JP2005528935A - 高周波エネルギによって皮膚を治療する方法と装置 - Google Patents

Abstract

皮膚を治療する方法と装置である。本方法は皮膚の一部が周りの皮膚から突出するように皮膚を変形させる段階と、前記皮膚に高周波（ＲＦ）エネルギを付与する段階とを含む。本装置は皮膚の一部が周りの皮膚から突出するように皮膚の一部を変形させる皮膚変形装置を含む。本装置はまた、前記皮膚にＲＦエネルギを付与するように構成された１個以上のＲＦ電極も含む。本発明は皮下脂肪組織および軟骨組織を治療するために使用しうる。

Description

本発明は皮膚を治療する方法と装置とに関するものである。

皮膚組織は皮下脂肪組織の層と接触している真皮層の上に位置する外側の表皮層から構成されている。皮膚をマッサージすると皮下脂肪組織における血液の循環を向上させることが長きに亘り知られている。脂肪組織を治療するために各種タイプのマッサージ装置が使用されてきた。米国特許第５，９６１，４７５号（ＵＳ Ｐａｔｅｎｔ ５，９６１，４７５）はマッサージと併せて皮膚に負圧が付与されるマッサージ装置を開示している。この組み合わせた治療によって皮下脂肪組織における血液の循環を増し、当該組織における脂肪細胞間の結合を遮断する。

アルトシュラー他（Ａｌｔｓｈｕｌｅｒ ｅｔ ａｌ．）に対する米国特許第６，２７３，８８４号（ＵＳ Ｐａｔｅｎｔ ６，２７３，８８４）は皮膚の欠陥を治療するために、皮膚に対して光学的エネルギと負圧とを同時に付与することを開示している。

本発明は皮膚を暖めると皮膚の弾力性および血液中のヘモグロビンからの酸素の解離を向上させるとの発見に基づいている。皮膚の弾力性が向上することによって皮膚を更に強力にマッサージできるようになり、ヘモグロビンから酸素を解離することによって脂肪を破壊させる。皮下脂肪組織を暖めてこれらの有利な効果を得るためには、皮膚の表面に付与された熱を皮膚を損傷させることなく約１センチメートルの深さまで皮膚組織中へ導くことが必要である。

本発明はまた、皮膚の一部をその部分が周りの皮膚から突出するように変形させることによって皮下脂肪組織および軟骨組織への熱の送達を高めることの発見にも基づいている。

本発明によれば、治療すべき皮膚の部分が周りの皮膚から突出するように変形され、皮膚の表面に１個以上の高周波（ｒａｄｉｏ−ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：ＲＦ）電極を適用することによって前記突出部分に高周波（ＲＦ）エネルギが供給される。好適実施例においては、前記皮膚の部分は皮膚の当該部分に負圧を加えることによって変形される。皮膚に負圧を加えることによってもその皮膚における血液の循環を増加させる。この皮膚の表面は電極結合を向上させるために水和させることができる。

高周波（ＲＦ）電極を任意に使用して治療の間皮膚のインピーダンスをモニターすることができる。皮膚の温度が高くなるとインピーダンスが変化するので、皮膚のインピーダンスをモニターすることで皮膚における温度分布に追随できて、治療のパラメータ（圧力あるいはＲＦエネルギの強度）を変更し治療を最適化することができる。

このように、本発明の第一の局面においては、皮膚の一箇所以上の部分の各々に対して、
（ａ）皮膚のその部分が周りの皮膚から突出するように皮膚を変形させる段階と、
（ｂ）前記皮膚に高周波（ＲＦ）エネルギを付与する段階とを含む、
皮膚の治療を実行する方法が提供される。

本発明の別の局面において、
（ａ）皮膚の部分が周りの皮膚から突出するように皮膚を変形させる皮膚変形装置と、
（ｂ）皮膚にＲＦエネルギを付与するように構成された１個以上のＲＦ電極とを含む、皮膚を治療するための装置が提供される。

本発明を理解し、本発明が実際に実施されうる態様を知るために、添付図面を参照して、非限定的な例として好適実施例を以下説明する。

図１および図２を参照すれば、本発明によって皮膚に負圧とＲＦエネルギとを付与する装置が示されている。以下詳細に説明する付与装置（ａｐｐｌｉｃａｔｏｒ）７０１は治療すべき部分において人（ｉｎｄｉｖｉｄｕａｌ）７０３の皮膚の部分に適用されるよう構成されている。付与装置７０１はケーブル７０２を介して制御装置７０４に接続されている。ポンプ７０６は付与装置内の内部の室１０６から、ケーブル７０２に沿ってポンプ７０６から内部の室１０６まで延在しているチューブ１１８を介して空気を吸引するため使用される。制御装置７０３は電源７０５を含む。電源７０５はケーブル７０２のチューブ１１８を通過するワイヤ１１５および１１６を介して付与装置７０１にある一対のＲＦ電極２０１および２０２に接続されている。制御装置７０１は、ＲＦエネルギのパワーあるいは負圧の強度のような治療パラメータの選択された値を操作者が入力できるようにするキーパッド７０７のような入力装置を有している。制御装置７０１は付与装置の各種の機能をモニターし、制御するためのプロセッサ７０８を任意に内蔵している。例えば、プロセッサ７０８は治療の間ＲＦ電流および電圧をモニターし、かつ皮膚の温度を計算することができる。

引き続き図２を参照すれば、付与装置７０１は内部空間１０６を囲んでいるベル状のハウジング１０５を含む。前記内部空間１０６は底部が開いており、そのため皮膚の部分１０８に適用されると、皮膚は前記内部空間１０６と接触する。前記内部空間１０６と接触する皮膚の面積は１から５０平方センチメートルであることが好ましい。皮膚組織は表皮層１３０と、皮下脂肪組織１３３の上に位置する真皮層１３２とを含む。ハウジングの縁部の周りにあるガスケット１０７は、皮膚の表面に適用されると皮膚の表面の部分１０８に対するシールを形成する。ＲＦ電極２０１および２０２はハウジング１０５に嵌めこまれており、治療すべき皮膚の部分にＲＦエネルギを付与するように構成されている。

引き続き図２を参照すれば、チューブ１１８はハウジング１０５の頂部に位置したニップル２０３とぴったり嵌まる寸法とされている。ワイヤ１１５および１１６がそれぞれ端子１２０，１２１に接続されている。端子１２０および１２１は、ハウジング１０５においてそれぞれ、ワイヤ１２５および１２６を介して電極２０１および２０２と電気的に接触している。熱電式冷却器１４０および１４１が皮膚の火傷を阻止するように電極２０１および２０２を冷却する。

ポンプ７０６を作動させて付与装置の内部空間１０６を部分的に真空にすることによって付与装置７０１の内部に負圧を発生させる。図３は付与装置の内部空間１０６を部分的に真空にした後の付与装置と皮膚の部分とを示す。付与装置の内部空間と接触している皮膚の部分１０８は付与装置の内部へ突出するように変形されている。皮膚のこのような形態において、皮下脂肪組織１３３はＲＦ電極２０１および２０２により近接するようにされている。次いでＲＦエネルギが電極によって皮膚に付与される。また、高周波治療の間皮膚をマッサージするために前記付与装置を皮膚マッサージ機（図示していない）に付属させることができる。

約１０平方センチメートルの面積を有する皮膚の部分を治療するために本発明による装置を使用する場合、以下のパラメータ例を使用すればよい。
・ ＲＦ周波数：０．３−１０ＭＨｚ
・ 平均出力パワー：約１から約３００Ｗまで
・ 内部の室１０６の圧力：０．２から１気圧まで

本発明による皮膚を治療する装置を示す。 本発明によって皮膚に負圧およびＲＦエネルギを付与する付与装置を示す。 図２に示す付与装置による皮膚の変形を示す。

Claims (20)

1. 皮膚の一箇所以上の部分それぞれに対して、
   （ａ）該皮膚の当該部分が周りの皮膚から突出するように前記皮膚を変形させる段階と、
   （ｂ）前記皮膚に高周波（ＲＦ）エネルギを付与する段階とを含むことを特徴とする皮膚の治療を実行する方法。
2. 前記皮膚をマッサージする段階を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記皮膚を冷却する段階を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 前記皮膚を変形させる段階が前記皮膚に負圧を付与することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
5. 前記治療が皮下脂肪組織あるいは軟骨組織を治療することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
6. 前記ＲＦエネルギの周波数が０．３から１０ＭＨｚまでであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
7. 前記ＲＦエネルギのパワーが１から３００Ｗまでであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
8. 前記負圧が０．２から１気圧までであることを特徴とする請求項４に記載の方法。
9. （ａ）皮膚のある部分が周りの皮膚から突出するように当該皮膚の部分を変形させる皮膚変形装置と、
   （ｂ）前記皮膚にＲＦエネルギを付与するように構成された１個以上のＲＦ電極とを含むことを特徴とする皮膚を治療する装置。
10. 前記皮膚がそれに負圧を付与することによって変形されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
11. 前記皮膚変形装置が、
    （ａ）空間を不完全に遮断していて前記皮膚に対し適用されると該空間が完全に遮断されるハウジングを有する、皮膚に対して適用するように構成された付与装置と、
    （ｂ）前記付与装置が皮膚に対して適用されると前記空間から空気を除去するポンプとを含むことを特徴とする請求項１０に記載の装置。
12. 前記皮膚をマッサージするマッサージ装置を更に含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
13. 前記皮膚を冷却する冷却器を更に含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
14. １個以上のＲＦ電極対に亘るインピーダンスを測定するためのインピーダンス計を更に含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
15. 一度以上のインピーダンスの測定に基づいて前記皮膚における熱分布を検出するように構成されたプロセッサを更に含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
16. 前記プロセッサが一度以上のインピーダンスの測定に基づいてＲＦエネルギの一つ以上のパラメータを更に検出するように構成されていることを特徴とする請求項９に記載の装置。
17. 前記の一つ以上のパラメータが、前記ＲＦエネルギのパルス持続時間と、前記ＲＦエネルギの周波数と、前記ＲＦエネルギのパワーと、皮膚の冷却と前記ＲＦエネルギの付与との間の遅延時間とを含むグループから選択されることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
18. 前記ＲＦエネルギの周波数が０．３から１０ＭＨｚまでであることを特徴とする請求項９に記載の装置。
19. 前記ＲＦエネルギのパワーが１から３００Ｗまでであることを特徴とする請求項９に記載の装置。
20. 前記負圧が０．２から１気圧までであることを特徴とする請求項１０に記載の装置。

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