にかけて形成されている。このように、Alメッキ層65が形成されている領域は、接続リード側ボンディング箇所66を含んでいなくてもよい。
図7は、Alメッキ層65の形成に関し、その変形例1を示す概略斜視図である。この変形例1においては、Alメッキ層65は、接続リード側ボンディング箇所66を中心とする一定領域に形成されている。具体的には、図7(a)に示すような円形、図7(b)に示すような矩形の形状でAlメッキがなされている。
このようにマーキング化されたAlメッキ層65は、その色合いや光沢によって、ワイヤボンディングにおける接合箇所の位置認識を容易にする。かくして、接合箇所の高精度化や位置認識の高速化が実現する。
このようにマーキング化されたAlメッキ層65は、その色合いや光沢によって、ワイヤボンディングにおける接合箇所の位置認識を容易にする。かくして、接合箇所の高精度化や位置認識の高速化が実現する。
図9は、Alメッキ層65の形成に関し、その変形例3を示す概略斜視図である。この変形例3においては、半田塗布領域64を囲むようにAlメッキ層65が形成されている。このような構成によれば、溶融した半田62を介して接続端子部32と外部端子部16(図9には図示せず)とを接合させる際に、余分な半田が周囲に流れ出すことを未然に防止することができる。
本発明は上述の実施形態に限定されない。特に、防護層はAlメッキに限定されるものではない。例えば、リードフレームの母材の一部に対して表面を酸化させる処理を行い、該処理によって形成された酸化膜を利用しても、半田と濡れにくいという性質を有する限り、防護層としての機能を発揮することができる。
また、各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略したり、図示しない他の構成と組み合わせたりすることができる。
また、各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略したり、図示しない他の構成と組み合わせたりすることができる。
1・・・圧電発振器、10・・・圧電振動子、16・・・外部端子部、30・・・第1のリードフレーム、31・・・接続リード、32・・・接続端子部、34・・・接続端子用ボンディングパッド、40・・・第2のリードフレーム、42・・・実装リード、43・・・実装端子部、45・・・実装端子用ボンディングパッド、60・・・ICチップ、61・・・Auワイヤ、62・・・半田、64・・・半田塗布領域、65・・・Alメッキ、66・・・接続リード側ボンディング箇所、67・・・第2のAuボール、68・・・IC外部端子、70・・・第1のAuボール、71・・・ステッチ、81・・・キャピラリ
Claims (7)
- 電子部品パッケージと、集積回路素子とを、リードフレームを用いて接続することで、一体として機能するようにした電子デバイスの内部接続構造であって、
前記リードフレームは、該接続をするための接続リードを備えており、
前記集積回路素子の外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の一端側とが、ボンディングワイヤによって接続され、
前記電子部品パッケージの外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の他端側とが、溶融性の導電性材料を介して接続され、
前記接続リードの一面の一部には、前記導電性材料の少なくとも一組成物が前記他端側から前記一端側へ移動することを、阻止するための防護層を備え、
前記防護層が、前記組成物の該移動を妨げる物性を有している材料で形成されている
ことを特徴とする、電子デバイスの内部接続構造。 - 前記溶融性の導電性材料がSnを主成分とするろう材であり、前記防護層は、Al(アルミニウム)メッキによって形成されていることを特徴とする、請求項1に記載した電子デバイスの内部接続構造。
- 前記防護層は、前記接続リードと前記ボンディングワイヤとの接続箇所を含んで形成されていることを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載した電子デバイスの内部接続構造。
- 前記防護層は、前記導電性材料の塗布領域に近接して形成されていることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれかに記載した電子デバイスの内部接続構造。
- 前記防護層は、前記接続リードと前記ボンディングワイヤとの接続箇所を中心とする一定領域に形成されていることを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載した電子デバイスの内部接続構造。
- 前記接続リードの一面の一端側と前記接続リードの一面の他端側との間には、前記他端側が前記一端側よりも高い位置になるように傾斜部が形成されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の電子デバイスの内部接続構造。
- 外枠の内側に接続リードを備えたリードフレームであって、前記接続リードの一面に該接続リードの一端側を含んでAl(アルミニウム)メッキが形成された、リードフレームが用意され、
前記リードフレームを用いて、電子部品パッケージと集積回路素子とを接続し、一体として機能するようにした電子デバイスを製造するための、内部接続方法であって、
前記集積回路素子の外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の一端側とを、Au(金)ワイヤを用いたワイヤボンディングによって接続する工程と、
前記電子部品パッケージの外面に設けられた端子と、前記接続リードの一面の他端側とを、溶融性の導電性材料を介して接続する工程と、を含み、
前記ワイヤボンディングによる接続工程は、前記接続リードの一面の一端側に、Auワイヤの先端に形成した溶融ボールを介した第1接合を行う工程と、
前記溶融ボールからAuワイヤを延長させて、前記集積回路素子の外部端子に第2接合を行う工程と、を含むことを特徴とする、電子デバイスの内部接続方法。
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Cited By (2)
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JP2007294530A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Sanken Electric Co Ltd | リードフレーム組立体 |
WO2008038767A1 (fr) * | 2006-09-30 | 2008-04-03 | Citizen Finetech Miyota Co., Ltd. | dispositif piézoélectrique |
-
2005
- 2005-03-23 JP JP2005083862A patent/JP2006013435A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007294530A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Sanken Electric Co Ltd | リードフレーム組立体 |
WO2008038767A1 (fr) * | 2006-09-30 | 2008-04-03 | Citizen Finetech Miyota Co., Ltd. | dispositif piézoélectrique |
JP4778064B2 (ja) * | 2006-09-30 | 2011-09-21 | シチズンファインテックミヨタ株式会社 | 圧電デバイス |
US8179022B2 (en) | 2006-09-30 | 2012-05-15 | Citizen Finetech Miyota Co., Ltd. | Piezoelectric device with improved separation between input-output terminals and external connecting terminals |
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