JP4898262B2 - 複数のパターン形成デバイスを利用するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
図1に、本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置100を図式的に示す。装置100は、少なくとも、放射システム102と、個別に制御可能な要素のアレイ104(例えばコントラスト・デバイス又はパターン形成デバイス)と、物体テーブル106(例えば基板テーブル)と、投影システム(「レンズ」)108とを含む。
本発明の様々な実施例を上述してきたが、それらは単に例として提示されたものであり、限定するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、それらに様々な形態及び詳細の変更を加えることができることは当業者に明らかであろう。したがって、本発明の外延及び範囲は、上述した例示実施例の任意のものによって限定されるべきではなく、頭記の特許請求の範囲及びその等価箇所に従ってのみ定義されるべきである。
2 パターン形成デバイス
3 パターン形成ビーム
4 レンズ
5 アパーチャ
6 周囲
10、20、21 ビーム分割器
11、12 要素のアレイ
13、14 反射サブビーム
30、31、32 頂点
40 セル
41 光学活性部分
42 光学非活性部分
43 光学活性ストライプ
44 光学非活性ストライプ
51 ビームレット
Claims (10)
- 放射のビームを供給する照明システムと、
前記ビームを2つの部分に分割するビーム分割システムと、
前記ビームの2つの部分によって照明されるように構成された第1および第2の個別に制御可能な要素のアレイを備えるパターン形成システムであって、前記第1および第2のアレイがそれぞれ、前記ビームの前記2つの部分にパターン形成し、前記第1および第2のアレイの各要素が、光を選択的に反射、回折、又は透過する光学活性部分と、光を選択的に反射、回折又は透過しない光学非活性部分とを備えるパターン形成システムと、
前記パターン形成された2つの部分を組み合わせてパターン形成ビームにする組合せシステムと、
前記パターン形成ビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを備え、
前記投影システムが、前記パターン形成ビームを受け取り、前記パターン形成ビームを、複数の放射スポットとして基板の前記目標部分に合焦するように構成されたレンズのアレイを備え、
前記組合せシステムは、前記第1のアレイ内の前記光学非活性部分が前記第2のアレイの前記光学活性部分により補償され、且つ第2のアレイ内の光学非活性部分が第1のアレイの光学活性部分により補償されるように、前記ビームの2つの部分に与えられた前記パターンを、前記パターン形成ビーム内で互いに重なり合わせ、
前記組合せシステムと分割システムとが共通要素を備え、前記共通要素が、前記ビームを2つの部分に分割して前記パターン形成システムに方向付け、且つ前記パターン形成システムからの対応する2つのパターン形成部分を組み合わせて前記パターン形成ビームにするように構成された、
リソグラフィ装置。 - 前記共通要素がプリズムを備える請求項1に記載の装置。
- 前記組合せシステムと分割システムとが複数の共通要素を備え、前記複数の共通要素の各共通要素が、前記ビームの少なくとも一部分を複数の部分に分割して前記パターン形成システムに方向付け、且つ前記パターン形成システムからの対応する複数のパターン形成部分を組み合わせて前記パターン形成ビームにするように構成された請求項1に記載の装置。
- 各共通要素がプリズムを備える請求項3に記載の装置。
- 放射のビームを供給する照明システムと、
前記ビームを2つの部分に分割するビーム分割システムと、
前記ビームの2つの部分によって照明されるように構成された第1および第2の個別に制御可能な要素のアレイを備えるパターン形成システムであって、前記第1および第2のアレイがそれぞれ、前記ビームの前記2つの部分にパターン形成し、前記第1および第2のアレイの各要素が、光を選択的に反射、回折、又は透過する光学活性部分と、光を選択的に反射、回折又は透過しない光学非活性部分とを備えるパターン形成システムと、
前記パターン形成された2つの部分を組み合わせてパターン形成ビームにする組合せシステムと、
前記パターン形成ビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを備え、
前記投影システムが、複数のレンズ・アレイを備え、前記複数のレンズ・アレイの各レンズ・アレイが、前記パターン形成ビームの当該の部分を受け取り、その部分を、対応する複数の放射スポットとして基板の前記目標部分に合焦するように構成され、
前記組合せシステムは、前記第1のアレイ内の前記光学非活性部分が前記第2のアレイの前記光学活性部分により補償され、且つ第2のアレイ内の光学非活性部分が第1のアレイの光学活性部分により補償されるように、前記ビームの2つの部分に与えられた前記パターンを、前記パターン形成ビーム内で互いに重なり合わせ、
前記組合せシステムと分割システムとが共通要素を備え、前記共通要素が、前記ビームを2つの部分に分割して前記パターン形成システムに方向付け、且つ前記パターン形成システムからの対応する2つのパターン形成部分を組み合わせて前記パターン形成ビームにするように構成された、
リソグラフィ装置。 - 前記基板がFPD基板である請求項1に記載の装置。
- 前記基板がLCD基板である請求項1に記載の装置。
- 前記基板がIC基板である請求項1に記載の装置。
- 前記基板がIC用のウェーハである請求項1に記載の装置。
- 放射のビームを供給するステップと、
分割システムを用いて前記ビームを2つの部分に分割するステップと、
分割された放射のビームの第1及び第2の部分に、第1及び第2の対応する個別に制御可能な要素のアレイを備えるパターン形成システムを使用してパターン形成するステップであって、前記第1および第2のアレイの各要素が、光を選択的に反射、回折、又は透過する光学活性部分と、光を選択的に反射、回折又は透過しない光学非活性部分とを備える、ステップと、
組合せシステムを用いて前記パターン形成部分を組み合わせてパターン形成ビームにするステップと、
前記パターン形成ビームを投影システムを用いて基板の目標部分に投影するステップとを含み、
前記投影システムが、前記パターン形成ビームを受け取り、前記パターン形成ビームを、複数の放射スポットとして基板の前記目標部分に合焦するように構成されたレンズのアレイを備え、
前記組合せシステムは、前記第1のアレイ内の前記光学非活性部分が前記第2のアレイの前記光学活性部分により補償され、且つ第2のアレイ内の光学非活性部分が第1のアレイの光学活性部分により補償されるように、前記ビームの第1及び第2の部分に与えられた前記パターンを、前記パターン形成ビーム内で互いに重なり合わせ、
前記組合せシステムと分割システムとが共通要素を備え、前記共通要素が、前記ビームを2つの部分に分割して前記パターン形成システムに方向付け、且つ前記パターン形成システムからの対応する2つのパターン形成部分を組み合わせて前記パターン形成ビームにするように構成された、
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