JP2005522419A - シタロプラムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
特定のpH及び温度条件下に、有機溶媒及び水を用いたシタロプラム又はその不純物の選択的抽出によりシタロプラムを精製することを含む、精製されたシタロプラムまたはその塩の一種の製造方法。粗シタロプラムは、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフランとシアン化銅とを反応させることを含む方法により製造され得る。
Description
本発明は、シタロプラム又はその塩の製造方法に関し、又有機溶媒及び水を用いるシタロプラム又はその不純物の選択的抽出によるシタロプラムの精製、及びシタロプラム塩の製造方法に関する。
5−ブロモフタリドからのこの化合物の合成は、米国特許第4,136,193号明細書に最初に開示された。この発明によると、シタロプラムの合成の最終段階には、シタロプラムの類似前駆体(II)の5位のブロミド原子をシアノ基によって置換することを含む。この置換は、環流したジメチルホルムアミド(DMF)中のシアン化銅を用いて実施される。
後に現れる他の刊行物においては、式(II)の化合物の5位のハロゲン原子がシアノ基により置換される反応は、シアン化物源、例えば、KCN又はNaCNを用いて、選択された触媒の存在下で実施された。これらの方法は、特許出願WO 00/11926及びWO 00/13648に記載されている。
特許出願WO 00/11926において、そこに記載されたシアン化反応は、触媒量のCu+又はZn++の存在下にNi(0)又はNi(II)触媒を用いており、その反応は、溶媒、好ましくはアセとニトリル、プロピオニトリル、テトラヒドロフラン(THF)又は酢酸エチル中で実施される。
特許出願WO 00/13648には、触媒量のCu+又はZn++の存在下にPd(0)又はPd(II)触媒、例えばPd(PPh3)4、Pd2(dba)3、Pd(PPh)2Cl2等によりシアン化することが記載されており、その反応は、溶媒、好ましくはアセとニトリル、プロピオニトリル、テトラヒドロフラン(THF)又は酢酸エチル又はDMF中で実施される。
シアン化反応を完了した後、粗シタロプラムを有機溶媒中に抽出し、水及びエチレンジアミン、又はエチレンジアミン四酢酸(EDTA)の水溶液により数回洗浄して、この工程に使用された過剰のシアン化物イオン及び金属を除去する。最終的に、有機溶媒を蒸留し、粗シタロプラム基質をオイルの形態で単離する。
式(II)の化合物の5位のハロゲン原子のシアノ基による置換を基礎とする、上記方法により製造されたシタロプラムは、シタロプラムハイドロブロミドに転化される前に、除去されるべき数種の不純物を含んでいる。この粗シタロプラム基質は、英国特許出願2356199中に示されているように、純度約85%である。
このシタロプラム基質の幾つかの不純物は知られている。これらの不純物には、シタロプラム前駆体、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフラン[XがBrである式IIの化合物]、類似塩素化前駆体、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−クロロイソベンゾフラン[XがClである式IIの化合物]、そのアミド、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−アミノカルボニルイソベンゾフラン[XがCONH2である式IIの化合物]、及び出発物質の自動縮合による他の不純物、ダイマー、及びポリマー(英国特許第2356199明細書)、又は脱メチル化による不純物[式(III)化合物]が含まれる。
このシタロプラム基質を精製するのは困難であり、幾つかの方法が精製を目的として開発されている。
ドイツ特許DE200007303には、ヘプタン中の再結晶化により実施されるシタロプラムの精製が開示されている。この方法は、シタロプラムと構造的に関連した不純物、特にイソベンゾフラン環の5位の置換基においてシタロプラムと異なる化合物、例えば前駆体、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフラン[XがBrである式IIの化合物]、類似塩素化前駆体、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−クロロイソベンゾフラン[XがClである式IIの化合物]、そのアミド、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−アミノカルボニルイソベンゾフラン[XがCONH2である式IIの化合物]を除去するのに有用であると報告されている。
英国特許2356199明細書には、そのシタロプラム基質をスルホランの存在下に温度200〜330℃の範囲内及び圧力0.1〜2.0mmHgの範囲内において蒸留して、HPLC(高圧液体クロマトグラフィー)測定の純度約96%を有する蒸留シタロプラムを得ること、及びこの方法は、シアン化反応の間に形成する高分子量不純物、ダイマー及びポリマーを除去するのに有用であることが開示されている。
特許出願WO 01/45483では、シタロプラムは、アミド基を形成可能の試薬と反応させ、後に形成されたアミド化物を精製して除去する。この出願には、この方法が式(III)化合物、脱メチルシタロプラムを除去するのに有用であることが記載されている。
これら全ての精製方法の応用に当っては、幾つかの工程と、特別な装置を必要として、又、純粋シタロプラムを製造するのに使用される方法を簡素化するために、新たな方法が開発されなければならない。
発明の要約
本発明の一つの対象は、純粋のシタロプラム、又はその塩の一種の製造方法であって、特定のpH及び温度条件下に、有機溶媒と水を用いてシタロプラム又はその不純物を選択的に抽出することにより、シタロプラムを精製することを含む方法である。
本発明の一つの対象は、純粋のシタロプラム、又はその塩の一種の製造方法であって、特定のpH及び温度条件下に、有機溶媒と水を用いてシタロプラム又はその不純物を選択的に抽出することにより、シタロプラムを精製することを含む方法である。
本発明の他の対象は、溶媒の不存在下に、化合物1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフランとシアン化銅とを反応させることを含む、精製前のシタロプラムを製造する方法に関する。
発明の詳細な説明
本発明は、有機溶媒及び水を用いたシタロプラム又はその不純物の選択的抽出によりシタロプラムを精製することを含む、純粋シタロプラムまたはその塩の一種の製造法を提供する。
本発明は、有機溶媒及び水を用いたシタロプラム又はその不純物の選択的抽出によりシタロプラムを精製することを含む、純粋シタロプラムまたはその塩の一種の製造法を提供する。
シタロプラムは、公知の技術に属する方法により製造可能である。あるいは、シタロプラムは、下式
の1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフランを溶媒の不存在下に、シアン化銅と反応させることを構成とする方法により製造可能である。
この化合物1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフランとシアン化銅との反応は、温度110℃〜180℃の範囲内で、長さ5時間〜15時間の範囲内で、好ましくは、温度140℃〜150℃の範囲内で、長さ8時間〜9時間の範囲内で実施される。これらの条件で、高分子量不純物、ダイマー及びポリマーの形成、及び脱メチルシタロプラム(III)の形成が最小化される。又、粗シタロプラムの主たる不純物は出発物質である。
この反応が完了すると、シタロプラムを水に不混和の有機溶媒、好ましくはトルエン又はキシレン中に溶解し、過剰のシアン化銅を水、エチレンジアミン、アンモニア、又はエチレンジアミン四酢酸(EDTA)の水溶液、からなる水性媒体中の洗浄により除去する。
粗シタロプラム又はその塩の一種の精製に関して、驚くべきことに、シタロプラム又はその不純物のいずれでも、特定のpH及び温度条件下での有機溶媒及び水を用いた選択的抽出によって、シタロプラムは、高純度で精製可能であることが判った。より具体的には、本発明のシタロプラムの精製は、以下の工程から構成される。
a)水に不混和の有機溶媒に溶解したシタロプラムを、pH3.0〜6.0の範囲内かつ温度10℃〜60℃の範囲内の水により抽出して、シタロプラムを含む水性相を分離する工程
b)工程a)から得られるシタロプラムを含む水性相を、pH4.0〜7.0の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水に不混和の有機溶媒により洗浄して、シタロプラムを含む精製された水性相を分離する工程、及び
c)工程b)から得られる水性相に含まれるシタロプラムを、pH5.0〜7.5の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水に不混和の溶媒により抽出する工程、
を含む工程。
a)水に不混和の有機溶媒に溶解したシタロプラムを、pH3.0〜6.0の範囲内かつ温度10℃〜60℃の範囲内の水により抽出して、シタロプラムを含む水性相を分離する工程
b)工程a)から得られるシタロプラムを含む水性相を、pH4.0〜7.0の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水に不混和の有機溶媒により洗浄して、シタロプラムを含む精製された水性相を分離する工程、及び
c)工程b)から得られる水性相に含まれるシタロプラムを、pH5.0〜7.5の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水に不混和の溶媒により抽出する工程、
を含む工程。
本発明のこの態様によると、水に不混和の有機溶媒中に溶解されたシタロプラムは、酸性媒体中の(例えば酢酸を添加した)水中に、pH3.0〜6.0の範囲内、好ましくは4.8〜5.4の範囲内で、温度10℃〜60℃、好ましくは20℃〜50℃の範囲内で吸収され、その後、シタロプラムを含有する水性相は分離される。第一の精製は、これらの条件下で行われ、最も非極性の(most apolar)不純物は有機層中に溶解したまま留まる。
次いで、このシタロプラムを含む水性相(溶液)を、pH4.0〜7.0の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水中に不混和の有機溶媒、例えば、トルエン、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン又はキシレン、を用いて洗浄し、その後、そのシタロプラムを含む精製された水性相を分離する。一つの具体的応用例としては、この工程b)は、pH4.0〜6.0の範囲内、好ましくはpH4.8〜5.0の範囲かつ温度20℃〜60℃の範囲内、好ましくは温度43℃〜47℃の範囲内のトルエン、あるいはpH5.0〜7.0の範囲内、好ましくはpH5.8〜6.3の範囲かつ温度20℃〜60℃の範囲内、好ましくは温度43℃〜47℃の範囲内のヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、又はキシレンを用いて実施される。これらの条件において、未反応の出発物質、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフラン、その塩素化不純物、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−クロロイソベンゾフラン、及び以前に除去されていない非極性不純物の残分が、全て除去され、シタロプラムが、分離された水性相中に留まる。
次に、工程b)から得られる水性相に含まれるシタロプラムを、pH5.0〜7.5の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水に不混和の溶媒により抽出する。一つの具体的適用例として、シタロプラムの抽出のこの工程c)が、pH5.0〜7.0の範囲内、好ましくはpH5.4〜5.6の範囲内で、温度20℃〜60℃の範囲内、好ましくは温度43℃〜47℃の範囲内のトルエンを用いて、あるいはpH5.5〜7.5の範囲内、好ましくはpH6.3〜6.5の範囲内で、温度20℃〜60℃の範囲内、好ましくは温度43℃〜47℃の範囲内のヘプタン、シクロヘキサン、又はキシレンを用いて実施される。
得られたシタロプラムを含有する有機抽出物は、所望により濃縮することができ、純粋のシタロプラム基質は、HPLC測定の純度約99.0%以上のオイルとして得ることができる。
水に不混和の他の有機溶媒、例えば、エーテル、エステル、ハロゲン化炭化水素等、を利用することができ、pH及び温度範囲は、容易に決定できる。
本発明によって提供される方法によって精製されたシタロプラムを製造することは、本技術分野の水準の重要な改善を意味する。シタロプラムは、その塩、例えば、臭化水素酸塩に添加されるまで、全工程の間、溶液状態で操作されるので、シタロプラム基質の煩雑な繰返される再結晶化を避けることができる。同様に、高真空(0.1〜2.0mmHg)及び温度(240〜270℃)条件下で特製の装置中でシタロプラムを蒸留する必要がないので、本発明の方法は、従来の製造所で実施できる。
本発明の方法においては、シタロプラムを追加の反応に供して、その不純物の幾つかをより除去し易い他のものに転化する必要はない。全ての不純物は、前記抽出工程の間に、除去される。
精製されたシタロプラム基質は、常法により、塩、例えば薬学的に許容可能の塩、例えば、塩酸塩、臭化水素塩などに転化することができる。そのようにするには、一般に、精製されたシタロプラム基質を、有機溶媒、例えば、酢酸エチル又はイソプロパノール中に溶解し、又は特定量の対応する酸を添加する。得られた溶液を濃縮し、或いは冷却して、その塩をろ過により単離する。
本発明を、以下の実施例により説明する。
実施例1
シタロプラムの製造
1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフラン40gとシアン化銅17.1gとを窒素雰囲気下に145℃で9時間反応させる。9時間後、この混合物を冷却し、DMF67ml中に溶解する。この溶液を、水240ml、エチレンジアミン42ml及びトルエン240mlに注加して、そしてこの水性相を傾瀉する。この有機性相を、水性相から青色が消え去るまで、水及びエチレンジアミンを用いて数回、洗浄する。このトルエン溶液を室温の水240mlにより処理して、そのpHを酢酸を用いて4.8〜5.0に調整する。このシタロプラムは、水性層中に溶解されて留まる。この有機性相は、より非極性の不純物を含み、廃棄される。シタロプラムの水性相は、45℃のヘプタン200mlを用いて数回洗浄されて、そのpHを5.8〜6.3に調整される。この有機性抽出物は、出発物質及び非極性不純物残分を含む。最終的には、このシタロプラム水性相を、45℃でpH5.4〜5.6のトルエン200mlを用いて数回抽出する。このトルエン抽出物を濃縮して、HPCl測定の純度約99.0%のシタロプラム20.6g(収率60%)をオイルとして生成する。
シタロプラムの製造
1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフラン40gとシアン化銅17.1gとを窒素雰囲気下に145℃で9時間反応させる。9時間後、この混合物を冷却し、DMF67ml中に溶解する。この溶液を、水240ml、エチレンジアミン42ml及びトルエン240mlに注加して、そしてこの水性相を傾瀉する。この有機性相を、水性相から青色が消え去るまで、水及びエチレンジアミンを用いて数回、洗浄する。このトルエン溶液を室温の水240mlにより処理して、そのpHを酢酸を用いて4.8〜5.0に調整する。このシタロプラムは、水性層中に溶解されて留まる。この有機性相は、より非極性の不純物を含み、廃棄される。シタロプラムの水性相は、45℃のヘプタン200mlを用いて数回洗浄されて、そのpHを5.8〜6.3に調整される。この有機性抽出物は、出発物質及び非極性不純物残分を含む。最終的には、このシタロプラム水性相を、45℃でpH5.4〜5.6のトルエン200mlを用いて数回抽出する。このトルエン抽出物を濃縮して、HPCl測定の純度約99.0%のシタロプラム20.6g(収率60%)をオイルとして生成する。
実施例2
シタロプラムの精製
シタロプラム30g又はその当量の塩を、室温のトルエン240mlと水240mlの混合物に溶解して、酢酸を用いてpH4.8〜5.0に調整する。そのシタロプラムは、水性相に溶解して留まる。この有機性相は、最も非極性の不純物を含み、そして廃棄される。このシタロプラムの水溶液は、45℃のヘプタン200mlを用いて数回洗浄して、pH5.8〜6.3に調整する。この有機性抽出物は、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフラン、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−クロロイソベンゾフラン及び非極性不純物残分を含む。最終的に、シタロプラムの水溶液を45℃でpH5.4〜5.6のトルエン200mlを用いて数回抽出する。このトルエン抽出物を濃縮して、HPLC測定の99.0%を超える純度で、オイルとして、シタロプラム21.0g(収率70%)を生成する。
シタロプラムの精製
シタロプラム30g又はその当量の塩を、室温のトルエン240mlと水240mlの混合物に溶解して、酢酸を用いてpH4.8〜5.0に調整する。そのシタロプラムは、水性相に溶解して留まる。この有機性相は、最も非極性の不純物を含み、そして廃棄される。このシタロプラムの水溶液は、45℃のヘプタン200mlを用いて数回洗浄して、pH5.8〜6.3に調整する。この有機性抽出物は、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフラン、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−クロロイソベンゾフラン及び非極性不純物残分を含む。最終的に、シタロプラムの水溶液を45℃でpH5.4〜5.6のトルエン200mlを用いて数回抽出する。このトルエン抽出物を濃縮して、HPLC測定の99.0%を超える純度で、オイルとして、シタロプラム21.0g(収率70%)を生成する。
実施例3
シタロプラム臭化水素酸塩の製造
62%臭化水素酸8.2gを、シタロプラム20gの酢酸エチル120ml溶液に添加する。この混合物を5〜10℃に冷却して、放置して結晶化させる。形成した結晶をろ過、乾燥する。シタロプラム臭化水素酸塩22.5g(収率90%)を得る。
シタロプラム臭化水素酸塩の製造
62%臭化水素酸8.2gを、シタロプラム20gの酢酸エチル120ml溶液に添加する。この混合物を5〜10℃に冷却して、放置して結晶化させる。形成した結晶をろ過、乾燥する。シタロプラム臭化水素酸塩22.5g(収率90%)を得る。
Claims (12)
- 有機溶媒及び水を用いたシタロプラム又はその不純物の選択的抽出によりシタロプラムを精製することを含む、純粋シタロプラムまたはその塩の一種の製造法。
- シタロプラムの精製が、下記の工程、
a)水に不混和の有機溶媒に溶解したシタロプラムを、pH3.0〜6.0の範囲内かつ温度10℃〜60℃の範囲内の水により抽出して、シタロプラムを含む水性相を分離する工程
b)工程a)から得られるシタロプラムを含む水性相を、pH4.0〜7.0の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水に不混和の有機溶媒により洗浄して、シタロプラムを含む精製された水性相を分離する工程、及び
c)工程b)から得られる水性相に含まれるシタロプラムを、pH5.0〜7.5の範囲内かつ温度20℃〜60℃の範囲内の、水に不混和の溶媒により抽出する工程、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 工程a)において、水に不混和の有機溶媒に溶解したシタロプラムの水による抽出を、pH4.8〜5.4の範囲内かつ温度20℃〜50℃の範囲内で実施する、請求項2に記載の方法。
- シタロプラムを含有する水性相を洗浄するための工程b)において使用される水不混和の有機溶媒が、トルエン、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びキシレンの中から選択される、請求項2に記載の方法。
- 工程b)において、シタロプラムを含有する水性相が、pH4.8〜5.0の範囲かつ温度43℃〜47℃の範囲内のトルエンで洗浄することにより精製される、請求項2に記載の方法。
- 工程b)において、シタロプラムを含有する水性相が、pH5.8〜6.3の範囲かつ温度43℃〜47℃の範囲内のヘプタンによる洗浄を繰返すことにより精製される、請求項2に記載の方法。
- シタロプラムを抽出するための工程c)において使用される水不混和の有機溶媒が、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン及びキシレンの中から選択される、請求項2に記載の方法。
- 工程c)において、シタロプラムが、pH5.4〜5.6の範囲内かつ温度43℃〜47℃の範囲内のトルエンにより水性相から抽出される、請求項2に記載の方法。
- 工程c)において、シタロプラムが、pH6.3〜6.5の範囲内かつ温度43℃〜47℃の範囲内のヘプタンにより水性相から抽出される、請求項2に記載の方法。
- 溶媒の不存在下に、化合物1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフランとシアン化銅とを反応させて粗シタロプラムを得る前工程を含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 溶媒の不存在下に、化合物1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−ブロモイソベンゾフランとシアン化銅とを反応させる反応が、温度110℃〜180℃、好ましくは温度140℃〜150℃の範囲内で実施される、請求項10に記載の方法。
- 塩基性の精製されたシタロプラムを、対応する酸と反応させることにより、その塩の一種に転化することを含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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