JP2005354063A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射線の投影ビームを供給する照明システムを有し、この投影ビームには、パターン形成システムを使用してパターンが形成される。投影システムが、パターンの形成されたビームを所定のビーム経路に沿って基板のターゲット部分に投影する。投影システムはレンズのアレイを有し、このアレイは、各レンズが、パターンの形成されたビームのそれぞれの部分を基板のターゲット部分のそれぞれの部分に向けて方向付けるように位置付けられる。投影システムは、パターン形成システムとレンズのアレイとの間にビーム経路に沿って間隔を空けて配置された一連のレンズ構成要素を有している。レンズ構成要素は、パターンの形成されたビームの少なくとも3次回折成分を収集するように寸法決めされる。
【選択図】図2
Description
マイクロレンズ・アレイ・イメージ形成システムを使用する本発明の一実施例において、照明システム内のビーム拡大器の視野レンズ(この視野レンズは、2以上の個別のレンズから形成することができる)の役割は、視野レンズとマイクロレンズ・アレイとの間の光ビームの全ての成分が平行であり且つマイクロレンズ・アレイに垂直であることを保証することによって、投影システムをテレセントリックにすることである。しかし、視野レンズとマイクロレンズ・アレイとの間の光ビームは、実質的に平行にすることはできるが、完全な平行性は実現することができない場合がある。
図1に、本発明を実施することができるリソグラフィ投影装置100を模式的に示す。装置100は、放射線システム102と、個別に制御可能な要素のアレイ104と、オブジェクト・テーブル106(例えば基板テーブル)と、投影システム(「レンズ」)108とを少なくとも含む。
個別に制御可能な要素のアレイ104上の全パターンが一度に(すなわち、ただ1回の「フラッシュ」で)ターゲット部分120に投影される。次いで、パターン形成投影ビーム110によって異なるターゲット部分120が照射されるように、基板テーブル160がxおよび/またはy方向の別の位置に移動される。
本質的にはステップ・モードと同じであるが、所与のターゲット部分120がただ1回の「フラッシュ」で露光されない。個別に制御可能な要素のアレイ104が所与の方向(いわゆる「走査方向」、例えばy方向)に速度vで移動可能であり、それにより、パターン形成投影ビーム110が、個別に制御可能な要素のアレイ104全体にわたって走査する。これと並行して、基板テーブル106が速度V=Mvで同じ方向または反対方向に同時に移動される。ここで、Mは投影システム108の倍率である。このようにすると、解像度を損なうことなく比較的大きなターゲット部分120を露光することができる。
個別に制御可能な要素のアレイ104が実質的に静止したままであり、パルス放射線システム102を使用して全パターンが基板114のターゲット部分120に投影される。基板テーブル160が実質的に一定の速度で移動され、それにより、パターン形成投影ビーム110が、基板106全体にわたってラインを走査する。個別に制御可能な要素のアレイ104上のパターンは、放射線システム102のパルスの合間に必要に応じて更新され、パルスは、連続するターゲット部分120が基板114上の要求された位置で露光されるようにタイミングを取られる。その結果、パターン形成投影ビーム110が基板114上を走査して、基板114のストリップに関する全パターンを露光することができる。ライン毎に基板114全体が露光されるまでこのプロセスが繰り返される。
本質的にはパルス・モードと同じであり、ただし、実質的に一定の放射線システム102が使用され、パターン形成投影ビーム110が基板114全体にわたって走査して基板を露光するときに、個別に制御可能な要素のアレイ104上のパターンが更新される。
図2は、本発明の一実施例の単純化された概略図である。この実施例では、投影ビーム2が、コントラスト・デバイス1を使用してパターン形成される。この実施例では、コントラスト・デバイス1は、個別に制御可能なミラーの行と列のマトリックスの形態である。投影ビーム2は、照明源(図示せず)からコントラスト・デバイス1に向けて方向付けられる。コントラスト・デバイス1を構成する個々のミラーの向きに応じて、光は、レンズ3に向けて反射されるか、またはレンズ3から遠ざかるように反射される。したがって適切な向きを有するコントラスト・デバイス1内の各要素によって、一連の平行な放射線ビームがレンズ3に向けて方向付けられる。
図3に、本発明の一実施例による図2のマイクロレンズ・アレイ6の構造を示す。図4に、本発明の一実施例によるマイクロレンズ・アレイ6内の3つの個別のレンズの拡大図を示す。中心光軸線が、線8によって示されている。放射線のビームは、中心レンズ9に向けられ、このビームは軸線8に関して対称である。さらなるビームが、軸線8の各側で個別のレンズ10および11に向けられる。これらのビームはそれぞれ、それぞれのレンズ10、9、および11によってそれぞれのスポット12、13、および14に合焦される。
図5および図6に、周期的な格子を形成するように構成されたマスクによって生じる状況を示す。
sinα=n・λ/P
ここで、n=回折成分の次数であり、n=0,1,2,・・・であり、λは投影ビームの波長である。
ゴースト・パターン形成の問題を、投影ビームにパターンを付与するパターン形成デバイスの詳細な構造に触れずに上述した。しかし、パターン形成手段がデジタル・ミラー・アレイである適用例で生じる特定の回折問題が存在する。
図11に、本発明の一実施例に従って、n=±1とn=±3回折成分の両方を収集する効果を示す。線18と19の間の斜線領域が、図9の線18と19の間の斜線領域に比べて大幅に縮小されている。それにより、「ゴースト発生」効果が大幅に低減される。
本発明の様々な実施例を上述してきたが、それらは単に例として提示されており、限定ではないことを理解されたい。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、形状および細部に様々な変更を加えることができることを当業者は理解されよう。したがって、本発明の外延および範囲は、上述した例示的な実施例の任意のものによって限定されるべきではなく、添付の特許請求の範囲およびその等価箇所に従ってのみ定義されるべきである。
2、16 投影ビーム
3、4、9、10、11 レンズ
5 視野レンズ
6 マイクロレンズ・アレイ
7 基板
12、13、14 スポット
15 不透明ストリップ
20 個別ミラー要素
21 可撓性ヒンジ
Claims (9)
- 放射線の投影ビームを供給する照明システムと、
前記投影ビームにパターンを形成するパターン形成システムと、
パターンが形成された前記ビームを、所定のビーム経路に沿って基板のターゲット部分に投影する投影システムと
を有するリソグラフィ装置であって、
前記投影システムが、
レンズのアレイであって、該レンズのアレイ内の各レンズは、パターンが形成された前記ビームのそれぞれ部分を前記基板の前記ターゲット部分のそれぞれの部分に向けて方向付けるように位置付けられているレンズのアレイと、
前記パターン形成システムと前記レンズのアレイとの間に前記ビーム経路に沿って間隔を空けて配置された一連のレンズ構成要素と
を有しており、
前記一連のレンズ構成要素は、パターンが形成された前記ビームの少なくとも3次回折成分を収集するように寸法決めされているリソグラフィ装置。 - 前記レンズ構成要素は、パターンが形成された前記ビームの少なくとも5次成分をさらに収集するように寸法決めされている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レンズ構成要素は、パターンが形成された前記ビームの少なくとも29次成分をさらに収集するように寸法決めされている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターン形成システムが、個別に制御可能な要素のアレイを有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射線の投影ビームにパターンを形成するステップと、
投影システム内のレンズのアレイを使用して、パターンが形成された前記ビームを所定のビーム経路に沿って基板のターゲット部分に投影するステップであって、前記レンズのアレイ内の各レンズは、パターンが形成された前記ビームのそれぞれの部分を前記基板の前記ターゲット部分のそれぞれの部分に向けて方向付けているステップと、
前記投影システムのレンズ構成要素を使用して、パターンが形成された前記ビームの少なくとも3次回折成分を収集するステップと
を含むデバイス製造方法。 - 前記パターン形成システムと前記レンズのアレイとの間に前記ビーム経路に沿って前記レンズ構成要素を間隔を空けて配置するステップをさらに含む請求項5に記載のデバイス製造方法。
- パターンが形成された前記ビームの少なくとも5次成分をさらに収集するようにレンズ構成要素を寸法決めするステップをさらに含む請求項5に記載のデバイス製造方法。
- パターンが形成された前記ビームの少なくとも29次成分をさらに収集するようにレンズ構成要素を寸法決めするステップをさらに含む請求項5に記載のデバイス製造方法。
- 前記パターン形成システムとして、個別に制御可能な要素のアレイを使用するステップを含む請求項5に記載のデバイス製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258716A (ja) * | 2006-03-21 | 2007-10-04 | Asml Netherlands Bv | 露光装置、放射供給及びデバイス製造方法 |
JP2018041025A (ja) * | 2016-09-09 | 2018-03-15 | 株式会社Screenホールディングス | パターン露光装置、露光ヘッドおよびパターン露光方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008131928A1 (en) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus |
JP2012063377A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Enplas Corp | レンズアレイおよびそのレンズエッジ検出方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0794398A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2001500628A (ja) * | 1996-02-28 | 2001-01-16 | ケニス シー ジョンソン | マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡 |
JP2001358070A (ja) * | 2000-05-01 | 2001-12-26 | Asml Masktools Netherlands Bv | 光学的近接補正 |
WO2003040830A2 (en) * | 2001-11-07 | 2003-05-15 | Applied Materials, Inc. | Optical spot grid array printer |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5523193A (en) | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
US6219015B1 (en) | 1992-04-28 | 2001-04-17 | The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images |
JP3224041B2 (ja) | 1992-07-29 | 2001-10-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置 |
US5729331A (en) | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
JP3339149B2 (ja) | 1993-12-08 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置ならびに露光方法 |
US5677703A (en) | 1995-01-06 | 1997-10-14 | Texas Instruments Incorporated | Data loading circuit for digital micro-mirror device |
US5530482A (en) | 1995-03-21 | 1996-06-25 | Texas Instruments Incorporated | Pixel data processing for spatial light modulator having staggered pixels |
US6177980B1 (en) | 1997-02-20 | 2001-01-23 | Kenneth C. Johnson | High-throughput, maskless lithography system |
US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
SE9800665D0 (sv) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
KR100827874B1 (ko) | 2000-05-22 | 2008-05-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법, 노광 방법, 마이크로 장치의 제조 방법, 및 디바이스의 제조 방법 |
JP3563384B2 (ja) | 2001-11-08 | 2004-09-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
KR100545297B1 (ko) | 2002-06-12 | 2006-01-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법 |
US6870554B2 (en) | 2003-01-07 | 2005-03-22 | Anvik Corporation | Maskless lithography with multiplexed spatial light modulators |
US7147975B2 (en) * | 2003-02-17 | 2006-12-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Photomask |
EP1482375B1 (en) | 2003-05-30 | 2014-09-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2004
- 2004-06-08 US US10/862,881 patent/US6989886B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-06-07 JP JP2005167016A patent/JP4386861B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0794398A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2001500628A (ja) * | 1996-02-28 | 2001-01-16 | ケニス シー ジョンソン | マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡 |
JP2001358070A (ja) * | 2000-05-01 | 2001-12-26 | Asml Masktools Netherlands Bv | 光学的近接補正 |
WO2003040830A2 (en) * | 2001-11-07 | 2003-05-15 | Applied Materials, Inc. | Optical spot grid array printer |
JP2006502558A (ja) * | 2001-11-07 | 2006-01-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 光学式スポット格子アレイ印刷装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258716A (ja) * | 2006-03-21 | 2007-10-04 | Asml Netherlands Bv | 露光装置、放射供給及びデバイス製造方法 |
JP2018041025A (ja) * | 2016-09-09 | 2018-03-15 | 株式会社Screenホールディングス | パターン露光装置、露光ヘッドおよびパターン露光方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US20050270512A1 (en) | 2005-12-08 |
US6989886B2 (en) | 2006-01-24 |
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