JP2005351975A - 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 - Google Patents

配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005351975A
JP2005351975A JP2004170105A JP2004170105A JP2005351975A JP 2005351975 A JP2005351975 A JP 2005351975A JP 2004170105 A JP2004170105 A JP 2004170105A JP 2004170105 A JP2004170105 A JP 2004170105A JP 2005351975 A JP2005351975 A JP 2005351975A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
alignment film
area
drawing area
alignment layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004170105A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiro Usui
隆寛 臼井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2004170105A priority Critical patent/JP2005351975A/ja
Priority to US11/098,553 priority patent/US20050270328A1/en
Priority to TW094115252A priority patent/TW200540535A/zh
Priority to KR1020050040021A priority patent/KR100720348B1/ko
Priority to CNB2005100737803A priority patent/CN100445843C/zh
Publication of JP2005351975A publication Critical patent/JP2005351975A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Abstract

【課題】乾燥後の膜厚の均一度を高めること。
【解決手段】ガラス基板３０上における所望描画領域よりも小面積の描画領域２１に対して、インクジェットヘッドから配向膜インクを吐出させるステップと、描画領域２１の周囲である周囲描画領域２２に対して、インクジェットヘッドから配向膜インクを吐出させるステップと、周囲描画領域２２の周囲である周囲描画領域２３に対して、インクジェットヘッドから配向膜インクを吐出させるステップとを含み、周縁部である周囲描画領域２３における乾燥後の配向膜インクの隆起を低減する。
【選択図】 図２

Description

本発明は、配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法に関するものであり、特に、乾燥後の膜厚の均一度を高めることができる配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法に関するものである。
従来より、インクジェット式の描画装置は、副走査方向に多数のノズルを備えたインクジェットヘッドを有しており、このインクジェットヘッドをキャリッジ機構によって主走査方向に移動させ、描画を行う装置である。
また、描画装置は、文字や絵画・写真の印刷ばかりでなく、カラー液晶装置やカラーエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ装置に用いられるカラーフィルタの製造にも広く応用されている（特許文献１参照）。
インクジェット式の描画装置では、ホストコンピュータから入力された描画データを展開したドットパターンデータに基づいて、インクジェットヘッドの各ノズルからインクを所定のタイミングで吐出させ、これらの各インク滴がガラス基板等の描画媒体に塗布されることにより、描画が行われる。
図３は、従来の描画装置を用いた描画方法を説明する平面図およびＡ−Ａ’線視断面図である。以下では、ガラス基板に配向膜インクを塗布し、所定形状、所定膜厚（例えば、５００Å）の配向膜を形成する場合について説明する。同図において、描画装置は、インクジェットヘッドから、ガラス基板１における四角形状の描画領域２に対して、配向膜インクを吐出させる。ここで、配向膜インクの組成は、溶剤（γブチルラクトン）が９８％、固形分（ポリイミド）が２％とされている。また、描画領域２は、横サイズが１１ｍｍ、縦サイズが１６．５ｍｍとされている。
四角形状の描画領域２に対して、配向膜インクが塗布されると、配向膜インクは、図４に示した第１段階、第２段階および第３段階を経て、乾燥される。すなわち、第１段階は、ガラス基板１の描画領域２に配向膜インクが塗布された直後である。つぎに、第２段階では、周縁部２ａが中央部２ｂよりも先に乾燥がすすみ（溶剤が蒸発）、配向膜インクにおける濃度勾配が生じる。これにより、濃度が低い中央部２ｂから濃度が高い周縁部２ａへ未乾燥の配向膜インクが移動し、周縁部２ａが中央部２ｂに比して濃度がさらに高まる。
ここで、単位時間あたりの配向膜インクの濃度変化率は、濃度をＣ、拡散係数をＫ、時間をｔ、配向膜インクの厚みをｙ、配向膜インクの濡れ広がりの距離をｘとするとつぎの（１）式で表される。
∂Ｃ/∂ｔ＝Ｋ（∂2Ｃ／∂ｘ2＋∂2Ｃ／∂ｙ2）・・・・（１）
つぎに、第３段階では、周縁部２ａおよび中央部２ｂが乾燥され、周縁部２ａの濃度が高いため、中央部２ｂに比して隆起した状態とされる。例えば、図３に示したように、周縁部２ａの隆起部分の幅Ｗ１は、５０００Åである。隆起高さＨ１は、３０００Åである。
特開平９−１３８４１０号公報
ところで、従来の描画装置においては、図４に示したように、ガラス基板１に塗布された配向膜インクの乾燥がすすむに従って、周縁部２ａが中央部２ｂに比して隆起するため、膜厚の均一度が低いという問題があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、乾燥後の膜厚の均一度を高めることができる配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、基板上に所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、配向膜インクを吐出させる第１のインク吐出手段と、前記描画領域の周囲に、前記配向膜インクを吐出させる第２のインク吐出手段と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明は、基板上に所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、配向膜インクを吐出させる第１のインク吐出工程と、前記描画領域の周囲に、前記配向膜インクを吐出させる第２のインク吐出工程と、を含むことを特徴とする。
また、本発明は、所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、インクを吐出させる第１のインク吐出手段と、前記描画領域の周囲に、前記インクを吐出させる第２のインク吐出手段と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明は、所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、インクを吐出させる第１のインク吐出工程と、前記描画領域の周囲に、前記インクを吐出させる第２のインク吐出工程と、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、インクを吐出させ、描画領域の周囲に、インクを吐出させることとしたので、従来のように、一度に所望描画領域に対して、インクを吐出させる場合に比して、周縁部の隆起が軽減され、乾燥後の膜厚の均一度を高めることができる。
以下に、本発明にかかる配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。
図１は、本発明にかかる一実施例の構成を示すブロック図である。同図には、インクジェット式の描画装置１０が図示されている。この描画装置１０において、インクジェットヘッド１１は、副走査方向に多数のノズルを備え、例えば、ガラス基板３０に対して、配向膜インク２０を吐出する機能を備えている。
キャリッジ機構１２は、インクジェットヘッド１１を主走査方向に移動させる機能を備えている。制御部１３は、ホストコンピュータ（図示略）より入力された描画データＤを展開したドットパターンデータに基づいて、インクジェットヘッド１１の各ノズルから配向膜インク２０を吐出させるための制御や、キャリッジ機構１２の制御を行う機能を備えている。
図２は、一実施例における描画方法を説明する平面図およびＢ−Ｂ’線視断面図である。以下では、ガラス基板３０に配向膜インク２０（図１参照）を中央部から外側にかけて複数回（同図では、３回）に亘って塗布し、所定形状（例えば、四角形状）であり、均一度が高い膜厚の配向膜を形成する場合について説明する。
図１に示した描画データＤが制御部１３に入力されると、制御部１３は、描画データＤをドットパターンに展開した後、第１段階として、インクジェットヘッド１１から、図２に示したガラス基板３０における四角形状の描画領域２１に対して、配向膜インク２０を吐出させる。これにより、描画領域２１には、配向膜インク２０が塗布される。この描画領域２１は、横サイズが５ｍｍ、縦サイズが７．５ｍｍとされている。
そして、描画領域２１に塗布された配向膜インク２０の乾燥が所定量すすむと、制御部１３は、第２段階として、インクジェットヘッド１１から、描画領域２１の周囲である略ロ字形状の周囲描画領域２２に対して、配向膜インク２０を吐出させる。これにより、周囲描画領域２２には、配向膜インク２０が塗布される。この周囲描画領域２２は、横サイズが８ｍｍ、縦サイズが８ｍｍとされている。
そして、周囲描画領域２２（描画領域２１）に塗布された配向膜インク２０の乾燥が所定量すすむと、最後に、制御部１３は、第３段階として、インクジェットヘッド１１から、周囲描画領域２２の周囲である略ロ字形状の周囲描画領域２３に対して、配向膜インク２０を吐出させる。これにより、周囲描画領域２３には、配向膜インク２０が塗布される。この周囲描画領域２３は、横サイズが１１ｍｍ、縦サイズが１６．５ｍｍとされている。
そして、所定時間経過すると、描画領域２１、周囲描画領域２２および周囲描画領域２３に塗布された配向膜インク２０が乾燥する。この場合、周縁部に相当する周囲描画領域２３が隆起した状態とされるが、従来の描画方法（図４参照）に比して、隆起度合いが小さい。具体的には、図２の場合、周囲描画領域２３（周縁部）の隆起部分の幅Ｗ２は、８００Åであり、従来の５０００Åの幅Ｗ１（図３参照）に比して小さい値となっている。また、隆起高さＨ２は、５０Åであり、従来の３０００Åの隆起高さＷ１（図３参照）に比して小さい値となっている。
以上説明したように、一実施例によれば、所望描画領域よりも小面積の描画領域２１に対して、配向膜インク２０を吐出させ、描画領域２１の周囲（周囲描画領域２２、描画領域２３）に、配向膜インク２０を吐出させることとしたので、従来のように、一度に所望描画領域に対して、インクを吐出させる場合に比して、周縁部（描画領域２３）の隆起が軽減され、乾燥後の膜厚の均一度を高めることができる。
以上のように、本発明にかかる配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法は、膜厚の均一度が要求される場合に有用である。
本発明にかかる一実施例の構成を示すブロック図。 同一実施例の描画方法を説明する平面図およびＢ−Ｂ’線視断面図。 従来の描画方法を説明する平面図およびＡ−Ａ’線視断面図。 従来の描画方法における周縁部の盛り上がりプロセスを説明する断面図。
符号の説明
１０ 描画装置、１１ インクジェットヘッド、１２ キャリッジ機構、１３ 制御部、２０ 配向膜インク、２１ 描画領域、２２ 周囲描画領域、２３ 周囲描画領域、３０ ガラス基板

Claims (8)

  1. 基板上に所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、配向膜インクを吐出させる第１のインク吐出手段と、
    前記描画領域の周囲に、前記配向膜インクを吐出させる第２のインク吐出手段と、
    を備えたことを特徴とする配向膜形成装置。
  2. 前記第２のインク吐出手段は、前記描画領域の周囲に、内側から外側へ複数回に分けて前記配向膜インクを吐出させることを特徴とする請求項１に記載の配向膜形成装置。
  3. 前記第２のインク吐出手段は、所定時間間隔をおいて前記配向膜インクを吐出させることを特徴とする請求項１または２に記載の配向膜形成装置。
  4. 基板上に所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、配向膜インクを吐出させる第１のインク吐出工程と、
    前記描画領域の周囲に、前記配向膜インクを吐出させる第２のインク吐出工程と、
    を含むことを特徴とする配向膜形成方法。
  5. 所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、インクを吐出させる第１のインク吐出手段と、
    前記描画領域の周囲に、前記インクを吐出させる第２のインク吐出手段と、
    を備えたことを特徴とする描画装置。
  6. 前記第２のインク吐出手段は、前記描画領域の周囲に、内側から外側へ複数回に分けて前記インクを吐出させることを特徴とする請求項５に記載の描画装置。
  7. 前記第２のインク吐出手段は、所定時間間隔をおいて前記インクを吐出させることを特徴とする請求項５または６に記載の描画装置。
  8. 所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、インクを吐出させる第１のインク吐出工程と、
    前記描画領域の周囲に、前記インクを吐出させる第２のインク吐出工程と、
    を含むことを特徴とする描画方法。
JP2004170105A 2004-06-08 2004-06-08 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 Pending JP2005351975A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004170105A JP2005351975A (ja) 2004-06-08 2004-06-08 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法
US11/098,553 US20050270328A1 (en) 2004-06-08 2005-04-05 Orientation film forming device, orientation film forming method, drawing device, and drawing method
TW094115252A TW200540535A (en) 2004-06-08 2005-05-11 Orientation film forming device, orientation film forming method, drawing device, and drawing method
KR1020050040021A KR100720348B1 (ko) 2004-06-08 2005-05-13 배향막 형성 장치, 배향막 형성 방법, 묘화 장치 및 묘화방법
CNB2005100737803A CN100445843C (zh) 2004-06-08 2005-05-24 取向膜形成装置、取向膜形成方法、描绘装置及描绘方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004170105A JP2005351975A (ja) 2004-06-08 2004-06-08 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005351975A true JP2005351975A (ja) 2005-12-22

Family

ID=35447163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004170105A Pending JP2005351975A (ja) 2004-06-08 2004-06-08 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20050270328A1 (ja)
JP (1) JP2005351975A (ja)
KR (1) KR100720348B1 (ja)
CN (1) CN100445843C (ja)
TW (1) TW200540535A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006289239A (ja) * 2005-04-08 2006-10-26 Shibaura Mechatronics Corp 溶液の塗布装置及び塗布方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101344684B (zh) * 2007-07-12 2011-12-28 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示装置的基板及其制造方法
JP5520614B2 (ja) * 2010-01-15 2014-06-11 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置及びその製造方法
US9223176B2 (en) * 2011-09-21 2015-12-29 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Coating method for liquid crystal alignment film of TFT-LCD
CN102323695B (zh) * 2011-09-21 2013-07-03 深圳市华星光电技术有限公司 Tft-lcd用液晶配向膜的涂布方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08319476A (ja) * 1995-03-17 1996-12-03 Sumitomo Chem Co Ltd 防曇剤組成物および農業用フィルム
JPH11300951A (ja) * 1998-04-24 1999-11-02 Canon Inc インクジェット記録ヘッド及びその製造方法
JP2000301043A (ja) * 1999-04-20 2000-10-31 Hirata Corp 回転式塗布装置
JP2003245582A (ja) * 2002-02-22 2003-09-02 Seiko Epson Corp 薄膜形成装置と薄膜形成方法、液晶装置の製造装置と液晶装置の製造方法と液晶装置、及び薄膜構造体の製造装置と薄膜構造体の製造方法と薄膜構造体、及び電子機器
JP2004047578A (ja) * 2002-07-09 2004-02-12 Seiko Epson Corp 液状物の吐出方法および液状物の吐出装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2839133B2 (ja) * 1994-03-31 1998-12-16 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法及び製造装置及び液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を備えた装置の製造方法
US5935331A (en) * 1994-09-09 1999-08-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Apparatus and method for forming films
JP3998382B2 (ja) * 1999-12-15 2007-10-24 株式会社東芝 成膜方法及び成膜装置
JP3628997B2 (ja) * 2000-11-27 2005-03-16 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
KR100806803B1 (ko) * 2001-05-14 2008-02-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자의 배향막 러빙방법
JP4110815B2 (ja) * 2002-03-29 2008-07-02 株式会社日立製作所 液体塗布方法及び装置
JP4068883B2 (ja) * 2002-04-22 2008-03-26 セイコーエプソン株式会社 導電膜配線の形成方法、膜構造体の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法
TWI242663B (en) * 2002-07-09 2005-11-01 Seiko Epson Corp Jetting method of liquid, jetting apparatus of liquid, production method of substrate for electro-optical apparatus and production method of electro-optical apparatus
JP3979354B2 (ja) * 2002-11-08 2007-09-19 セイコーエプソン株式会社 膜状構成要素の製造方法
KR20040062016A (ko) * 2002-12-31 2004-07-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 배향막 형성 방법
JP3966293B2 (ja) * 2003-03-11 2007-08-29 セイコーエプソン株式会社 パターンの形成方法及びデバイスの製造方法
JP4214876B2 (ja) * 2003-09-29 2009-01-28 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板の製造装置、液晶装置、並びに液晶装置の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08319476A (ja) * 1995-03-17 1996-12-03 Sumitomo Chem Co Ltd 防曇剤組成物および農業用フィルム
JPH11300951A (ja) * 1998-04-24 1999-11-02 Canon Inc インクジェット記録ヘッド及びその製造方法
JP2000301043A (ja) * 1999-04-20 2000-10-31 Hirata Corp 回転式塗布装置
JP2003245582A (ja) * 2002-02-22 2003-09-02 Seiko Epson Corp 薄膜形成装置と薄膜形成方法、液晶装置の製造装置と液晶装置の製造方法と液晶装置、及び薄膜構造体の製造装置と薄膜構造体の製造方法と薄膜構造体、及び電子機器
JP2004047578A (ja) * 2002-07-09 2004-02-12 Seiko Epson Corp 液状物の吐出方法および液状物の吐出装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006289239A (ja) * 2005-04-08 2006-10-26 Shibaura Mechatronics Corp 溶液の塗布装置及び塗布方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1707335A (zh) 2005-12-14
KR100720348B1 (ko) 2007-05-21
TW200540535A (en) 2005-12-16
CN100445843C (zh) 2008-12-24
US20050270328A1 (en) 2005-12-08
KR20060047862A (ko) 2006-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6271165B2 (ja) インクジェットプリントヘッド、これを含む有機発光表示装置の製造装置およびその方法
TWI704016B (zh) 油墨塗佈裝置及油墨塗佈方法
WO2008032772A1 (fr) Éjecteur d'encre et procédé de commande d'éjection
JP4935152B2 (ja) 液滴吐出方法
KR100720348B1 (ko) 배향막 형성 장치, 배향막 형성 방법, 묘화 장치 및 묘화방법
TWI723612B (zh) 圖案形成裝置、圖案形成方法以及噴出資料生成方法
JP2008170571A (ja) 描画方法、着色層の形成方法、電気光学装置の製造方法
JP2019130447A (ja) 膜形成方法、膜形成装置、及び膜が形成された複合基板
JP2008164846A (ja) 液滴吐出描画装置、液滴吐出描画方法、及び、液滴吐出描画用プログラム
JP4631317B2 (ja) 配向膜形成装置および配向膜形成方法
US7370926B2 (en) Liquid droplet ejection method, head unit, liquid droplet ejection device, electro-optical device, and electronic equipment
JP2019217669A (ja) 印刷方法および印刷装置
KR102559882B1 (ko) 액적 토출 방법 및 장치
JP2006320839A (ja) 配向膜の液滴吐出方法及び液滴吐出装置
JP2014069378A (ja) 画像形成装置、画像形成方法および画像形成物
JP2004145090A (ja) 液晶表示装置の製造装置および製造方法
JP2009233612A (ja) 描画方法、インクジェットヘッド、描画装置、ならびにプリント配線板の製造方法およびカラーフィルタの製造方法
JP2007156073A (ja) カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板、電気光学装置、電子機器
JP2004246109A (ja) 画像表示装置
JP2006189550A (ja) インクジェット法を用いたマトリクス状の微小領域の描画方法
JP2004298844A (ja) 液滴の塗布方法、コンピュータプログラム、有機ｅｌパネルの製造方法、電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに液滴の塗布装置、電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器
JP2007007544A (ja) 液滴吐出方法、液滴吐出装置、電気光学装置及び電子機器
JP2010197914A (ja) パターン形成方法および装置
JP5483850B2 (ja) インクジェット記録装置及びインクジェット記録方法
JP2005144217A (ja) 薄膜形成方法、デバイスの製造方法、電気光学装置の製造方法、電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070207

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070403

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070626