JP2005336101A - フェニルオキサジアゾール類の製造法 - Google Patents
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Abstract
Description
に着目してアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等について種々検討した結果、
式(1)
式(2)
高収率で工業的に有利に得られることを見い出し、本発明を完成させた。
本発明において、式(1)で示されるベンズアミドオキシム類としては、例えば
ニトロベンズアミドオキシム、クロロベンズアミドオキシム等が挙げられる。
酸触媒 の使用量は特に制限はないが、式(1)で示されるベンズアミドオキシム類に対して0.1〜50重量%、好ましくは1〜20重量%である。
い。
p−ニトロベンズアミドオキシム25.3g(0.14mol)をオルト蟻酸エチル166.6g(1.12mol)に混合し、この溶液に三フッ化ホウ素エーテル錯体化合物2ml加える。得られた混合物を室温で12時間攪拌下に反応した。反応終了後LCにて分析したところ原料であるp−ニトロベンズアミドオキシムのピークは消失していた。反応終了後、5℃まで冷却し、生成した白色結晶を濾取し、、乾燥して純度99.5wt%の3−(4−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールが21.0g得られた。収率は78.5%であった。
p−ニトロベンズアミドオキシム20.0g(0.11mol)、オルト蟻酸エチル32.8g(0.22mol)、酢酸エチル100gを混合し、98%硫酸8gを20℃〜30℃で滴下した。滴下終了後、反応液を同温度で攪拌したところ、反応溶液が固化した。その後、酢酸エチルを更に100g追加し、12時間反応させた。反応終了後LCにて分析したところ、原料であるp−ニトロベンズアミドオキシムの仕込み量の47%が原料のまま残存していた。
p−ニトロベンズアミドオキシム20.0g(0.11mmol)、オルト蟻酸エチル32.8g(0.22mol)、メチルイソブチルケトン100gを混合し、98%硫酸8gを20℃〜30℃で滴下した。滴下終了後、反応液を同温度で12時間反応させた。反応終了後LCにて分析したところ、原料であるp−ニトロベンズアミドオキシムの仕込み量の99%が原料のまま残存していた。
Claims (3)
- オルト蟻酸エステルがオルト蟻酸エチルであり、アルコール類がイソプロピルアルコールであることを特徴とする請求項1に記載のフェニルオキサジアゾール類の製造方法
- 酸触媒が鉱酸であることを特徴とする請求項1〜2に記載のフェニルオキサジアゾール類の製造方法
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---|---|---|---|---|
JPS51105067A (ja) * | 1974-07-22 | 1976-09-17 | Squibb & Sons Inc |
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JPS51105067A (ja) * | 1974-07-22 | 1976-09-17 | Squibb & Sons Inc |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019150219A2 (en) | 2018-01-30 | 2019-08-08 | Pi Industries Ltd. | Novel oxadiazoles |
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