JP2005353980A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ボンディングパッド部8の変色や腐蝕を防止して、ボンディングパッド部とバンプとの固着の信頼性を高めることができる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体基板1上に絶縁膜2を介して、パッド電極となる金属膜3を形成し、金属膜3上に反射防止膜4を形成し、金属膜3および反射防止膜4を加工し、金属配線およびパッド電極をパターン形成し、パッシベーション膜5をその上に形成し、パッシベーション膜5に開口部5aを形成し、半導体基板1上にポリイミド膜7を形成し、このポリイミド膜の開口部7aを形成し、パッシベーション膜5をマスクに反射防止膜4を除去し、ボンディングパッド部8を形成する。また、ポリイミド膜の開口部端7bと前記ボンディングパッド部端8aの間を所定の距離Lだけ離す。
【選択図】 図1
【解決手段】半導体基板1上に絶縁膜2を介して、パッド電極となる金属膜3を形成し、金属膜3上に反射防止膜4を形成し、金属膜3および反射防止膜4を加工し、金属配線およびパッド電極をパターン形成し、パッシベーション膜5をその上に形成し、パッシベーション膜5に開口部5aを形成し、半導体基板1上にポリイミド膜7を形成し、このポリイミド膜の開口部7aを形成し、パッシベーション膜5をマスクに反射防止膜4を除去し、ボンディングパッド部8を形成する。また、ポリイミド膜の開口部端7bと前記ボンディングパッド部端8aの間を所定の距離Lだけ離す。
【選択図】 図1
Description
この発明は半導体装置の製造方法に関し、特にバッファーコート層を有する半導体装置の製造方法に関する。
従来、半導体装置として半導体素子チップ表面にパッシベーション膜を形成し、このチップをモールド樹脂で封止したものが提供されている。近年、半導体装置の大型化に伴い、温度変化によるモールド樹脂とパッシベーション膜間の応力が大きくなり、界面での剥離による信頼性の低下が懸念される。そこで、この応力を緩和するためにモールド樹脂とパッシベーション膜の間にバッファ層としてポリイミド膜を設けて、応力緩和を図り、パッシベーション膜のクラック発生を防止することが行われている。
図2は、バッファコート層を形成した従来の半導体装置の製造方法であり、同図(a)から同図(d)は、工程順に示した要部製造工程断面図である。この製造工程は、例えば、特許文献1に示されており、パッド電極近傍の断面図を示す。
金属膜3上に反射防止膜4を被着させた構造のパッド電極パターンを形成し(同図(a))、パッシベーション膜5となる絶縁膜を形成し(同図(b))、続いてバッファコート層となるポリイミド膜7を形成し、その後、ポリイミド膜7にボンディングパッド開口パターンを形成した後、熱処理を実施し(同図(c))、形成したポリイミドパターンをマスクに前記パッシベーション膜5および反射防止膜4を順次エッチングにて除去し、ボンディングパッド部8を形成する(同図(d))。
図2は、バッファコート層を形成した従来の半導体装置の製造方法であり、同図(a)から同図(d)は、工程順に示した要部製造工程断面図である。この製造工程は、例えば、特許文献1に示されており、パッド電極近傍の断面図を示す。
金属膜3上に反射防止膜4を被着させた構造のパッド電極パターンを形成し(同図(a))、パッシベーション膜5となる絶縁膜を形成し(同図(b))、続いてバッファコート層となるポリイミド膜7を形成し、その後、ポリイミド膜7にボンディングパッド開口パターンを形成した後、熱処理を実施し(同図(c))、形成したポリイミドパターンをマスクに前記パッシベーション膜5および反射防止膜4を順次エッチングにて除去し、ボンディングパッド部8を形成する(同図(d))。
図3は、バッファコート層を形成した別の従来の半導体装置の製造方法であり、同図(a)から同図(d)は、工程順に示した要部製造工程断面図である。この製造工程は、例えば、特許文献2に示されており、パッド電極近傍の断面図を示す。
金属膜3にてパッド電極をパターン形成し(同図(a))、パッシベーション膜5となる絶縁膜を形成し(同図(b))、続いてバッファコート層となるポリイミド膜7を形成し、その後、ポリイミド膜7にボンディングパッド開口パターンを形成し(同図(c))、形成したポリイミドパターンをマスクに前記パッシベーション膜5をエッチングしてボンディングパッド部8を形成する(同図(d))。
図4は、図2(d)の工程に続き、バンプを形成するときの問題点を示す図であり、同図(a)はバンプ形成前のシード層であるUBM(Under Bump Metal)層を形成した後の図、同図(b)はバンプを形成した後の図、同図(c)はインナーリードとバンプを固着する時の図である。
金属膜3にてパッド電極をパターン形成し(同図(a))、パッシベーション膜5となる絶縁膜を形成し(同図(b))、続いてバッファコート層となるポリイミド膜7を形成し、その後、ポリイミド膜7にボンディングパッド開口パターンを形成し(同図(c))、形成したポリイミドパターンをマスクに前記パッシベーション膜5をエッチングしてボンディングパッド部8を形成する(同図(d))。
図4は、図2(d)の工程に続き、バンプを形成するときの問題点を示す図であり、同図(a)はバンプ形成前のシード層であるUBM(Under Bump Metal)層を形成した後の図、同図(b)はバンプを形成した後の図、同図(c)はインナーリードとバンプを固着する時の図である。
同図(a)において、ポリイミド膜7とパッシベーション膜5の間でひさし12が形成され、このひさし12には、スパッタ法で形成するUBM層9が被覆されないため、その後形成するバンプ10に形状不良が発生することがある。
同図(b)において、バンプ10を形成した後に、バンプ10をマスクにUBM層9を除去するときに、UBM層9の残渣13がポリイミド膜7上に残り、隣り合う金属膜3(パッド)間の絶縁不良を発生することがある。
同図(c)において、バンプ10とインナーリード11を固着するときに、パンプ10からポリイミド膜7に圧力が加わり、この圧力でポリイミド膜7に亀裂14が入ったり、ポリイミド膜7とパッシベーション膜5の界面で剥離が生じることがある。
このように、ポリイミド膜7に開けた開口部より大きな面積を占めるパンプ10を形成すると、同図(a)〜同図(c)のような3つの問題点が発生する。尚、図3(d)の工程に続き、バンプを形成するときでも同様の問題点が発生する。
同図(b)において、バンプ10を形成した後に、バンプ10をマスクにUBM層9を除去するときに、UBM層9の残渣13がポリイミド膜7上に残り、隣り合う金属膜3(パッド)間の絶縁不良を発生することがある。
同図(c)において、バンプ10とインナーリード11を固着するときに、パンプ10からポリイミド膜7に圧力が加わり、この圧力でポリイミド膜7に亀裂14が入ったり、ポリイミド膜7とパッシベーション膜5の界面で剥離が生じることがある。
このように、ポリイミド膜7に開けた開口部より大きな面積を占めるパンプ10を形成すると、同図(a)〜同図(c)のような3つの問題点が発生する。尚、図3(d)の工程に続き、バンプを形成するときでも同様の問題点が発生する。
これらの3つの問題点を解決するために、ポリイミド膜7に開けた開口部の大きさをパッシベーション膜5の開口部(バンプの占有面積)より大きくした例について説明する。ここでは、TAB(Tape Automated Bonding)実装した場合を例として挙げる。
図5は、TAB実装した場合の従来の半導体装置の構成図であり、同図(a)は要部平面図、同図(b)は同図(a)の要部断面図であり、チップ1からアウターリード15までに対応するものである。これは、TAB実装した場合の一般的な図である(非特許文献1参照)。
TABテープ(テープキャリア)は、125μm程度の厚みのポリイミド上に固着された銅箔をエッチングしてパターンを形成して製作される。TABテープのインナーリード11と、素子が作り込まれた半導体基板1(チップ)のパッド電極上に形成されたバンプ10とを一括ボンディングで固着する。つぎに、図5の従来の半導体装置の製造方法について説明する。
図5は、TAB実装した場合の従来の半導体装置の構成図であり、同図(a)は要部平面図、同図(b)は同図(a)の要部断面図であり、チップ1からアウターリード15までに対応するものである。これは、TAB実装した場合の一般的な図である(非特許文献1参照)。
TABテープ(テープキャリア)は、125μm程度の厚みのポリイミド上に固着された銅箔をエッチングしてパターンを形成して製作される。TABテープのインナーリード11と、素子が作り込まれた半導体基板1(チップ)のパッド電極上に形成されたバンプ10とを一括ボンディングで固着する。つぎに、図5の従来の半導体装置の製造方法について説明する。
図6は、図5の従来の半導体装置の製造方法であり、同図(a)から同図(f)は、工程順に示した要部製造工程断面図である。この製造工程は、パッド電極近傍の断面図を示す。
素子が作り込まれた半導体基板1上に絶縁膜2を介して、パッド電極となる金属膜3である、例えば、Al−Si−Cu膜を800nmの厚さで形成し、さらに、この金属膜3上に反射防止膜4となる金属膜である、例えば、TiN膜を20nmの厚さで形成し、これら形成した金属膜3および反射防止膜4をフォトリソグラフィおよびエッチング技術を用いて加工し、図示しない金属配線およびパッド電極(ここでは金属膜3である)をパターン形成する(同図(a))。
つぎに、金属配線およびパッド電極上にプラズマCVD法によりパッシベーション膜5となるシリコン窒化膜を1000nmの厚さで形成する(同図(b))。
素子が作り込まれた半導体基板1上に絶縁膜2を介して、パッド電極となる金属膜3である、例えば、Al−Si−Cu膜を800nmの厚さで形成し、さらに、この金属膜3上に反射防止膜4となる金属膜である、例えば、TiN膜を20nmの厚さで形成し、これら形成した金属膜3および反射防止膜4をフォトリソグラフィおよびエッチング技術を用いて加工し、図示しない金属配線およびパッド電極(ここでは金属膜3である)をパターン形成する(同図(a))。
つぎに、金属配線およびパッド電極上にプラズマCVD法によりパッシベーション膜5となるシリコン窒化膜を1000nmの厚さで形成する(同図(b))。
つぎに、フォトリソグラフィおよびエッチング技術にてパッシベーション膜5を開口し、このときのフォトレジスト6をそのまま再度マスクとして使い、反射防止膜4であるTiN膜をドライエッチングにて除去し、ボンディングパッド部8(パッド電極(金属膜3)が露出した箇所)を形成する(同図(c))。
つぎに、マスクとして用いたフォトレジスト6を除去し、プラズマダメージ回復のために400℃程度でアニール処理を実施する(同図(d))。
つぎに、この半導体基板1上にポリイミド液を滴下、回転塗布し、バッファコート層となるポリイミド膜7を形成し、このポリイミド膜7を露光・現像し、パッシベーション膜5の開口部5a(ボンディングパッド部8)よりも大きくポリイミド膜7を開口する。その後、ポリイミド膜7を硬化するために熱処理を行う(同図(e))。
つぎに、マスクとして用いたフォトレジスト6を除去し、プラズマダメージ回復のために400℃程度でアニール処理を実施する(同図(d))。
つぎに、この半導体基板1上にポリイミド液を滴下、回転塗布し、バッファコート層となるポリイミド膜7を形成し、このポリイミド膜7を露光・現像し、パッシベーション膜5の開口部5a(ボンディングパッド部8)よりも大きくポリイミド膜7を開口する。その後、ポリイミド膜7を硬化するために熱処理を行う(同図(e))。
つぎに、UBM層9を形成し、その上にバンプ10を形成し、その後、このバンプ10をマスクに不要のUBM層9を除去する。続いて、インナーリード11とバンプ10を固着する(同図(f))。
図4で説明した問題点を解決するために、図6では半導体基板1上に形成されるバッファコート層となるポリイミド膜の開口部7aをパッシベーションの開口部5aよりも大きくする。こうすると、バンプを形成する箇所のUBM層9はパッシベーション膜5上に形成されるため、図4(a)のようなひさし12はなく、バンプ10の形状不良は発生しない。また、パッシベーション膜5上にはUBM層の残渣13は発生しないため、隣り合う金属膜3の間の絶縁不良は発生はない。また、バンプ10とインナーリード11を固着するとき、ポリイミド膜7はバンプ10から圧力を受けないために、ポリイミド膜7に亀裂が導入されることはなく、またポリイミド膜7の剥離も発生しない。このように、前記の3つの問題点が全てが解決される。
特開平10−92926号公報
特開平4−179124号公報
香山晋 成瀬邦彦著、「VLSI パッケージング技術(上)」、日経BP社出版、1993年5月31日、pp79
図4で説明した問題点を解決するために、図6では半導体基板1上に形成されるバッファコート層となるポリイミド膜の開口部7aをパッシベーションの開口部5aよりも大きくする。こうすると、バンプを形成する箇所のUBM層9はパッシベーション膜5上に形成されるため、図4(a)のようなひさし12はなく、バンプ10の形状不良は発生しない。また、パッシベーション膜5上にはUBM層の残渣13は発生しないため、隣り合う金属膜3の間の絶縁不良は発生はない。また、バンプ10とインナーリード11を固着するとき、ポリイミド膜7はバンプ10から圧力を受けないために、ポリイミド膜7に亀裂が導入されることはなく、またポリイミド膜7の剥離も発生しない。このように、前記の3つの問題点が全てが解決される。
しかし、図6(e)の工程では、パッシベーション膜5を開口し、パッド電極となる金属膜3であるAl−Si−Cu膜が表面に露出した状態で、ポリイミド膜7を全面に被覆し、その後、ポリイミド膜の開口部7aを露光・現像で形成する。
ポリイミド膜の開口部7aを形成するための現像処理はアルカリ現像液(TMAH:Tetramethyl Ammonium Hydroxide)で行う。このアルカリ現像液にAlは溶解するので、現像時間が長くなると、露出したAl−Si−Cu膜であるボンディングパッド部8は変色したり、腐蝕したりする。またpn接合部の光起電力効果によりAlとアルカリ現像液との反応が加速され露出したボンディングパッド部8が変色したり、腐蝕することもある。また、ボンディングパッド部8にポリイミド膜7の残渣が発生しないように、特に、ウェハの直径が大きくなると、ポリイミド膜7の現像時間は長めに設定されることが一般的であり、ボンディングパッド部8が変色したり、腐蝕し易い状態となる。
ポリイミド膜の開口部7aを形成するための現像処理はアルカリ現像液(TMAH:Tetramethyl Ammonium Hydroxide)で行う。このアルカリ現像液にAlは溶解するので、現像時間が長くなると、露出したAl−Si−Cu膜であるボンディングパッド部8は変色したり、腐蝕したりする。またpn接合部の光起電力効果によりAlとアルカリ現像液との反応が加速され露出したボンディングパッド部8が変色したり、腐蝕することもある。また、ボンディングパッド部8にポリイミド膜7の残渣が発生しないように、特に、ウェハの直径が大きくなると、ポリイミド膜7の現像時間は長めに設定されることが一般的であり、ボンディングパッド部8が変色したり、腐蝕し易い状態となる。
ボンディングパッド部8が変色したり、腐食したりすると、ボンディングパッド部8に形成されるバンプ10とボンディングパッド部8との固着の信頼性が低下する。
この発明の目的は、前記の課題を解決して、ボンディングパッド部の変色や腐蝕を防止して、ボンディングパッド部とバンプとの固着の信頼性を高めることができる半導体装置の製造方法を提供することである。
この発明の目的は、前記の課題を解決して、ボンディングパッド部の変色や腐蝕を防止して、ボンディングパッド部とバンプとの固着の信頼性を高めることができる半導体装置の製造方法を提供することである。
前記の目的を達成するために、半導体基板上にパッド電極である金属膜と、該金属膜上に反射防止膜をそれぞれ形成する工程と、該反射防止膜に前記反射防止膜が露出する開口部を形成する工程と、該開口部および前記パッシベーション膜上にポリイミド膜を形成し、該ボリイミド膜に前記パッシベーション膜の開口部が露出する開口部を形成する工程と、前記パッシベーション膜をマスクに前記反射防止膜を除去し、ボンディングパッド部を形成する工程とを有する製造方法とする。
また、前記ポリイミド膜の開口部が、前記ボンディングパッド部より大きいとよい。
また、前記ポリイミド膜の開口部端と、前記ボンディングパッド部端の間の距離が10μm以上で、50μm以下であるとよい。
また、前記ポリイミド膜の開口部が、前記ボンディングパッド部より大きいとよい。
また、前記ポリイミド膜の開口部端と、前記ボンディングパッド部端の間の距離が10μm以上で、50μm以下であるとよい。
この発明によれば、バッファコート層であるポリイミド膜の開口部がボンディングパッド開口部よりも大きくした場合においても、パッド電極となる金属膜がポリイミド膜を加工する工程において、アルカリ現像液に直接さらされないようにすることで、パッド電極の変色や腐蝕を防止することができる。変色や腐蝕が防止されることで、バンプとボンデングパッド部との固着の信頼性を高めることができる。
この発明の実施の形態は、TAB実装などにおいて、パッド電極上のポリイミド膜(バッファコート層)の開口部を形成した後に、パッド電極上に形成した反射防止膜を除去することでパッド電極の表面が変色、腐食することを防止することと、ポリイミド膜の開口部をボンディングパッド部より大きく形成して、ポリイミド膜がインナーリードで圧接されるのを防止することである。以下の説明では、従来構造と同一部位には同一の符号を付した。
図1は、この発明の一実施例の半導体装置の製造方法を示す図であり、同図(a)から同図(f)は工程順に示した要部製造工程断面図である。これらの図はパッド電極近傍の断面図である。
素子が作り込まれた半導体基板1上に絶縁膜2を介して、パッド電極となる金属膜3、例えば、Al−Si−Cu膜を厚さ800nmで形成し、さらに、この金属膜3上に反射防止膜4となる、例えば、TiN膜を厚さ20nmで形成する。金属膜3および反射防止膜4をフォトリソグラフィおよびエッチング技術を用いて加工し、図示しない金属配線およびパッド電極をパターン形成する。ここで示す金属膜3がパッド電極となる(同図(a))。
つぎに、金属配線およびパッド電極上を含む基板全面にプラズマCVD法によりパッシベーション膜5となるシリコン窒化膜を厚さ1000nmで形成する(同図(b))。
素子が作り込まれた半導体基板1上に絶縁膜2を介して、パッド電極となる金属膜3、例えば、Al−Si−Cu膜を厚さ800nmで形成し、さらに、この金属膜3上に反射防止膜4となる、例えば、TiN膜を厚さ20nmで形成する。金属膜3および反射防止膜4をフォトリソグラフィおよびエッチング技術を用いて加工し、図示しない金属配線およびパッド電極をパターン形成する。ここで示す金属膜3がパッド電極となる(同図(a))。
つぎに、金属配線およびパッド電極上を含む基板全面にプラズマCVD法によりパッシベーション膜5となるシリコン窒化膜を厚さ1000nmで形成する(同図(b))。
つぎに、フォトリソグラフィおよびエッチング技術により、フォトレジスト6をマスクにパッシベーション膜5に開口部5aを形成する(同図(c))。
つぎに、マスクとして使ったフォトレジスト6を除去し、その後、プラズマダメージ回復のため400℃程度でアニール処理を実施する(同図(d))。
つぎに、この半導体基板1上にポリイミド液を滴下、回転塗布し、厚さ12μmのバッファコート層となるポリイミド膜7を形成する。このポリイミド膜7を露光・現像し、開口部5aよりも大きくポリイミド膜の開口部7aを形成し、ポリイミド膜7を硬化させるため熱処理を実施する。このとき現像時間が長くなってもポリイミド膜の開口部7aの金属膜3は反射防止膜4でカバーされており、金属膜3(Al−Si−Cu膜)は露出しない。そのため、ポリイミド膜の開口部7aの金属膜3(ボンディングパッド部8)の変色や腐蝕は発生しない(同図(e))。
つぎに、マスクとして使ったフォトレジスト6を除去し、その後、プラズマダメージ回復のため400℃程度でアニール処理を実施する(同図(d))。
つぎに、この半導体基板1上にポリイミド液を滴下、回転塗布し、厚さ12μmのバッファコート層となるポリイミド膜7を形成する。このポリイミド膜7を露光・現像し、開口部5aよりも大きくポリイミド膜の開口部7aを形成し、ポリイミド膜7を硬化させるため熱処理を実施する。このとき現像時間が長くなってもポリイミド膜の開口部7aの金属膜3は反射防止膜4でカバーされており、金属膜3(Al−Si−Cu膜)は露出しない。そのため、ポリイミド膜の開口部7aの金属膜3(ボンディングパッド部8)の変色や腐蝕は発生しない(同図(e))。
つぎに、パッシベーション膜5をマスクに反射防止膜4であるTiN膜を異方性ドライエッチングにて除去してボンディングパッド部8を形成する。このときマスクとして作用したパッシベーション膜5が露出した箇所は200nm程度エッチングされ薄くなる。異方性ドライエッチングの際にボンディングパッド部8に付着した反応性生成物を有機アミン系薬品によるウェット処理で除去する。その後、UBM層9を形成し、その上にバンプ10を形成し、このバンプ10をマスクに不要のUBM層9を除去する。続いて、インナーリード11とバンプ10を固着する(同図(f))。
前記の同図(e)の工程において、前記のポリイミド膜の開口部端7bと前記ボンディングパッド部端8aの間の距離Lを10μm以上で、50μm以下とする。10μm未満では、ポリイミド膜7上に付着したUBM層の残渣13がバンプ10に近づき過ぎて、隣り合う金属膜3の間の絶縁を低下させることがある。また、TAB実装時にインナーリード11とバンプ10を固着させる場合、位置ずれによりポリイミド膜7にインナーリード11が接触して、ポリイミド膜7に亀裂を生じることがある。一方、50μmを超えるとポリイミド膜7が形成されない面積が増大してバッファ効果が弱まることがある。通常、ポリイミド膜の開口部7aの形状はボンディングパット部8の形状と相似形で四角形であるため、ポリイミド膜の開口部7aの辺とボンディングパッド部8の辺の間隔が10μm以上で50μm以下ということになる。
前記の同図(e)の工程において、前記のポリイミド膜の開口部端7bと前記ボンディングパッド部端8aの間の距離Lを10μm以上で、50μm以下とする。10μm未満では、ポリイミド膜7上に付着したUBM層の残渣13がバンプ10に近づき過ぎて、隣り合う金属膜3の間の絶縁を低下させることがある。また、TAB実装時にインナーリード11とバンプ10を固着させる場合、位置ずれによりポリイミド膜7にインナーリード11が接触して、ポリイミド膜7に亀裂を生じることがある。一方、50μmを超えるとポリイミド膜7が形成されない面積が増大してバッファ効果が弱まることがある。通常、ポリイミド膜の開口部7aの形状はボンディングパット部8の形状と相似形で四角形であるため、ポリイミド膜の開口部7aの辺とボンディングパッド部8の辺の間隔が10μm以上で50μm以下ということになる。
ここではパッド電極となる金属膜3をAl−Si−Cu膜で形成したが、Al−Si膜でもAl−Cu膜でもよい。さらに、金属膜3はバリアメタルを用いた積層構造であってもよい。
また、パッシベーション膜5をシリコン窒化膜で形成したが、シリコン酸化膜とシリコン窒化膜との積層膜であっても構わない。
また、副次的効果として、ボンディングパッド部8近傍ではパッシベーション膜5のみの段差となるため、ポリイミド膜7とパッシベーション膜5を合わせた段差より大幅に段差が緩和される。そのため、バンプ10を形成する時に必要となるUBM膜9のステップカバレッジを良好にすることができる。
また、パッシベーション膜5をシリコン窒化膜で形成したが、シリコン酸化膜とシリコン窒化膜との積層膜であっても構わない。
また、副次的効果として、ボンディングパッド部8近傍ではパッシベーション膜5のみの段差となるため、ポリイミド膜7とパッシベーション膜5を合わせた段差より大幅に段差が緩和される。そのため、バンプ10を形成する時に必要となるUBM膜9のステップカバレッジを良好にすることができる。
1 半導体基板
2 絶縁膜
3 金属膜
4 反射防止膜
5 パッシベーション膜
5a パッシベーション膜の開口部
6 フォトレジスト
7 ポリイミド膜
7a ポリイミド膜の開口部
7b ポリイミド膜の開口部端
8 ボンディングパッド部
8a ボンディングパッド部端
9 UBM膜
10 バンプ
11 インナーリード
12 ひさし
13 残渣
14 亀裂
L ポリイミド膜の開口部端とボンディングパッド部端の間の距離
2 絶縁膜
3 金属膜
4 反射防止膜
5 パッシベーション膜
5a パッシベーション膜の開口部
6 フォトレジスト
7 ポリイミド膜
7a ポリイミド膜の開口部
7b ポリイミド膜の開口部端
8 ボンディングパッド部
8a ボンディングパッド部端
9 UBM膜
10 バンプ
11 インナーリード
12 ひさし
13 残渣
14 亀裂
L ポリイミド膜の開口部端とボンディングパッド部端の間の距離
Claims (3)
- 半導体基板上にパッド電極である金属膜と、該金属膜上に反射防止膜をそれぞれ形成する工程と、該反射防止膜上にパッシベーション膜を形成する工程と、該パッシベーション膜に前記反射防止膜が露出する開口部を形成する工程と、該開口部および前記パッシベーション膜上にポリイミド膜を形成し、該ポリイミド膜に前記パッシベーション膜の開口部が露出する開口部を形成する工程と、前記パッシベーション膜をマスクに前記反射防止膜を除去し、ボンディングパッド部を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 前記ポリイミド膜の開口部が、前記ボンディングパッド部より大きいことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ポリイミド膜の開口部端と、前記ボンディングパッド部端の間の距離が10μm以上で、50μm以下であることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004175484A JP2005353980A (ja) | 2004-06-14 | 2004-06-14 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005353980A true JP2005353980A (ja) | 2005-12-22 |
Family
ID=35588165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004175484A Pending JP2005353980A (ja) | 2004-06-14 | 2004-06-14 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005353980A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009117464A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Kyocera Corp | 半導体素子及び該半導体素子の実装構造体 |
JP4865913B2 (ja) * | 2009-02-04 | 2012-02-01 | パナソニック株式会社 | 半導体基板構造及び半導体装置 |
CN104326441A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-02-04 | 中国科学院电子学研究所 | Soi片过孔内金属焊盘的制作方法 |
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2004
- 2004-06-14 JP JP2004175484A patent/JP2005353980A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009117464A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Kyocera Corp | 半導体素子及び該半導体素子の実装構造体 |
JP4865913B2 (ja) * | 2009-02-04 | 2012-02-01 | パナソニック株式会社 | 半導体基板構造及び半導体装置 |
US8378505B2 (en) | 2009-02-04 | 2013-02-19 | Panasonic Corporation | Semiconductor substrate structure and semiconductor device |
CN104326441A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-02-04 | 中国科学院电子学研究所 | Soi片过孔内金属焊盘的制作方法 |
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