JP2005340438A - 荷電粒子線描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明では、ベクトルデータ展開手段102、端点分割手段103、重なり除去手段104、ビットマップデータ生成手段105を従属的に接続し、パイプライン処理を行う。また、データをラスター単位に整列し、各処理部においてラスターを処理単位の基準とした。各処理部でパイプライン処理を行うことで高速にデータ生成が行える。また、ラスターを処理単位とすることで小規模な回路で実現できる。また、整列して処理を行うため、描画順に従って多値ビットマップデータを生成できる。よって、描画動作とデータ生成動作を大規模な記憶装置なしに並列に行える。
【選択図】 図1
Description
ベクトルデータ展開処理手段以降をハードウェアで構成し、ビットマップデータをラスター走査方向に順次生成するパイプライン処理を実現する方式について詳細に説明する。
設計データは、前記データ処理用コンピュータにて中間データに変換されており、また、ベクトルデータ展開処理手段への入力データは、線分ベクトルデータで、始点座標を基準としてラスター走査順に整列されているものとする。
前記のベクトルデータ展開手段以降の処理を、ソフトウェア処理で行う具体例を示す。WS等のコンピュータを並列処理させることにより実現する。
Claims (11)
- 多角形を線分ベクトルで表現した設計データを線分ベクトルデータに変換処理する線分ベクトルデータ展開手段と、変換された線分ベクトルデータの線分データを始点と終点の二つの端点データに端分処理する端点分割手段と、この端点データからビットマップデータを生成処理するビットマップデータ生成手段と、このビットマップデータで荷電粒子ビーム線を制御する露光制御手段と、この露光制御手段で制御される荷電粒子ビーム線の露光照射を行う光学系を有することを特徴とする荷電粒子線描画装置。
- 請求項1記載の荷電粒子線描画装置において、
前記線分ベクトルデータ展開手段、前記端点分割手段、および前記ビットマップデータ生成手段の各データ処理は、前記露光照射のラスター走査を繰り返すラスター単位で行うことを特徴とする荷電粒子線描画装置。 - 請求項2に記載された荷電粒子線描画装置において、
前記設計データは半導体などのパターン形状を含み、
前記ラスター走査の方向をX方向とし、ラスター走査を横切る方向をY方向とし、
前記線分ベクトルデータ展開手段は、前記設計データを前記Y方向に分割したラスター単位で読み、読まれる前記設計データがラスター走査のX方向に整列していることを特徴とする荷電粒子線描画装置。 - 請求項2または3に記載された荷電粒子線描画装置において、
前記線分ベクトルデータ展開手段は、圧縮処理された繰り返し性のあるデータを線分データに復元する繰り返しデータ復元処理手段を有することを特徴とする荷電粒子線描画装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線描画装置において、
繰り返し復元処理手段は、圧縮処理された繰り返し性のあるデータをラスター走査方向(X方向)座標の小さいデータから順に処理する出力データ生成手段と,出力されたデータを除く残りの繰り返しベクトルデータを再度繰り返し圧縮ベクトルデータとして再定義する残りデータ処理手段と,再定義された繰り返し圧縮ベクトルデータをラスター走査方向(X方向)に小さい順に整列して記憶する一時記憶整列手段と,前記一時記憶整列手段の出力である繰り返し圧縮ベクトルデータのラスター方向(X方向)座標データと次の入力データのラスター方向(X方向)座標データの比較を行い、小さい方を出力データ生成手段に、残りを残りデータ処理手段に選択する比較手段を含むことを特徴とする荷電粒子線描画装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線描画装置において、
前記繰り返し復元処理手段の入力データである線分ベクトルデータは、線分の種類をあらわす属性データ、始点と終点または始点と長さなどからなる線分データ、および復元処理を行うための繰り返し情報データから構成され、かつ繰り返し情報データと線分データとを参照して、出力する線分データを書き換えることにより、複数のデータを表現できるデータ構造になっていることを特徴とする荷電粒子線描画装置。 - 請求項3記載の荷電粒子線描画装置において、
前記ベクトルデータ展開手段は、斜線ベクトルデータを、ラスター走査方向(X方向)に平行な複数の線分に近似する線分データに展開処理する斜線分解手段を有することを特徴とする荷電粒子線描画装置。 - 請求項7記載の荷電粒子線描画装置において、
前記斜線分解手段は、斜線ベクトルデータから、ラスター走査方向(X方向)座標の小さい順に線分データを処理する出力データ生成手段と,残りの斜線ベクトルデータを再度斜線ベクトルデータとして再定義する残り斜線データ生成手段と,再定義された斜線ベクトルデータを、処理中ラスター内部のデータか否かを判定するラスター内判定手段と,ラスター内と判定されたラスター内データをX方向に小さい順に整列して記憶する第一の一時記憶整列手段と,ラスター外と判定されたラスター外データをX方向に小さい順に整列して記憶する第二の一時記憶整列手段と,入力データと、第一の一時記憶整列手段の出力データと、第二の一時記憶整列手段の出力データとをそれぞれ比較する比較手段を備え,ラスター番号(Y方向)が小さく(早く)、かつラスター走査方向(X方向)座標の小さいデータを選択して、前記出力データ生成手段および残り斜線データ生成手段とに入力するように構成したことを特徴とした荷電粒子線描画装置。 - 請求項7記載の荷電粒子線描画装置において、
斜線分解手段は、斜線ベクトルデータから、ラスター走査方向(X方向)座標の小さい順に処理する該出力データ生成手段によって生成された斜線分解データをラスター走査方向(X方向)座標に対して小さい順に出力する整列手段を備えることを特徴とした荷電粒子線描画装置。 - 請求項7に記載の斜線分解手段に入力されるデータは、線分ベクトルの種類を示した属性データと、線分ベクトルの始点と終点からなる線分データおよび、分解処理を行うための分解情報データから構成され、該斜線分解手段の出力データは、分解情報データを参照して、線分データを書き換えることにより、複数の斜線分解データを表現できるデータ構造となっていることを特徴とする荷電粒子線描画装置。
- 請求項2に記載の荷電粒子線描画装置おいて、
前記端点分割手段は、始点と長さからなるラスター走査方向(X方向)に平行な線分ベクトルデータを始点、終点の2つの端点データに分割する端点分割手段と、分けられた端点データをラスター走査方向(X方向)に従って小さな順に整列する手段を有することを特徴とする荷電粒子線描画装置。
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Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
JP2011027835A (ja) * | 2009-07-22 | 2011-02-10 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 描画装置 |
KR101402575B1 (ko) * | 2011-09-30 | 2014-05-30 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 직접묘화장치용 화상표시장치 및 기록매체 |
JP2014186076A (ja) * | 2013-03-22 | 2014-10-02 | Via Mechanics Ltd | 描画方法及び描画制御装置 |
JP2017517881A (ja) * | 2014-06-13 | 2017-06-29 | インテル・コーポレーション | 電子ビームスループットのためのデータ圧縮 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4814716B2 (ja) * | 2006-07-26 | 2011-11-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
TWI386030B (zh) * | 2008-06-11 | 2013-02-11 | Vatics Inc | 一種混合式連結元件標籤演算法 |
US8618518B2 (en) * | 2011-03-15 | 2013-12-31 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Apparatus and method for forming a solid immersion lens using a binary bitmap milling pattern |
JP2014049467A (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-17 | Canon Inc | 描画装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP2016076654A (ja) | 2014-10-08 | 2016-05-12 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
US9658538B2 (en) * | 2014-12-19 | 2017-05-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and technique for rasterizing circuit layout data |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5600734A (en) * | 1991-10-04 | 1997-02-04 | Fujitsu Limited | Electron beam tester |
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US4837447A (en) * | 1986-05-06 | 1989-06-06 | Research Triangle Institute, Inc. | Rasterization system for converting polygonal pattern data into a bit-map |
JPS6394623A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-25 | Hitachi Ltd | 描画装置 |
US4882683B1 (en) * | 1987-03-16 | 1995-11-07 | Fairchild Semiconductor | Cellular addrssing permutation bit map raster graphics architecture |
JPH03189874A (ja) | 1989-12-20 | 1991-08-19 | Fujitsu Ltd | 図形処理装置 |
JPH04286314A (ja) | 1991-03-15 | 1992-10-12 | Fujitsu Ltd | 露光装置における多角形図形の分割方法 |
AU5410294A (en) | 1992-11-02 | 1994-05-24 | Etec Systems, Inc. | Rasterizer for a pattern generation apparatus |
JP3549282B2 (ja) * | 1995-04-28 | 2004-08-04 | 株式会社ルネサステクノロジ | 荷電ビーム描画データ作成方法およびその作成装置 |
US5689255A (en) * | 1995-08-22 | 1997-11-18 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for compressing and decompressing image data |
US5971587A (en) * | 1997-08-01 | 1999-10-26 | Kato; Kiroku | Package and mail delivery system |
SE516914C2 (sv) * | 1999-09-09 | 2002-03-19 | Micronic Laser Systems Ab | Metoder och rastrerare för högpresterande mönstergenerering |
JP4017935B2 (ja) | 2002-07-30 | 2007-12-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | マルチビーム型電子線描画方法及び装置 |
JP2004200351A (ja) | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Hitachi Ltd | 露光装置及び露光方法 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011027835A (ja) * | 2009-07-22 | 2011-02-10 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 描画装置 |
KR101402575B1 (ko) * | 2011-09-30 | 2014-05-30 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 직접묘화장치용 화상표시장치 및 기록매체 |
US9224226B2 (en) | 2011-09-30 | 2015-12-29 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Image display device for direct drawing apparatus, and recording medium |
JP2014186076A (ja) * | 2013-03-22 | 2014-10-02 | Via Mechanics Ltd | 描画方法及び描画制御装置 |
JP2017517881A (ja) * | 2014-06-13 | 2017-06-29 | インテル・コーポレーション | 電子ビームスループットのためのデータ圧縮 |
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