JP2006013076A - ラミネート基板及びそれを用いた電気機器 - Google Patents
ラミネート基板及びそれを用いた電気機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006013076A JP2006013076A JP2004186925A JP2004186925A JP2006013076A JP 2006013076 A JP2006013076 A JP 2006013076A JP 2004186925 A JP2004186925 A JP 2004186925A JP 2004186925 A JP2004186925 A JP 2004186925A JP 2006013076 A JP2006013076 A JP 2006013076A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layers
- conductors
- thermoplastic resin
- laminate substrate
- insulating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Abstract
【課題】 絶縁層と導体とを接着層を介して多層化したラミネート基板において、接着剤として絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂を用い、接着時間の短縮に伴って成形時間の短縮を図ったラミネート基板を提供する。
【解決手段】 平行平板状の導電層を形成する複数の導体と、これらの導体間に配置されシート状の熱可塑性樹脂からなる層間絶縁層と、これらの導体を被覆しシート状の熱可塑性樹脂からなる2つの外絶縁層と、それぞれの導体に接続された電極と、隣接する導体と絶縁層との間ならびに隣接する絶縁層同士の間に介在し絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂からなる接着層とを備え、絶縁層はアラミド紙とポリエチレンテレフタレートからなるようにした。
【選択図】 図2
【解決手段】 平行平板状の導電層を形成する複数の導体と、これらの導体間に配置されシート状の熱可塑性樹脂からなる層間絶縁層と、これらの導体を被覆しシート状の熱可塑性樹脂からなる2つの外絶縁層と、それぞれの導体に接続された電極と、隣接する導体と絶縁層との間ならびに隣接する絶縁層同士の間に介在し絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂からなる接着層とを備え、絶縁層はアラミド紙とポリエチレンテレフタレートからなるようにした。
【選択図】 図2
Description
この発明は、電気機器のパワー回路基板の技術分野に属するものであり、とくに絶縁層と導体とを接着層を介して多層化したラミネート基板に関するものである。
従来のラミネート基板は、絶縁層であるポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムにエポキシ接着剤を塗布してBステージ化しておき、このPETフィルムと導体とを逐次積層し、加熱加圧成形することによって得られる。接着条件として、温度170℃、圧力20kgf/cm2、硬化時間60分が例示されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかしながら、従来の技術では、熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂を接着剤として用いており、エポキシ樹脂の硬化時間が長いために成形時間が長くなるという問題がある。
この発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、接着剤として絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂を用い、接着時間の短縮に伴って成形時間の短縮を図ったラミネート基板を提供する。
この発明にかかるラミネート基板は、平行平板状の導電層を形成する複数の導体と、これらの導体間に配置されシート状の熱可塑性樹脂からなる層間絶縁層と、これらの導体を被覆しシート状の熱可塑性樹脂からなる2つの外絶縁層と、それぞれの導体に接続された電極と、隣接する導体と絶縁層との間ならびに隣接する絶縁層同士の間に介在し絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂からなる接着層とを備え、絶縁層はアラミド紙とポリエチレンテレフタレートからなるものである。
この発明によれば、接着剤として絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂を用いたため、接着時間の短縮に伴って成形時間の短縮を図ったラミネート基板を提供できる。
実施の形態1.
図1は、本発明が適用されるラミネート基板の実施の形態1を説明するための平面図である。図2は、図1におけるA−A断面図である。パワー回路基板としてのラミネート基板10は、シート状のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にアラミド紙(例えば、デュポン社製ノーメックス(登録商標)ペーパー、型番410)を張り合わせたものからなる第一外絶縁層1a、第二外絶縁層1b及び、シート状のPETフィルムの両面にアラミド紙を張り合わせたものからなる層間絶縁層1cを備えている。第一外絶縁層1aと層間絶縁層1cとの間には第一パワー導体2a、第二外絶縁層1bと層間絶縁層1cとの間には第二パワー導体2bが配置されている。第一パワー導体2aと第二パワー導体2bは、中央部が幅広くかつ形状が重なり合い、平行平板状の導電層を形成している。この重なり合いの面積及び形状は用途に応じて適宜設計できる。また、通常のプリント基板に配線されている回路形状をこれに当ててもよい。第一パワー導体2aには第一電極4a、第二パワー導体2bには第二電極4bが、それぞれ2個ずつ接続されており、これらの第一、第二電極4a、4bは第一外絶縁層1a、第二外絶縁層1b、層間絶縁層1cより外部に突出している。なお、図1では各電極が各パワー導体と同一部材の場合について例示しているが、電気的に接続されていればこれに限定するものではない。また、いずれかの電極が絶縁層から突出していない場合、スルーホール等を介して接続用端子を取り付けることは適宜実施できる。
図1は、本発明が適用されるラミネート基板の実施の形態1を説明するための平面図である。図2は、図1におけるA−A断面図である。パワー回路基板としてのラミネート基板10は、シート状のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にアラミド紙(例えば、デュポン社製ノーメックス(登録商標)ペーパー、型番410)を張り合わせたものからなる第一外絶縁層1a、第二外絶縁層1b及び、シート状のPETフィルムの両面にアラミド紙を張り合わせたものからなる層間絶縁層1cを備えている。第一外絶縁層1aと層間絶縁層1cとの間には第一パワー導体2a、第二外絶縁層1bと層間絶縁層1cとの間には第二パワー導体2bが配置されている。第一パワー導体2aと第二パワー導体2bは、中央部が幅広くかつ形状が重なり合い、平行平板状の導電層を形成している。この重なり合いの面積及び形状は用途に応じて適宜設計できる。また、通常のプリント基板に配線されている回路形状をこれに当ててもよい。第一パワー導体2aには第一電極4a、第二パワー導体2bには第二電極4bが、それぞれ2個ずつ接続されており、これらの第一、第二電極4a、4bは第一外絶縁層1a、第二外絶縁層1b、層間絶縁層1cより外部に突出している。なお、図1では各電極が各パワー導体と同一部材の場合について例示しているが、電気的に接続されていればこれに限定するものではない。また、いずれかの電極が絶縁層から突出していない場合、スルーホール等を介して接続用端子を取り付けることは適宜実施できる。
さらに、隣接する第一外絶縁層1aと第一パワー導体2aとの間には第一接着層3aが介在している。同様に、第二外絶縁層1bと第二パワー導体2bとの間には第二接着層3b、層間絶縁層1cと第一パワー導体2aとの間には第三接着層3c、層間絶縁層1cと第二パワー導体2bとの間には第四接着層3dが介在している。また、それぞれの絶縁層の間で、第一、第二パワー導体2a、2bの形状によって、絶縁層同士が隣接する部分が生じる。第一外絶縁層1aと層間絶縁層1cが隣接する部分には、第一接着層3aと第三接着層3cとが介在し一体化している。同様に、第二外絶縁層1bと層間絶縁層1cが隣接する部分には、第二接着層3bと第四接着層3dとが介在し一体化している。第一ないし第四接着層3a〜3dは、前述の通りこれらの絶縁層1a〜1cよりも低温で溶融する熱可塑性樹脂からなる。例えば、第一接着層3aは、第一外絶縁層1aのアラミド紙側に低密度ポリエチレン(PE)膜が共押し出し法、ドライラミネーション法等によって形成されたものとする。同様に、他の接着層3b〜3dもPE膜で形成されている。ここで、アラミド紙はアラミド繊維表面が毛羽立っている。そのため、アラミド紙のアンカー効果によって、絶縁層のPETと接着層のPEとの接着性が向上する。なお、図2では導体が2層の場合について例示しているが、これに限定するものではない。
次に、ラミネート基板10の成形方法について説明する。図3は、この実施の形態におけるラミネート基板10の成形前の構成を説明するための展開図である。図3において上から順に、第一外絶縁層1a、第一パワー導体2a、層間絶縁層1c、第二パワー導体2b、第二外絶縁層1bである。ここで、第一外絶縁層1aの図示下側の面、層間絶縁層1cの両面、第二外絶縁層1bの図示上側の面には、接着剤としてのPE膜が形成されている。
また、PETフィルムの厚さは25μm〜100μm程度、PE膜の厚さは5μm〜50μm程度というように、用途に応じて適宜設定できる。第一、第二パワー導体2a、2bとしての銅箔の厚さも用途に応じて適宜選択できるが、0.1〜1mmの場合、ラミネート基板10として柔軟性を有する観点から好ましい。なお、銅箔の代わりにアルミニウム、黄銅、りん青銅など、導電率の良好な材質を用いてもよい。
図4は、ラミネート基板10を成形するために、図3における構成をプレス機の加工ステージ内に配置した様子を示す積層イメージ図である。図4において、プレス機の上側金型6aと下側金型6bの間に下から順に、クッション材7、第二外絶縁層1b、第二パワー導体2b、層間絶縁層1c、第一パワー導体2a、第一外絶縁層1a、クッション材7を敷設している。
クッション材7は、例えば厚さ5mmのシリコンゴムシートを使用する。クッション材7としては、接着剤の接着温度を十分に上回る耐熱性を有する弾力性材料であればとくに限定されるものではなく、所望の成形ができるよう硬度、伸び等を考慮したものを用いることができる。
次に、上側金型6aと下側金型6bの間を閉じて加圧するとともに、両方の金型を接着剤の接着温度になるように加熱する。ここで、加工ステージ内を減圧しておくと、ラミネート基板10内部のボイド発生を防止できる。この実施の形態では、接着剤としてPEを用いていることから接着温度は120〜150℃が好ましい。また、例えば、加圧5kgf/cm2程度、真空度1.3×104Pa程度とする。
設定した接着温度に達したところで、その接着温度を5分程度保持すると、PEが十分に溶融して、被着体である導体と絶縁層の表面形状に沿って流動する。その後、室温まで冷却することによってPEは固化し、導体と絶縁層との接着が完成する。なお、接着温度の保持時間は適宜設定することができ、接着後の冷却速度はPEの内部応力の発生を抑制するように設定することが好ましい。
このようにして得られたラミネート基板10は、接着剤として硬化反応を伴わない熱可塑性樹脂を用いているため、従来のエポキシ接着剤を用いたものと比較して、接着時間の短縮を図ることができる。それに伴って成形時間の短縮を図ることができる。
とくにPETの融点258℃に比べてPEの融点98℃と、十分な溶融温度の差がある。また、アラミド紙は350℃以上の耐熱性を持っているため問題はない。さらに接着剤としてPEを用いることによって、比較的低温で接着することができる。そのため、加熱時間および冷却時間も短縮できることから、成形時間の短縮が一段と顕著になる。
また、ラミネート基板10の廃却時において、従来はエポキシ樹脂を分解して導体を取り出すことが困難であった。これに対して、本発明では熱可塑性樹脂の接着剤を用いているため、溶融状態の接着層に剥離応力を加えることにより、導体を容易に取り出すことができる。取り出された導体は再生利用できる。
実施の形態2.
この実施の形態は、実施の形態1の変形例として、第一、第二パワー導体2a、2bはアルミニウムからなるものである。第一外絶縁層1a、第二外絶縁層1b及び層間絶縁層1cは実施の形態1と同様にアラミド紙とPETとする。
この実施の形態は、実施の形態1の変形例として、第一、第二パワー導体2a、2bはアルミニウムからなるものである。第一外絶縁層1a、第二外絶縁層1b及び層間絶縁層1cは実施の形態1と同様にアラミド紙とPETとする。
このように構成されたラミネート基板10では、パワー導体としてアルミニウム箔を用いているため、実施の形態1の銅箔を用いた場合と比較して、パワー導体の占める重量は約1/3と軽量化できる。また、アルミニウム導体とPEとの接着性は銅導体との接着性の1.5倍の強度を持つことが分っている。
実施の形態3.
この実施の形態は、実施の形態1あるいは実施の形態2の変形例として、接着層はすべてポリアミド(例えば、東レ社製アラミン(登録商標)、型番1041)からなることとする。このように構成されたラミネート基板10では、実施の形態1あるいは実施の形態2と比較して、接着剤となるポリアミド(PA)の融点が225℃とPEに比べ高温であることから、ラミネート基板全体の更なる耐熱性向上を実現できる。また、アラミド紙とPAとはともにアミド結合を有することから、化学構造の類似性によって接着性が一段と向上する。
この実施の形態は、実施の形態1あるいは実施の形態2の変形例として、接着層はすべてポリアミド(例えば、東レ社製アラミン(登録商標)、型番1041)からなることとする。このように構成されたラミネート基板10では、実施の形態1あるいは実施の形態2と比較して、接着剤となるポリアミド(PA)の融点が225℃とPEに比べ高温であることから、ラミネート基板全体の更なる耐熱性向上を実現できる。また、アラミド紙とPAとはともにアミド結合を有することから、化学構造の類似性によって接着性が一段と向上する。
さらに、それぞれの絶縁層と接着層と間に、ガスバリヤ層を備えてもよい。ガスバリヤ層としては、エチレンビニルアルコール樹脂(EVOH)を用いることができる。このように構成されたラミネート基板10を、例えば人工衛星用のリチウムイオンバッテリの配線に使用した場合、真空雰囲気下における接着層から絶縁層へのガス拡散を防止できる。
実施の形態4.
図5は、本発明が適用されるラミネート基板の実施の形態4を説明するための断面図である。この実施の形態は、実施の形態1〜3において、2つの外絶縁層1a、1bを被覆する2つのシールド層9a、9bを設けたものである。シールド層は例えばPETフィルムとアルミニウム箔と接着剤が順次積層された三層構造からなり、第一シールド層9aの接着剤は第一外絶縁層1aと接着するためのものであり、第二シールド層9bの接着剤は第二外絶縁層1bと接着するためのものである。ここで、2つのシールド層9a、9bの接着剤が第一乃至第四接着層3a〜3dと同じ種類の樹脂であることが好ましい。すなわち、接着層3a〜3dがPEの場合はシールド層9a、9bの接着剤もPE、接着層3a〜3dがPAの場合はシールド層9a、9bの接着剤もPAであれば、接着剤の接着条件が同じであるから、ラミネート基板10の成形において一括成形できる。
図5は、本発明が適用されるラミネート基板の実施の形態4を説明するための断面図である。この実施の形態は、実施の形態1〜3において、2つの外絶縁層1a、1bを被覆する2つのシールド層9a、9bを設けたものである。シールド層は例えばPETフィルムとアルミニウム箔と接着剤が順次積層された三層構造からなり、第一シールド層9aの接着剤は第一外絶縁層1aと接着するためのものであり、第二シールド層9bの接着剤は第二外絶縁層1bと接着するためのものである。ここで、2つのシールド層9a、9bの接着剤が第一乃至第四接着層3a〜3dと同じ種類の樹脂であることが好ましい。すなわち、接着層3a〜3dがPEの場合はシールド層9a、9bの接着剤もPE、接着層3a〜3dがPAの場合はシールド層9a、9bの接着剤もPAであれば、接着剤の接着条件が同じであるから、ラミネート基板10の成形において一括成形できる。
このようにして得られたラミネート基板10は、接着剤として硬化反応を伴わない熱可塑性樹脂を用いているため、従来のエポキシ接着剤を用いたものと比較して、接着時間の短縮を図ることができる。それに伴って成形時間の短縮を図ることができる。また、シールド層にアルミニウムを用いているので、外部からのノイズの影響や熱の影響を防止できEMI(Electro Magnetic Interference:電波障害)対策の一環として採用できる。シールド層のアルミニウムは、アルミニウム箔に限定せず、種々の方法で形成すればよい。シールド層のPETフィルムは、アルミニウムを外因から保護する。
実施の形態5.
図6は、実施の形態5を説明するための電気機器の要部斜視図である。この実施の形態は、実施の形態1〜4のような構成を有するラミネート基板10を電気機器としてのインバータに適用したものである。半導体モジュール20は、スイッチング素子としてのIGBTを搭載したパワーモジュールである。パワーモジュール20が3相用であれば、IGBTはP側、N側に3個ずつ計6個あるものとする。制御基板30は、これらのIGBTの動作を制御するための制御回路を搭載したものである。制御回路と各IGBTとは、制御信号線が形成されたラミネート基板10によって接続されている。
図6は、実施の形態5を説明するための電気機器の要部斜視図である。この実施の形態は、実施の形態1〜4のような構成を有するラミネート基板10を電気機器としてのインバータに適用したものである。半導体モジュール20は、スイッチング素子としてのIGBTを搭載したパワーモジュールである。パワーモジュール20が3相用であれば、IGBTはP側、N側に3個ずつ計6個あるものとする。制御基板30は、これらのIGBTの動作を制御するための制御回路を搭載したものである。制御回路と各IGBTとは、制御信号線が形成されたラミネート基板10によって接続されている。
ところで、IGBTには、スイッチング動作に伴って制御信号線のインダクタンスに起因するサージが印加される。このラミネート基板10の制御信号線は平行平板状の導電層を含んでおり、その導電層間が短いために制御信号線のインダクタンスを低減でき、その結果としてサージ抑制効果がある。なお、このような電気機器では、図示しない電源からパワーモジュール20へ給電するための給電回路を搭載しており、この給電回路とパワーモジュール20とをラミネート基板10で接続することもできる。この場合も同様に、給電配線のインダクタンスを低減できる。またシールド層にアルミニウムを形成しているので、外部からのノイズの影響や熱の影響を防止できる。
1a 第一外絶縁層、1b 第二外絶縁層、1c 層間絶縁層、2a 第一パワー導体、2b 第二パワー導体、3a 第一接着層、3b 第二接着層、3c 第三接着層、3d 第四接着層、4a 第一電極、4b 第二電極、9a 第一シールド層、9b 第二シールド層、10 ラミネート基板、20 半導体モジュール、30 制御基板。
Claims (6)
- 平行平板状の導電層を形成する複数の導体と、これらの導体間に配置されシート状の熱可塑性樹脂からなる層間絶縁層と、これらの導体を被覆しシート状の熱可塑性樹脂からなる2つの外絶縁層と、それぞれの導体に接続された電極と、隣接する導体と絶縁層との間ならびに隣接する絶縁層同士の間に介在し絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂からなる接着層とを備え、絶縁層はアラミド紙とポリエチレンテレフタレートからなることを特徴とするラミネート基板。
- 接着層はポリエチレンからなり、導体はアルミニウムからなることを特徴とする請求項1記載のラミネート基板。
- 接着層はポリアミドからなることを特徴とする請求項1記載のラミネート基板。
- 接着層はポリアミドからなり、導体はアルミニウムからなることを特徴とする請求項1記載のラミネート基板。
- 2つの外絶縁層を被覆するシールド層を有することを特徴とする請求項1記載のラミネート基板。
- 複数のスイッチング素子を搭載した半導体モジュールと、これらのスイッチング素子の動作を制御するための制御回路と、電源から半導体モジュールへ給電するための給電回路と、制御回路または給電回路と半導体モジュールとを接続するラミネート基板を有し、
ラミネート基板は、平行平板状の導電層を形成する複数の導体と、これらの導体間に配置されシート状の熱可塑性樹脂からなる層間絶縁層と、これらの導体を被覆しシート状の熱可塑性樹脂からなる2つの外絶縁層と、それぞれの導体に接続された電極と、隣接する導体と絶縁層との間ならびに隣接する絶縁層同士の間に介在し絶縁層よりも低温で溶融する熱可塑性樹脂からなる接着層とを備え、絶縁層はアラミド紙とポリエチレンテレフタレートからなり、かつ、平行平板状の導電層よりも半導体モジュール側部分において屈曲していることを特徴とする電気機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004186925A JP2006013076A (ja) | 2004-06-24 | 2004-06-24 | ラミネート基板及びそれを用いた電気機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004186925A JP2006013076A (ja) | 2004-06-24 | 2004-06-24 | ラミネート基板及びそれを用いた電気機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006013076A true JP2006013076A (ja) | 2006-01-12 |
Family
ID=35779954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004186925A Pending JP2006013076A (ja) | 2004-06-24 | 2004-06-24 | ラミネート基板及びそれを用いた電気機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006013076A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112011102032T5 (de) | 2010-06-15 | 2013-04-04 | Uchiyama Manufacturing Corp. | Ringförmige elastische Dichtung |
WO2020122071A1 (ja) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | タツタ電線株式会社 | シールドプリント配線板の製造方法及びシールドプリント配線板 |
-
2004
- 2004-06-24 JP JP2004186925A patent/JP2006013076A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112011102032T5 (de) | 2010-06-15 | 2013-04-04 | Uchiyama Manufacturing Corp. | Ringförmige elastische Dichtung |
WO2020122071A1 (ja) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | タツタ電線株式会社 | シールドプリント配線板の製造方法及びシールドプリント配線板 |
JPWO2020122071A1 (ja) * | 2018-12-11 | 2021-10-21 | タツタ電線株式会社 | シールドプリント配線板の製造方法及びシールドプリント配線板 |
JP7247219B2 (ja) | 2018-12-11 | 2023-03-28 | タツタ電線株式会社 | シールドプリント配線板の製造方法及びシールドプリント配線板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103188882B (zh) | 一种电路板及其制作方法 | |
JP2006332449A (ja) | 多層プリント配線板及びその製造方法 | |
JP2010218797A (ja) | 金属部材内蔵基板とその基板を用いた電池パック,車両および機器 | |
CN109429441A (zh) | 软硬结合板及其制作方法 | |
CN112738974A (zh) | 电池保护板及其制作方法、移动终端 | |
JP2014072279A (ja) | 部品内蔵配線基板の製造方法 | |
JP5672091B2 (ja) | 多層基板 | |
KR20180090941A (ko) | 가고정형 접착소재를 이용한 연성 회로기판의 제조 방법 | |
JP2010147442A (ja) | フレキシブルプリント配線板、フレキシブルプリント配線板の製造方法、及びフレキシブルプリント回路板 | |
JP5091021B2 (ja) | 複合多層基板およびそれを用いたモジュール | |
JP4618211B2 (ja) | モールド成形体の製造方法 | |
JP2006013076A (ja) | ラミネート基板及びそれを用いた電気機器 | |
JP4349270B2 (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP2005032465A (ja) | ラミネート基板及びそれを用いた電機機器 | |
US9443830B1 (en) | Printed circuits with embedded semiconductor dies | |
JP2020009792A (ja) | 封止用フィルムセットおよび電子部品搭載基板の封止方法 | |
JP2003249742A (ja) | 大電流回路基板の製造法 | |
JP2011165843A (ja) | 積層用クッション材 | |
JP5585035B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JP2006179682A (ja) | ラミネート基板の成形方法 | |
JP3954831B2 (ja) | 耐熱性フレキシブル積層板の製造方法 | |
JPH10144738A (ja) | 半導体装置用接着シート | |
KR20180025345A (ko) | 리지드 플렉시블 회로기판 제조방법 | |
KR100797693B1 (ko) | 칩 내장형 인쇄회로기판의 제조방법 | |
JP2017011248A (ja) | パワーデバイスモジュール基板とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080916 |