JP2006003561A - 貼り合わせ基板 - Google Patents

Abstract

【課題】 基板の分断が正しく行われたか否かの判定を安定して行う。
【解決手段】 一対の基板が貼り合わせられた貼り合わせ基板１を、スクライブラインに沿って分断することにより１または２以上のセルが形成される。前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は設定ライン４ａを平面視において挟んで形成された少なくとも２つのマーク６ａ，６ｄを有する。設定ライン４ａが延びる方向に対して略直交する方向における前記少なくとも２つのマーク６ａ，６ｄ間の距離ｄ１は前記スクライブラインの許容ずれ量と略等しい。
【選択図】 図６

Description

本発明は、一対の基板が貼り合わせられ、スクライブラインに沿って分断することにより１または２以上のセルを形成するための貼り合わせ基板に関する。

一般的に、液晶表示装置は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）などの回路が形成された回路基板とカラーフィルター（ＣＦ）が形成されたＣＦ基板との間にスペーサを介在させ、シール材で接着して重ね合せ、その間に液晶材料を封入して形成される。また、製造効率を上げるために、重ね合せた２枚の大きな基板から複数枚の液晶セルを多面取りすることが多く、液晶セルの分断位置にスクライブラインを施し、スクライブラインで基板を分断している（特許文献１，２を参照）。

近年のノートパソコンに要求される小型本体への大画面搭載化によって、液晶表示装置の不要なスペースは徹底的に取り除かれる。またセル分割は高い精度が要求され、100 μｍレベルの精度で貼り合わせ基板を分断することが求められている。

現在の分断方法として一般的な方法は次の通りである。まず、ピンアライメントで基板の位置決め（0.5 〜0.6 ｍｍ）をおおよそ行ったあと、基板上に予めパターニングされたアライメントマークをカメラで読み取って画像認識したうえで微調整をして、最終的に100 μｍ以下の精度で基板位置を合わせる。次に、決められた寸法線通りのスクライブラインをカッターで基板の片面のみに入れたあと、基板を反転させて、もう一方の面に対して前述の作業（アライメント＆スクライブ）を繰り返す。両面を分断できたら、不要な基板から分離して１または２以上のセルに分割する。

近年、基板の大型化に伴って、手作業で基板を取り扱うことが困難になってきており、前述したアライメント＆スクライブ、基板反転および基板搬送は、すべて自動化されてインラインで行われる。したがって、作業者はラインの出口から排出される分断後の表示セルを分割（取り分け）するだけでよい。

多種多様なサイズの基板に対応するために、スクライブマシンには各サイズ情報が予めインプットされており、基板の情報に対応したプログラムを読み出し、設定に基づいてスクライブラインを入れるシステムが採用されている。その際、プログラムの登録ミスは勿論のこと、振動等による基準カメラの位置ズレ、アライメントマークの汚れや欠損による読み取り誤差が発生すると、スクライブラインのズレが生じてしまう。
特開平11-14282号公報 特開2002-303842 号公報

表示セルの分断はスクライブラインに沿って基板をブレークすることによって行われるので、スクライブラインのずれが許容限界量を越えると分断不良になる。基板の分断が正しく行われたか否か、言い換えればスクライブラインのずれ量が許容限界量以下であるか否かは、作業者の目視により判定される。しかしながら、目視による判定では、一人の作業者が行う場合でも常に安定した判定が得られるとは限らない。まして異なる作業者が判定を行う場合には、個人差によるばらつきが大きく、安定した判定を行うことは困難である。安定した判定を得るためには、分断後にセルサイズを計測すれば良い。しかし、複数のセルのそれぞれを計測することは作業工程数を増加させ、製造効率を低下させることにつながる。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、基板の分断が正しく行われたか否かの判定を安定して行うことを目的とする。

本発明の第１の局面による貼り合わせ基板は、一対の基板が貼り合わせられ、スクライブラインに沿って分断することにより１または２以上のセルを形成するための貼り合わせ基板であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は設定ラインを平面視において挟んで形成された少なくとも２つのマークを有しており、前記設定ラインが延びる方向に対して略直交する方向における前記少なくとも２つのマーク間の距離は前記スクライブラインの許容ずれ量と略等しい。

許容ずれ量を超えてスクライブラインがずれたときには、少なくとも２つのマークのうちのいずれかのマークがスクライブラインに沿って分断される。これにより、分断不良を容易に検知することができ、さらにフィードバックをすることで次の基板に分断不良が発生するのを防止できる。

なお、「スクライブライン」とは、所定の走査方向に基板をスクライブした際に、基板の厚み方向に発生するクラック（垂直クラック）が基板面の走査方向に表れる切り筋をいう。また「設定ライン」とは、貼り合わせ基板ごとにあらかじめ設定された仮想的なスクライブラインであり、最も理想的なスクライブラインを言う。貼り合わせられる一対の基板の材料は特に限定されない。例えば、ガラス基板、樹脂基板、シリコン基板、セラミック基板などが挙げられる。本発明の貼り合わせ基板は、切断により複数のセルを形成する場合だけでなく、基板端材を除去して１枚のセルを形成する場合にも適用できる。

前記一対の基板のうち一方の基板がカラーフィルタを有しており、前記少なくとも２つのマークのうち少なくとも１つのマークが前記カラーフィルタの材料と同じ材料から形成されていても良い。また前記一対の基板のうち一方の基板が回路を有しており、前記少なくとも２つのマークのうち少なくとも１つのマークが前記回路を構成する材料と同じ材料から形成されていても良い。

マークは視覚によって認識しやすい材料を用いて形成されるのが好ましい。一方、マークを形成するためだけの特別な工程を行うことは製造工程数が増加して不経済である。したがって、マザー基板に含まれる複数のセル領域に対して行われるパターニング処理のときに、マークを同時にパターニングすることが望ましい。例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＭＩＭ（Metal Insulator Metal ）などの回路を構成する材料と同じ材料（例えばＴａ（タンタル）、Ｃｒ（クロム）などの金属）によってマークを形成しても良く、セル領域内にカラーフィルタが形成される場合にはそのカラーフィルタと同じ材料によってマークを形成しても良い。

前記少なくとも２つのマークが透過光により読み取られるものであっても良い。例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透明電極材料やポリイミドなどの配向膜材料からマークが形成されていても良い。あるいは前記少なくとも２つのマークが反射光により読み取られるものであっても良い。例えば、アルミニウムなどの反射電極材料からマークが形成されていても良い。

前記セルが四角形状であり、前記少なくとも２つのマークが前記セルの四隅のうち少なくとも１つの隅近傍に形成されていても良い。また、前記少なくとも２つのマークは、前記セルの四隅のうち前記一方の基板の端縁に近接する隅に形成されていることが好ましい。基板の一方端部からこれに対向する端部までスクライブラインを入れたときに、スクライブラインが斜め方向に僅かにずれることがある。基板の一方端部からこれに対向する端部までの距離がそれほど長くないとき、すなわち小型基板のときは、許容範囲内のずれとなることがある。しかし、開発が近年著しい大型液晶パネルの場合、スクライブラインを入れた前半部分では許容範囲内のずれとなっても、スクライブラインを入れた後半部分では許容範囲を超えてずれることがある。少なくとも２つのマークが基板の端縁に近接する側のセルの隅に形成されることにより、スクライブラインが斜め方向に僅かにずれた場合でも、分断不良を容易に検知することができる。

２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記少なくとも２つのマークのうち１つのマークが前記第１領域に存在していても良い。分断後のセルに形成されたマークを観察することにより、分断不良を容易に検知することができる。

前記少なくとも２つのマークが２つのマークであるとき、前記２つのマークのうち一方のマークが前記第１領域に存在し、他方のマークが前記第３領域に存在していても良い。また前記少なくとも２つのマークが３つのマークであるとき、前記３つのマークは前記第１、第２および第４の各領域に存在していても良い。さらに前記少なくとも２つのマークが４つのマークであるとき、前記４つのマークは前記第１、第２、第３および第４の各領域に存在していても良い。

２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記少なくとも２つのマークが前記第１領域に存在しなくても良い。分断後のセルにマークがなくなることによって、所定の精度で分断されたことを確認することができる。

前記少なくとも２つのマークが２つのマークであるとき、前記２つのマークのうち一方のマークが前記第２領域に存在し、他方のマークが前記第４領域に存在していても良い。また前記少なくとも２つのマークが３つのマークであるとき、前記３つのマークは前記第２、第３および第４の各領域に存在していても良い。

本発明の第２の局面による貼り合わせ基板は、一対の基板が貼り合わせられ、スクライブラインに沿って分断することにより１または２以上のセルを形成するための貼り合わせ基板であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は設定ラインと交差して形成された目盛り付きパターンを有する。分断後に目盛り付きパターンの目盛りを読み取ることにより、所定の精度で分断されたか否かを容易に確認することができる。

前記セルが四角形状であり、前記目盛り付きパターンが前記セルの四隅のうち少なくとも１つの隅近傍に形成されていても良い。また、前記目盛り付きパターンは、前記セルの四隅のうち前記一方の基板の端縁に近接する隅に形成されていることが好ましい。大型基板の場合、スクライブラインを入れた前半部分では許容範囲内のずれとなっても、スクライブラインを入れた後半部分では許容範囲を越えてずれることがある。目盛り付きパターンが基板の端縁に近接する側のセルの隅に形成されることにより、スクライブラインが斜め方向に僅かにずれた場合でも、分断不良を容易に検知することができる。

２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記目盛り付きパターンが前記第１領域に存在しなくても良い。このとき、前記目盛り付きパターンが前記第２、第３および第４の各領域に存在することが好ましい。これにより、交差する２本のスクライブラインのずれ量を容易に検知することができる。

２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記目盛り付きパターンが前記第１領域に存在していても良い。セルに存在するマークの目盛りを読み取ることにより、分断不良を容易に検知することができる。

前記目盛り付きパターンが前記第１、第２および第４の各領域に存在することが好ましい。これにより、交差する２本のスクライブラインのずれ量を容易に検知することができる。

前記目盛り付きパターンが前記設定ラインからの距離を示す数字を有することが好ましい。分断後に数値を読み取ることによって、スクライブラインのずれ量を容易に検知することができる。

本発明は液晶表示装置の製造方法をも提供する。本発明の製造方法は、本発明の第１または第２の局面による貼り合わせ基板を用いて液晶表示装置を製造する方法であって、前記貼り合わせ基板の両面に前記スクライブラインを入れる工程と、前記スクライブラインに沿って前記貼り合わせ基板を分断して、前記１または２以上のセルを形成する工程とを有する。また前記セルに液晶材料を注入する工程をさらに有していても良い。

本発明によれば、基板の分断が正しく行われたか否かの判定を安定して行うことができる。言い換えれば、基板に形成された複数のセルを分割処理した際に、必要な精度にて分割されたか否かを容易に確認することができる。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、貼り合わせ基板から液晶表示装置を製造する場合について説明するが、本発明の貼り合わせ基板は、他の液晶セルにも適用することができる。例えば、画素を光学的に順次シフトさせる画像シフトセルや三次元映像を表示可能とするパララックスバリアセルなどに適用することもできる。また本発明の貼り合わせ基板は、一対の基板間に液晶材料が封入された液晶セルに限らず、無機または有機エレクトロルミネッセント素子、プラズマディスプレイパネル、エレクトロクロミック表示素子、電気泳動表示素子などにも適用することができる。

以下、同族的な構成要素を総括的に表すために、参照符号の英字を省略して、参照符号の数字のみを表記することがある。例えば、セル領域２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄを総括的にセル領域２と表記することがある。

（実施形態１）
まず、複数の液晶セル領域を有する貼り合わせ基板（以下、マザー基板ともいう。）の製造工程と、マザー基板から複数の液晶セルを分断する工程とについて説明する。一方の基板のセル領域ごとに、マトリクス状に配列された複数のＴＦＴと、互いに交差する複数のソース配線およびゲート配線と、ＴＦＴに接続された画素電極とを形成し、さらに配向膜を設けて、ラビング処理を行う。この基板を以下ではＴＦＴ基板と呼ぶ。他方の基板のセル領域ごとに、共通電極と、カラーフィルタ層と、配向膜とを設けて、ラビング処理を行う。この基板を以下ではＣＦ基板と呼ぶ。

各セル領域の周縁部分にシール材をスクリーン印刷法によって環状に形成する。シール材の一部分は開口となっており、この開口が液晶材料の注入口となる。いずれか一方の基板に形成された電極面上にビーズ状のスペーサを分散し、両基板のそれぞれの電極面が対向するように両基板を互いに重ねて貼り合わせることにより、貼り合わせ基板が製造される。

図１は貼り合わせ基板１を模式的に示す平面図である。図１に示す貼り合わせ基板１は４つのセル領域２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄを有する。また貼り合わせ基板１には、分断を精度よく行うために、アライメントマーク３が予め設けられている。この貼り合わせ基板１を４つの液晶セルに分割するための分断工程について説明する。

図２は分断工程を示す工程図である。まず貼り合わせ基板１の大まかな位置合わせを行うために、ピンアライメントを行う。そのうえで貼り合わせ基板１に形成されたアライメントマーク３を画像処理手段によりさらに正確に認識して、自動分断装置のステージ駆動回路へフィードバックを行う。自動分断装置のステージを駆動させることにより、貼り合わせ基板１の位置補正を行った後に、ＴＦＴ基板に対してスクライブを行う。

スクライブライン４１，４２の位置はセル領域２の寸法に応じて異なり、自動分断装置にはセル領域２の寸法に応じて定められたスクライブライン４１，４２の位置が予め登録されている。図３は貼り合わせ基板１に対するスクライブライン４１，４２の位置を示す平面図である。図３では、列方向および行方向（列方向に対して略直交する方向）にそれぞれ４本のスクライブライン４１，４２が貼り合わせ基板１に入れられ、各セル領域２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄがスクライブライン４１，４２により包囲されている。

次に、ＣＦ基板表面をスクライブするために貼り合わせ基板１を反転させ、ＴＦＴ基板と同様にして、ＣＦ基板の表面にスクライブラインを挿入する。その後、作業者の手作業によって、貼り合わせ基板１を４つの液晶セルに分割する。図４はスクライブライン４１，４２に沿って貼り合わせ基板１を分断した状態を模式的に示す平面図である。図４では、貼り合わせ基板１を分断することにより、４つの液晶セル５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄが形成されるとともに、不要な基板端材１ｂが発生している。

分割された各液晶セル５の注入口から液晶材料を注入し、注入口を封止する。液晶セルに偏光板や位相差板を貼り合わせ、さらに各種のドライバ回路を接続することにより、液晶表示装置が製造される。

なお、上記の製造方法では分断後の液晶セル内に液晶材料を注入しているが、本発明はこの方法に限定されない。例えば、一方の基板上に開口のないシール材を形成し、シール材の枠内に液晶材料を滴下した後に一対の基板を貼り合わせることにより、１または２以上の液晶セル（液晶パネル）を有する貼り合わせ基板を形成しても良い。

図５は実施形態１の貼り合わせ基板１を模式的に示す平面図である。本実施形態の貼り合わせ基板１は、行方向に延びる設定ライン４ａと列方向に延びる設定ライン４ｂとの交点を中心とする領域（言い換えれば四角形状のセル領域２の隅近傍）であって、一方の基板の端縁に近接する領域に、それぞれ４つのマーク６を有する。

図６は図５に示す貼り合わせ基板１の右下部分の拡大図である。列方向に延びる設定ライン４ａと行方向に延びる設定ライン４ｂとが交差することにより、貼り合わせ基板１の右下部分が４つの領域に分割される。これら４つの領域のうちセル領域２ｄが存在する領域を第１領域とし、２本の設定ライン４ａ，４ｂの交点５を中心として第１領域２ｄから周方向に順次第２領域１１、第３領域１２および第４領域１３とする。本実施形態では、４つの領域２ｄ，１１，１２，１３それぞれにマーク６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが形成されている。図６に示すマーク６は矩形状であり、長手方向（列方向）の長さが１００μｍ、短手方向（行方向）の長さが５０μｍである。

行方向に隣接する２つのマーク６ａ，６ｄまたは６ｂ，６ｃは、列方向に延びる設定ライン４ａを平面視において挟み、設定ライン４ａが延びる方向に対して略直交する直線上に配置されている。また２つのマーク６ａ，６ｄまたは６ｂ，６ｃは、設定ライン４ａからの距離（設定ライン４ａが延びる方向に対して略直交する方向の距離）が略等しくなるように形成されている。同様に、列方向に隣接する２つのマーク６ａ，６ｂまたは６ｄ，６ｃは、行方向に延びる設定ライン４ｂを平面視において挟み、設定ライン４ｂが延びる方向に対して略直交する直線上に配置されている。また、２つのマーク６ａ，６ｂまたは６ｄ，６ｃは、設定ライン４ｂからの距離（設定ライン４ｂが延びる方向に対して略直交する方向の距離）が略等しくなるように形成されている。行方向に隣接する２つのマーク間の距離ｄ１と列方向に隣接する２つのマーク間の距離ｄ２は、スクライブラインの許容ずれ量と略等しい。例えば距離ｄ１，ｄ２は０．１mm以上０．４mm以下である。

次に、本実施形態の貼り合わせ基板１を用いて分断処理を行った場合について説明する。貼り合わせ基板１のスクライブが図６に示す設定ライン４を基準とする許容ずれ量の範囲内で行われたとき、４つのマーク６の間隙にスクライブラインが入るので、分断後の液晶セルや基板端材には他のマークが存在しない。図７は設定ライン４にて分断した状態を示す図である。図７に示すように、スクライブライン４１，４２が設定ライン４ａ，４ｂ上を通り、スクライブライン４１，４２に沿って貼り合わせ基板１を分断した場合、分断後の液晶セル５ｄや基板端材１ｂには他の領域のマーク６が存在しない。

一方、貼り合わせ基板１のスクライブが図６に示す設定ライン４を基準とする許容ずれ量の範囲を超えて行われたとき、４つのマーク６の間隙にスクライブラインが入らず、マーク６が分割されることになる。図８は行方向のスクライブライン４２がずれた状態を示す図であり、図９は分断後の状態を示す図である。図８に示すように、スクライブライン４２が設定ライン４ｂからの許容ずれ量を越えると、第１領域２ｄに存在するマーク６ａおよび第４領域１３に存在するマーク６ｄをスクライブライン４２が横切ることになる。図８に示すスクライブライン４１，４２に沿って分断を行うと、液晶セル５ｄおよびマーク６ａ，６ｄが分断される。したかって、基板端材１ｂ１に液晶セル５ｄの一部５ｄ１およびマーク６ａの一部６ａ１が存在することになり、基板端材１ｂ２にマーク６ｄの一部６ｄ１が存在することになる。

したがって、分断後の液晶セル５ｄや基板端材１ｂ１，１ｂ２，１ｂ３を観察することにより、正常な分断が行われたか否かを一目で判定することができる。さらに、分断不良を検知した場合には、フィードバックをすることで次の基板に分断不良が再発するのを防止できる。

マーク６は、ＣＦ基板のセル領域２内にカラーフィルタを形成する工程にて形成しても良く、あるいはＴＦＴ基板のセル領域２内にＴＦＴやＭＩＭなどの回路を形成する工程にて形成しても良い。言い換えれば、マーク６をカラーフィルタと同じ材料によって、または回路を構成する材料と同じ材料（例えばＴａ、Ｃｒなどの金属）によって形成することができる。

また、マーク６とその周りの領域との間に透過率の差を生じさせて、マーク６が透過光により読み取られるようにしても良い。例えば、マーク６がＩＴＯなどの透明電極材料、ポリイミドなどの配向膜材料などから形成され、マーク６の周りの領域にマーク６よりも透過率の低い膜が形成されていてもよい。図１０はマーク６が透過光により読み取られる貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。図１０に示すマーク６はポリイミドなどの透明樹脂から形成され、マーク６の周りの領域にはブラックマスク７が形成されている。反対に、マーク６の周りの領域がマーク６よりも透過率が高くなるようにしても良い。なお、透過率のより高い領域には、膜が全く形成されていなくても良い。

さらに、マーク６とその周りの領域との間に反射率の差を生じさせて、マーク６が反射光により読み取られるようにしても良い。例えば、マーク６がアルミニウムなどの反射電極材料から形成され、マーク６の周りの領域にマーク６よりも反射率の低い膜（例えば透明樹脂膜）が形成されていてもよい。反対に、マーク６の周りの領域がマーク６よりも反射率が高くなるようにしても良い。なお、反射率のより低い領域には、膜が全く形成されていなくても良い。

本実施形態では、図５に示すように、各設定ライン４の貼り合わせ基板１上における両端縁近傍であって、セル領域２の隅にマーク６が形成されている。これにより、スクライブラインが傾斜して入れられた場合でも、分断不良を容易に検知することができる。

（実施形態２）
実施形態１では、列方向の設定ライン４ａと行方向の設定ライン４ｂとの交点５を中心として４つのマーク６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが形成されているが、本発明においてマーク６の数は４つに限定されない。図１１は交点５を中心として３つのマーク６ａ，６ｂ，６ｄが形成されている貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。

本実施形態の貼り合わせ基板では、第１領域２ｄ、第２領域１１および第４領域１３にそれぞれマーク６ａ，６ｂ，６ｄが形成されている。行方向に隣接する２つのマーク６ａ，６ｄは、列方向に延びる設定ライン４ａを平面視において挟み、設定ライン４ａが延びる方向に対して略直交する直線上に配置されている。同様に、列方向に隣接する２つのマーク６ａ，６ｂは、行方向に延びる設定ライン４ｂを平面視において挟み、設定ライン４ｂが延びる方向に対して略直交する直線上に配置されている。

行方向に隣接する２つのマーク６ａ，６ｄ間の距離ｄ１は、列方向に入れるスクライブラインの許容ずれ量と略等しい。同様に、列方向に隣接する２つのマーク６ａ，６ｂ間の距離ｄ２は、行方向に入れるスクライブラインの許容ずれ量と略等しい。例えば距離ｄ１，ｄ２は０．１mm以上０．４mm以下である。

図１１に示す貼り合わせ基板では、セル領域（第１領域）２ｄにマーク６ａが形成されているが、マーク６が第１領域２ｄに存在していなくても良い。図１２はマーク６が第１領域２ｄに存在してない貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。図１２に示す貼り合わせ基板では、セル領域２ｄ以外の３つの領域１１，１２，１３に３つのマーク６ｂ，６ｃ，６ｄがそれぞれ形成されている。

行方向に隣接する２つのマーク６ｂ，６ｃは、列方向に延びる設定ライン４ａを平面視において挟み、設定ライン４ａが延びる方向に対して略直交する直線上に配置されている。同様に、列方向に隣接する２つのマーク６ｃ，６ｄは、行方向に延びる設定ライン４ｂを平面視において挟み、設定ライン４ｂが延びる方向に対して略直交する直線上に配置されている。

行方向に隣接する２つのマーク６ｂ，６ｃ間の距離ｄ１と列方向に隣接する２つのマーク６す，６ｄ間の距離ｄ２は、スクライブラインの許容ずれ量と略等しく、例えば距離ｄ１，ｄ２は０．１mm以上０．４mm以下である。

図１２に示す貼り合わせ基板では、セル領域（第１領域）２ｄにマーク６が形成されていないので、分断後のセルにマーク６が存在しないことを確認することによって、所定の精度で分断されたと判定することができる。反対に、分断後のセルにマーク６ｂ，６ｃ，６ｄの一部が存在している場合には、分断不良であると判定することができる。

（実施形態３）
本実施形態では、列方向の設定ライン４ａと行方向の設定ライン４ｂとの交点５を中心として２つのマーク６が形成された貼り合わせ基板について説明する。図１３は交点５を中心として２つのマーク６ａ，６ｃが形成されている貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。

本実施形態の貼り合わせ基板では、第１領域２ｄおよび第３領域１２にそれぞれマーク６ａ，６ｃが形成されている。２つのマーク６ａ，６ｃは、列方向に延びる設定ライン４ａを平面視において挟み、かつ行方向に延びる設定ライン４ｂを平面視において挟む。２つのマーク６ａ，６ｃ間の行方向における距離ｄ１（設定ライン４ａが延びる方向に対して略直交する方向の距離）および列方向における距離ｄ２（設定ライン４ｂが延びる方向に対して略直交する方向の距離）は、スクライブラインの許容ずれ量と略等しく、例えば距離ｄ１，ｄ２は０．１mm以上０．４mm以下である。

図１３に示す貼り合わせ基板では、セル領域（第１領域）２ｄにマーク６ａが形成されているが、マーク６が第１領域２ｄに存在していなくても良い。図１４はマーク６が第１領域２ｄに存在してない貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。図１４に示す貼り合わせ基板では、第２領域１１および第４領域１３にそれぞれマーク６ｂ，６ｄが形成されている。２つのマーク６ｂ，６ｄは、列方向に延びる設定ライン４ａを平面視において挟み、かつ行方向に延びる設定ライン４ｂを平面視において挟む。２つのマーク６ｂ，６ｄ間の行方向における距離ｄ１（設定ライン４ａが延びる方向に対して略直交する方向の距離）および列方向における距離ｄ２（設定ライン４ｂが延びる方向に対して略直交する方向の距離）は、スクライブラインの許容ずれ量と略等しく、例えば距離ｄ１，ｄ２は０．１mm以上０．４mm以下である。

図１４に示す貼り合わせ基板では、セル領域（第１領域）２ｄにマーク６が形成されていないので、分断後のセルにマーク６が存在しないことを確認することによって、所定の精度で分断されたと判定することができる。反対に、分断後のセルにマーク６ｂ，６ｄの一部が存在している場合には、分断不良であると判定することができる。

（実施形態４）
図１５は実施形態４の貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。図１５には示されていないが、本実施形態の貼り合わせ基板は、行方向に延びる設定ライン４ａと列方向に延びる設定ライン４ｂとの交点５を中心とする領域（言い換えれば四角形状のセル領域２の隅近傍）であって、一方の基板の端縁に近接する領域に、設定ライン４と交差して形成された目盛り付きパターン８を有する。

より具体的には、本実施形態の貼り合わせ基板は、列方向の設定ライン４ａに対して略直交する方向（言い換えれば行方向）に延び、設定ライン４ａと交差する行方向目盛り付きパターン８ａと、行方向の設定ライン４ｂに対して略直交する方向（言い換えれば列方向）に延び、設定ライン４ｂと交差する列方向目盛り付きパターン８ｂとを有する。行方向目盛り付きパターン８ａは第１領域２ａおよび第４領域１３に存在し、列方向に入れられたスクライブラインの行方向のずれ量を測定するための目盛りを有する。同様に、列方向目盛り付きパターン８ｂは第１領域２ａおよび第２領域１１に存在し、行方向に入れられたスクライブラインの列方向のずれ量を測定するための目盛りを有する。

本実施形態の貼り合わせ基板によれば、目盛り付きパターン８の目盛りを読み取ることにより、交差する２本のスクライブラインのずれ量を検知することができ、所定の精度で分断されたか否かを容易に確認することができる。また目盛り付きパターン８は設定ライン４からの距離を示す数字を有するので、分断後に数値を読み取ることによって、スクライブラインのずれ量を容易に検知することができる。

図１５に示す貼り合わせ基板では、セル領域（第１領域）２ｄに目盛り付きパターン８が形成されているが、パターン８が第１領域２ｄに存在していなくても良い。図１６はパターン８が第１領域２ｄに存在してない貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。図１６に示す貼り合わせ基板は、図１５に示す貼り合わせ基板と同様に、行方向目盛り付きパターン８ａと列方向目盛り付きパターン８ｂとを有する。但し、行方向目盛り付きパターン８ａが第２領域１１および第３領域１２に存在し、列方向目盛り付きパターン８ｂが第３領域１２および第４領域１３に存在する。

以上、実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態は例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せに、さらにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。例えば、上記実施形態ではＴＦＴ方式の液晶表示装置について説明したが、ＴＦＴ方式以外のアクティブマトリクス方式の液晶表示装置、例えばＭＩＭ方式の液晶表示装置に対して適用することもできるし、あるいは単純マトリクス方式の液晶表示装置に対して適用することもできる。

本発明の貼り合わせ基板は、液晶表示素子、無機または有機エレクトロルミネッセント素子、プラズマディスプレイパネル、エレクトロクロミック表示素子、電気泳動表示素子などに利用することができる。

貼り合わせ基板１を模式的に示す平面図である。 分断工程を示す工程図である。 貼り合わせ基板１に対するスクライブライン４１，４２の位置を示す平面図である。 スクライブライン４１，４２に沿って貼り合わせ基板１を分断した状態を模式的に示す平面図である。 実施形態１の貼り合わせ基板１を模式的に示す平面図である。 図５に示す貼り合わせ基板１の右下部分の拡大図である。 設定ライン４にて分断した状態を示す図である。 行方向のスクライブライン４２がずれた状態を示す図である。 分断後の状態を示す図である。 マーク６が透過光により読み取られる貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。 交点５を中心として３つのマーク６ａ，６ｂ，６ｄが形成されている実施形態２の貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。 マーク６が第１領域２ｄに存在してない実施形態２の貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。 交点５を中心として２つのマーク６ａ，６ｃが形成されている実施形態３の貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。 マーク６が第１領域２ｄに存在してない実施形態３の貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。 実施形態４の貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。 パターン８が第１領域２ｄに存在してない実施形態４の貼り合わせ基板を部分的に示す平面図である。

符号の説明

１ 貼り合わせ基板
１ｂ 基板端材
２ セル領域
２ｄ 第１領域
３ アライメントマーク
４ａ 行方向の設定ライン
４ｂ 列方向の設定ライン
５ 液晶セル
６ マーク
７ ブラックマスク
８ 目盛り付きパターン
９ 交点
１１ 第２領域
１２ 第３領域
１３ 第４領域
４１ 列方向のスクライブライン
４２ 行方向のスクライブライン

Claims (24)

1. 一対の基板が貼り合わせられ、スクライブラインに沿って分断することにより１または２以上のセルを形成するための貼り合わせ基板であって、
   前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は設定ラインを平面視において挟んで形成された少なくとも２つのマークを有しており、
   前記設定ラインが延びる方向に対して略直交する方向における前記少なくとも２つのマーク間の距離は前記スクライブラインの許容ずれ量と略等しい貼り合わせ基板。
2. 前記一対の基板のうち一方の基板がカラーフィルタを有しており、前記少なくとも２つのマークのうち少なくとも１つのマークが前記カラーフィルタの材料と同じ材料から形成されている請求項１に記載の貼り合わせ基板。
3. 前記一対の基板のうち一方の基板が回路を有しており、前記少なくとも２つのマークのうち少なくとも１つのマークが前記回路を構成する材料と同じ材料から形成されている請求項１に記載の貼り合わせ基板。
4. 前記少なくとも２つのマークが透過光により読み取られる請求項１に記載の貼り合わせ基板。
5. 前記少なくとも２つのマークが反射光により読み取られる請求項１に記載の貼り合わせ基板。
6. 前記セルが四角形状であり、前記少なくとも２つのマークが前記セルの四隅のうち少なくとも１つの隅近傍に形成されている請求項１に記載の貼り合わせ基板。
7. 前記少なくとも２つのマークは、前記セルの四隅のうち前記一方の基板の端縁に近接する隅に形成されている請求項６に記載の貼り合わせ基板。
8. ２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記少なくとも２つのマークのうち１つのマークが前記第１領域に存在する請求項１に記載の貼り合わせ基板。
9. 前記少なくとも２つのマークが２つのマークであるとき、前記２つのマークのうち一方のマークが前記第１領域に存在し、他方のマークが前記第３領域に存在する請求項８に記載の貼り合わせ基板。
10. 前記少なくとも２つのマークが３つのマークであるとき、前記３つのマークは前記第１、第２および第４の各領域に存在する請求項８に記載の貼り合わせ基板。
11. 前記少なくとも２つのマークが４つのマークであるとき、前記４つのマークは前記第１、第２、第３および第４の各領域に存在する請求項８に記載の貼り合わせ基板。
12. ２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記少なくとも２つのマークが前記第１領域に存在しない請求項１に記載の貼り合わせ基板。
13. 前記少なくとも２つのマークが２つのマークであるとき、前記２つのマークのうち一方のマークが前記第２領域に存在し、他方のマークが前記第４領域に存在する請求項１２に記載の貼り合わせ基板。
14. 前記少なくとも２つのマークが３つのマークであるとき、前記３つのマークは前記第２、第３および第４の各領域に存在する請求項１２に記載の貼り合わせ基板。
15. 一対の基板が貼り合わせられ、スクライブラインに沿って分断することにより１または２以上のセルを形成するための貼り合わせ基板であって、
    前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は設定ラインと交差して形成された目盛り付きパターンを有する貼り合わせ基板。
16. 前記セルが四角形状であり、前記目盛り付きパターンが前記セルの四隅のうち少なくとも１つの隅近傍に形成されている請求項１５に記載の貼り合わせ基板。
17. 前記目盛り付きパターンは、前記セルの四隅のうち前記一方の基板の端縁に近接する隅に形成されている請求項１６に記載の貼り合わせ基板。
18. ２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記目盛り付きパターンが前記第１領域に存在しない請求項１５に記載の貼り合わせ基板。
19. 前記目盛り付きパターンが前記第２、第３および第４の各領域に存在する請求項１８に記載の貼り合わせ基板。
20. ２本の前記設定ラインが交差することにより４つの領域が形成され、前記４つの領域のうち前記セルが存在する領域を第１領域とし、前記２本の設定ラインの交点を中心として前記第１領域から周方向に順次第２、第３および第４領域とすると、前記目盛り付きパターンが前記第１領域に存在する請求項１５に記載の貼り合わせ基板。
21. 前記目盛り付きパターンが前記第１、第２および第４の各領域に存在する請求項２０に記載の貼り合わせ基板。
22. 前記目盛り付きパターンが前記設定ラインからの距離を示す数字を有する請求項１５に記載の貼り合わせ基板。
23. 請求項１または１５に記載の貼り合わせ基板を用いて液晶表示装置を製造する方法であって、
    前記貼り合わせ基板の両面に前記スクライブラインを入れる工程と、
    前記スクライブラインに沿って前記貼り合わせ基板を分断して、前記１または２以上のセルを形成する工程とを有する液晶表示装置の製造方法。
24. 前記セルに液晶材料を注入する工程をさらに有する請求項２３に記載の製造方法。
    

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