JP2005331657A - 光源装置、マルチビーム光走査装置、マルチビーム画像形成装置およびマルチビーム画像形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 主な目的は、高さを押さえた光源装置、マルチビーム光走査装置、マルチビーム画像形成装置およびマルチビーム画像形成方法を提供することにあり、副次的な目的は、走査光束の間隔のばらつきの調整を簡単にした光源装置、マルチビーム光走査装置、マルチビーム画像形成装置およびマルチビーム画像形成方法を提供する。
【解決手段】 各光源部12A、12Bが、各光源部12A、12Bから射出する複数の光束が主走査方向において略等しい位置で交差するように配置され、光束合成手段により、各光源部から射出する複数の光束の空間的な中心線が、主走査方向において近接して光束を合成するように配置されているので、各光源部12A、12Bの高さを低く押さえることができる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光源装置、マルチビーム光走査装置、マルチビーム画像形成装置およびマルチビーム画像形成方法に関する。

近年、オフィスや工場等のOA(Office Automation)化に伴いコンピュータ、画像形成装置、およびその周辺装置の開発が盛んに行われるようになった。以下に従来技術を列挙する。
（１）マルチビーム光源装置
この技術は、半導体レーザとカップリングレンズとの対を主走査方向に並べ、それらを支持部材により一体的に支持し（光源部）、その支持部材を副走査方向に並べ、各光源から射出される光束を近接させてビーム合成手段で射出するものであり、主走査方向に投影した場合に各光源部から射出する光束は偏向反射面（ポリゴン反射面）近傍で交差するように構成されることを特徴としている（例えば、特許文献１参照）。

（２）レーザ走査装置およびこれを備えた画像形成装置
この技術は、略平行なレーザ光を照射する２つのレーザ光源と、２つのレーザ光を近接させて、照射方向に対し所定角度（９０°）で交差する所定の放射方向に向けて、略同じ位置から放射するためのビーム合成手段とからなることを特徴とする（例えば、特許文献２参照）。

（３）マルチビーム光源ユニット及びマルチビーム走査光学装置及び画像形成装置
この技術は、射出光束が互いに平行な複数の光源から射出した光束を合成し、主走査断面内で互いに異なる角度で偏向器側へ射出させるビーム合成手段からなり、合成手段は主走査方向と平行な軸を回転軸として調整可能なことを特徴とする（例えば、特許文献３参照）。

（４）マルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
この技術は、複数の発光点を有する半導体レーザアレイ（LDA）からの射出光束を、ビーム合成手段を用いて合成することを特徴とする（例えば、特許文献４参照）。

（５）マルチビーム走査装置および画像形成装置
この技術は、開口絞りを固定することにより走査ピッチ偏差を小さくすることを特徴とする（例えば、特許文献５参照）。

（６）マルチビーム光源装置及び光走査装置
この技術は、半導体レーザとカップリングレンズとの対を主走査方向に並べ、それを支持部材により一体的に支持し（サブユニット）、その支持部材を副走査方向に並べ、各光源から射出される光束を近接させて射出するビーム合成手段とからなり、主走査方向に投影した場合に各サブユニットから射出する光束は偏向反射面（ポリゴン反射面）近傍で交差するように構成されたことを特徴とする（例えば、特許文献６参照）。
特開平１１−２３９８８号公報 特開２００２−３５０７５８号公報 特開２００３−１０７３８０号公報 特開２００３−１０７３８１号公報 特開２００１−１３４３２号公報 特開２００２−１６６５９８号公報

しかしながら、上述した従来技術には以下のような問題点がある（括弧内の数字は上述した従来技術の数字に対応する）。
（１）副走査方向に光源部を並べて重ねる構成としているため、副走査方向に高くなり、機械として高さ方向に大きくなるという課題を有している。
また、環境変動の影響による各保持部材の伸縮について考慮されていないため、各保持部材の伸縮により各光学素子の相対的な位置関係が狂い、副走査ビームピッチのズレを発生させ、画像を形成する際の劣化（濃度むら、カラー機の場合は色ズレ等）の原因となってしまう。

換言すると、レーザプリンタ等の画像形成装置の出力速度を向上させるため、一度に複数の光束により被走査媒体（感光体等の像形成体）上を光走査し画像を形成するマルチビーム光走査装置が開発されてきている。光源としては半導体レーザ(LD)を複数個組み合わせたり、複数の発光点を有する半導体レーザアレイ（LDA）を用いたりしている。
光源装置として、半導体レーザとカップリングレンズとからなる対（集合体）を複数個主走査方向に並べ、それらを支持部材（ホルダ）により一体的に支持して光源部を構成し、その支持部材を副走査方向に並べ、各光源から射出される光束を近接させた光束合成手段から射出するマルチビーム光源装置が開示されている。
これらは支持部材で光源とカップリングレンズとを支持し（光源部）、光束合成手段である合成プリズムにより各光源部から射出される光束を近接させ合成しているが、副走査方向に光源部を並べているため、副走査方向の高さが高くなり光源装置を大きくする要因となってしまい、それにより画像形成装置も大きくなってしまうという課題を有する。

各光源部は温度変動等の環境変動の影響により、光源部を構成している部材の伸縮の差による変形、ネジ等の締結部で発生する応力による歪み等により、光源とカップリングレンズとの相対的な位置関係が崩れたり、光源部同士の相対的な位置関係が崩れたりすることにより、光学特性（走査ピッチや結像位置変動）に大きな影響を及ぼす。その結果、画像形成時に濃度むらを引き起こし、画像品質の低下を引き起こす。カラー画像形成装置に用いられる場合は、色むらとなり、画像品質の低下を引き起こしてしまうという課題を有する。

一方、上述したマルチビーム光源装置を構成するサブユニットは、熱変動等の環境変動の影響により発生する、構成部品や支持部材の応力歪み・熱変形等により、光学特性（走査ピッチや結像位置変動）が大きく影響を受ける。
その結果、複数の走査ビームにより形成される走査線の各走査位置における間隔のばらつきが大きくなり、画像形成時に濃度むらとなって画像に現れ、画像品質の低下を引き起こす。このサブユニットがカラー画像形成装置に用いられる場合、濃度むらは色むらとなり、やはり画像品質の低下を引き起こす。同様に、複数の光源からの射出光束は、組み付け誤差や各光学部品および保持部品の加工誤差等により、光源から被走査媒体に至る光路上の各光学素子を通過する位置が狙いからずれ、その結果、複数の走査ビームにより形成される走査線の各走査位置における間隔のばらつきが大きくなり、上記と同様の現象が引き起こされ、ついには画像品質の低下を引き起こす。すなわち、従来技術は像高間のピッチ偏差に関しては考慮されていないのである。

（２）光源として２つの光源（パッケージ）の合成方法しか提示しておらず、本発明で提案する方法に比べると高速化に対しては不十分である。また、偏向器から光源迄の距離を長くする構成となっているため、光源装置が大きくなってしまい小型化が困難である。さらに、環境変動の影響による各保持部材の伸縮について考慮されていないため、各保持部材の伸縮により各光学素子の相対的な位置関係が狂い、副走査ビームピッチのズレを発生させ、画像を形成時の画像の劣化（濃度むら、カラー機の場合は色ズレ等）の原因となってしまう。

（３）光源としては２つの光源（パッケージ）の合成方法しか提示しておらず、本発明で提案する方法に比べると高速化に対しては不十分である。また、ビーム合成手段から射出した光束は角度を有しているため、偏向反射面上では主走査方向にずれ、光束どうしの幅が広がり、偏向反射面の面積を大きくしなければならない。そのため偏向器が大きくなってしまい、書込光学系の小型化が困難になる。また、偏向器を駆動させるためのモータも出力の大きい物が必要になり、消費電力も大きくなる。さらに、環境変動の影響による各保持部材の伸縮について考慮されていないため、各保持部材の伸縮により各光学素子の相対的な位置関係が狂い、副走査ビームピッチのズレを発生させ、画像を形成時の画像の劣化（濃度むら、カラー機の場合は色ズレ等）の原因となってしまう。

（４）偏向器と光源ユニットの間に絞りを設け、その絞りの位置で光束が交差する構成となっているため、偏向器の偏向反射面上では各光束がずれ、幅が広がり、偏向反射面の面積を大きくしなければならない。そのため偏向器が大きくなってしまい、書込光学系の小型化が困難になる。また、偏向器を駆動させるためのモータも出力の大きい物が必要になり、消費電力も大きくなる。さらに、環境変動の影響による各保持部材の伸縮について考慮されていないため、各保持部材の伸縮により各光学素子の相対的な位置関係が狂い、副走査ビームピッチのズレを発生させ、画像を形成時の画像の劣化（濃度むら、カラー機の場合は色ズレ等）の原因となってしまう。

（５）本発明のように開口絞りを積極的に回転させ走査ピッチ偏差を小さく調整しようとするものではない。

（６）像高間のピッチ偏差に関しては考慮されていない。
そこで、本発明の主な目的は、高さを押さえた光源装置、マルチビーム光走査装置、マルチビーム画像形成装置およびマルチビーム画像形成方法を提供することにあり、副次的な目的は、走査光束の間隔のばらつきの調整を簡単にした光源装置、マルチビーム光走査装置、マルチビーム画像形成装置およびマルチビーム画像形成方法を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明の請求項１記載の発明は、光源と、該光源からの発散光束を集光しカップリングする結像光学系との集合体を保持部材に複数組み並べて一体的に保持した複数個の光源部と、各光源部より射出される光束を近接させて射出する光束合成手段とを備えた光源装置において、各光源部は、各光源部から射出する複数の光束が主走査方向において略等しい位置で交差するように配置され、前記光束合成手段により、各光源部から射出する複数の光束の空間的な中心線が、主走査方向において近接して光束を合成するようにしたことを特徴とする。

請求項１記載の発明によれば、各光源部を主走査方向に配列し、光束合成手段である合成プリズムにより光源部から射出した各光束の空間的中心線を近接させることにより、光源装置の副走査方向の高さを抑えることができる。
また、各光源部から射出する光束が主走査方向において交差するように構成することにより、偏向反射面上における各光束の分離を小さくすることができ、偏向反射面を小さくすることができ、この結果、偏向器を小さくすることができる。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記各光源部は前記保持部材により共通に保持されていることを特徴とする。

請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明において、前記保持部材は、前記光束合成手段も保持することを特徴とする。
請求項２、３記載の発明によれば、光源部を共通の保持部材（ブラケット）により保持することにより、環境変動（例えば温度変動）の影響を各光源部で略同等にすることができるので、安定した画像形成を行うことができる。

請求項４記載の発明は、請求項２記載の発明において、前記各光源部を構成する部材と、前記保持部材とは略同じ線膨張係数の材質、もしくは同一の材質からなることを特徴とする。
請求項４記載の発明によれば、光源部を構成する部材および保持部材の材質を同一とするか、略同一の線膨張係数の材質とすることにより、温度変動による各部材の伸縮の比率を略等しくすることができ、温度変動が生じたときの歪みによる変形やネジ締結部で発生する応力による歪みによる変形を低減し、各光源からの射出光束の被走査面上における相対的な位置関係を維持することができる。

請求項５記載の発明は、請求項１から４のいずれか１項に記載の発明において、前記各光源部は同一の構成内容であることを特徴とする。
請求項５記載の発明によれば、各光源部の共通化を図り、組み付け調整の種類を少なくし、管理部品数の低減を図ることができる。

請求項６記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記各光源部の前記各光源は、前記各光源からの射出光束の交差点近傍を通る軸を回転軸として回転調整可能なことを特徴とする。

請求項７記載の発明は、請求項６記載の発明において、前記回転軸は、前記光源部からの各射出光束の空間的中心線に対し略平行な軸であることを特徴とする。
請求項６、７記載の発明によれば、被走査媒体上の副走査ピッチに対する、組み付け誤差等によるズレを回転調整により修正できる。

請求項８記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記光源は、複数の発光点を直線上に配列した半導体レーザアレイ、もしくは複数の発光点を２次元状に配列した面発光レーザアレイであることを特徴とする。
請求項８記載の発明によれば、発光点を直線上に共通の素子の上に配列した半導体レーザアレイや２次元的に発光点を共通の素子の上に配列した面発光レーザアレイを光源とすることにより、光源装置の多ビーム化を図ることができる。

請求項９記載の発明は、マルチビーム光走査装置において、請求項１から８のいずれか１項記載の光源装置を用いたことを特徴とする。
請求項９記載の発明によれば、マルチビーム書込が可能になる。

請求項１０記載の発明は、光源と、該光源からの発散光束を集光しカップリングする結像光学系との集合体を複数組み並べて保持部材に一体的に保持した複数個の光源部と、前記光源部からの光束を偏向する偏向器と、前記光源部と前記偏向器の間に配置されそれぞれの光源に対応して前記光源部からの光束の幅を規制する開口絞りと、前記偏向器で偏向された光束を被走査面上に光スポットとして形成する走査結像光学系とを備えたマルチビーム光走査装置において、前記光源部は、筐体内に固定され、開口絞りは各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能、もしくは主走査方向と直交する副走査方向に移動可能としたことを特徴とする。
請求項１０記載の発明によれば、開口絞りが各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能、もしくは主走査方向と直交する副走査方向に移動可能とすることにより、開口絞りの透過光束の断面積が変化し、これにより走査光束の間隔のばらつき調整が簡単になる。

請求項１１記載の発明は、光源と、該光源からの発散光束を集光しカップリングする結像光学系との集合体を保持部材に複数組み並べて一体的に保持した複数個の光源部と、該光源部からの光束を偏向する偏向器と、前記光源部と前記偏向器の間に配置され、それぞれの光源に対応して前記光源部からの光束の幅を規制する開口絞りと、前記偏向器で偏向された光束を被走査面上に光スポットとして形成する走査結像光学系とを備えたマルチビーム光走査装置において、前記光源部は、筐体内に固定され、前記各光源部における開口絞りは、一体的に構成され、各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能であり、前記被走査面上における各走査位置における走査間隔の偏差が小さくなるようにしたことを特徴とする。

請求項１２記載の発明は、請求項１１記載の発明において、前記開口絞りの回転軸は、一体的に構成された複数の開口絞りの中心を通るように構成されていることを特徴とする。
請求項１１、１２記載の発明によれば、光源部（サブユニット）を固定とし、開口絞りを回転可能もしくは副走査方向に移動可能とすることにより、各走査位置における走査線間隔のばらつきを小さくすることができ、画像品質の向上を図ることができる。

請求項１３記載の発明は、請求項１１記載の発明において、前記光源部は、複数の光源を有し、前記開口絞りはそれぞれの光源部毎に配置され、それぞれ独立に回転可能であることを特徴とする。
請求項１３記載の発明によれば、複数の開口絞りの中心を通る軸を回転軸とすることにより、複数の光束に対する各開口絞りによる光束幅の規制状態が各開口絞りにおいて、略同等の状態になるようにすることができ、効率的に走査線間隔のばらつきを低減することができる。

請求項１４記載の発明は、請求項１１から１３のいずれか１項記載の発明において、複数の光束の走査間隔を検知手段により検出し、その検出結果に基づき前記開口絞りの回転角を調整するようにしたことを特徴とする。
請求項１４記載の発明によれば、各光源部（サブユニット）ごとに走査線間隔のばらつきを調整することができる。

請求項１５記載の発明は、請求項１４記載の発明において、前記開口絞りは回転アクチュエータにより回転するようにしたことを特徴とする。

請求項１６記載の発明は、請求項１４記載の発明において、前記開口絞りの中心と前記開口絞りの回転中心との間の距離をＬとし、前記開口絞りの副走査方向の開口幅をＤとし、前記開口絞りの主走査方向からの回転角をθとしたとき、数式（１）
０．１Ｄ＞Ｌ・Sinθ …（１）
を満足するように構成したことを特徴とする。
請求項１６記載の発明によれば、開口絞りを回転する事により、光束の中心と開口絞りの中心とがずれ、そのずれにより光量の低下が発生する。開口絞りの回転角を規制することにより、光量の低下による濃度の不足を回避することができる。

請求項１７記載の発明は、請求項１から１６のいずれか１項記載のマルチビーム光走査装置を用いたことを特徴とする。
請求項１７記載の発明によれば、マルチビーム書込が可能となる。

請求項１８記載の発明は、請求項１７記載の発明において、コンピュータ等からのデータを画像信号に変換し、マルチビーム画像形成装置本体に入力する制御コントローラを搭載したことを特徴とする。
請求項１８記載の発明によれば、外部からのコントロールが可能で、マルチビーム書込が可能となる。

請求項１９記載の発明は、光源からの発散光束を集光しカップリングする複数個の光源部より射出される光束を近接させて射出するマルチビーム画像形成方法において、各光源部から射出する複数の光束を主走査方向において交差させ、光束合成手段により、各光源部から射出する複数の光束の空間的な中心線が、主走査方向において近接するように光束を合成することを特徴とする。
請求項１９記載の発明によれば、各光源部を主走査方向に配列し、光束合成手段である合成プリズムにより光源部から射出した各光束の空間的中心線を近接させることにより、光源装置の副走査方向の高さを抑えることができる。
また、各光源部から射出する光束が主走査方向において交差するように構成することにより、偏向反射面上における各光束の分離を小さくすることができ、偏向反射面を小さくすることができ、この結果、偏向器を小さくすることができる。

請求項２０記載の発明は、光源からの発散光束を集光しカップリングし、偏向器で偏向し、偏向された光束の幅を開口絞りで規制し、偏向された光束を走査結像光学系で被走査面上に光スポットとして形成するマルチビーム画像形成方法において、前記開口絞りを、各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能とするか、もしくは主走査方向と直交する副走査方向に移動可能とすることを特徴とする。

請求項２１記載の発明は、光源からの発散光束を集光しカップリングし、偏向器で光束を偏向し、偏向された光束の幅を開口絞りで規制し、偏向された光束を走査結像光学系で被走査面上に光スポットとして形成するマルチビーム画像形成方法において、前記各光源部における開口絞りを、各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能とし、前記被走査面上における各走査位置における走査間隔の偏差が小さくなるようにすることを特徴とする。
請求項２０、２１記載の発明によれば、光源部（サブユニット）を固定とし、開口絞りを回転可能もしくは副走査方向に移動可能とすることにより、各走査位置における走査線間隔のばらつきを小さくすることができ、画像品質の向上を図ることができる。

各光源部が、各光源部から射出する複数の光束が主走査方向において略等しい位置で交差するように配置され、光束合成手段により、各光源部から射出する複数の光束の空間的な中心線が、主走査方向において近接して光束を合成するように配置されているので、各光源部の高さを低く押さえることができる。

（構成・動作Ｉ）
図１は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の全体構成の一実施の形態を示す模式図であり、主走査方向から見た状態を示す。なお、各光学素子の保持部品は省略している。
半導体レーザ（LD）からなる光源1A-1と、光源1A-1からの発散光束を集光するカップリングレンズ2A-1（第１結像光学系）とからなる集合体と、光源1A-2と、光源1A-2からの発散光束を集光するカップリングレンズ2A-2とからなる集合体とが一体的に支持部材102A、102Bにより保持され、光源部12A（サブユニット1）を構成する。

図２（ａ）は図１に示したマルチビーム光走査装置の光源部周辺の拡大断面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）の矢印Ｐ１方向の矢視図であり、図２（ｃ）は図２（ａ）の矢印Ｐ２方向の矢視図である。
図２（ａ）〜（ｃ）を参照して詳細を説明すると、光源部12Aは、光源1A-1および光源1A-2を例えばアルミダイキャスト製（銅もしくは真鍮もしくは樹脂でもよい）のホルダ101-1A、101-2Aに各々接着剤（もしくは嵌合）により固定し、各ホルダ101-1A、101-2Aを裏側（図２（ａ）では光源1A-1、1A-2側）よりネジ（図では六角ボルトが示されているが、限定されるものではなく、プラスネジ、マイナスネジ、六角レンチ用ネジでもよい）200A-1、200A-2、200A-3、200A-4で共通の保持部材102Aに固定したものである（ネジの数は図に記載された数に限定されるものではない）。
ホルダ101A-1、101A-2は、図では保持部材102Aに個別に設けられているが、２つの穴の形成された１枚の板状部材を裏側よりネジをとおして間に光源1A-1、1A-2を挟み込み保持する構成としても良く、板状部材に嵌合穴を形成し各嵌合穴に各々圧入する構成としても良い。

カップリングレンズ2A-1、2A-2は、対応する光源1A-1、1A-2の発散光束をカップリングし、平行光束、収束光束、もしくは発散光束の任意の状態となるようにレンズ光軸方向の位置を合わせて、光源1A-1、1A-2と対になるように保持部材102A上に形成した突起部103AのＶ溝形状またはＵ溝形状の支持部103A-1、103A-2との隙間（接触面）にＵＶ硬化接着剤を塗布し固定される。

同様に、第２の光源部12Bは、ホルダ101B-1、101B-2に光源1B-1、1B-2を固定し、ホルダ101B-1、101B-2をネジ200A-1、200A-2、200A-3、200A-4で保持部材102Bに固定し、保持部材102B上に形成した突起部103Bの支持部にカップリングレンズ2B-1、2B-2を固定し、それらを一体的に支持し、光源部12B（サブユニット2）を構成する。

ここで、光源部12Aは、上記ホルダ101A-1、101A-2と支持部材102Aとの個別部品で形成されているが一つの部品として一体的に形成されていても良い。同様に光源部12Bは、ホルダ101B-1、101B-2と支持部材102Bの個別部品で形成されているが１つの部品として一体的に形成しても良い。
光源部12A、12Bは、主走査方向（図１中紙面と平行方向「矢印Ｐ３方向」）に光束の射出方向が異なるように並べて配置され、支持部材102A、102B上に形成された円筒部104A、104Bを各保持部材共通の保持部材105の裏側より嵌合穴106A、106Bに円筒部104A、104Bを係合させ、各支持部材102A、102B上に形成した位置決め部を基準に当接し、保持部材105の表側よりネジ201A-1、201A-2、201B-1、201B-2をとおしてそれぞれ固定する。

ここで、支持部材102A、102Bは、円筒部104A、104Bの中心を回転中心として回転可能とし、任意の位置にて固定する構造とする（例えば、保持部材105の嵌合穴106Aの周縁部に嵌合穴106Aと同軸となるようなリング溝202Aを形成しておき、そのリング溝202Aにネジ201A-1、201A-2を螺合させる。嵌合穴106Bの周縁部にも同様のリング溝202Bを形成する）。これにより光源部12A、12Bから射出する光束の配列を傾けることができる。
光源部12A、12Bを主走査方向に並べて配置することにより、特開平11-23988で開示されている光源装置に対し、保持部材105がＬ字形状に折れ曲がっているので、副走査方向の高さを低くすることが可能になる。

保持部材105には各光源1A-1、1A-2、1B-1、1B-2に対応した開口絞り3A-1、3A-2および3B-1、3B-2が設けられた板（アパーチャ）107Aおよび107B、光源1A-1、1A-2からの射出ビームの空間的中心線14Aを、光源1B-1、1B-2からの射出ビームの空間的中心線14Bに主走査方向、副走査方向共に近接させて射出するビーム合成プリズム4（光束合成手段）が支持される。

上記のように構成した保持部材105は、走査光学手段を収納する光学ハウジング（図示せず）に組み付けられ走査光学手段に複数のビームを入射せしめる。保持部材105は、直接光学ハウジングに組み付けても良く、ブラケット（図示せず）を介して組み付けても良い。

一方、光源である半導体レーザ（LD）の駆動回路が形成される基板（図示せず）が支柱（図示せず）に固定され、半導体レーザのリードをハンダづけして回路接続がなされる。
以上がマルチビーム画像形成装置用の光源装置の説明である。

次に、図１に示す第1の光源部12Aにおいて、光源1A-1から射出した光束は、開口絞り3A-1により光束の幅（光束幅）が規制され、ビーム合成プリズム4（光束合成手段）を介して（透過して）、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ5（第２結像光学系）により偏向器6（ポリゴンスキャナ）の偏向反射面6A近傍に主走査方向に長い線状に集光される。
偏向器6は回転軸6Bを中心軸として等角速度で回転しており、入射光束を等角速度的に偏向する。偏向器6と被走査媒体9との間に、第３結像光学系7（走査光学系：図中では２枚レンズ構成であるが、枚数は問わず、また反射光学系で構成しても、組み合わせて構成しても良い）を配置し、偏向反射面6Aにより偏向された光束8A-1は被走査媒体9上に光スポット10A-1を形成する。光スポット10A-1は偏向器6の回転（図中矢印Ｐ４方向）によって被走査媒体9上を、図中矢印Ｐ３方向へ光走査する。

同様に、光源1A-2からの射出した光束は、開口絞り3A-2により光束幅が規制され、ビーム合成プリズム4を介し（透過して）、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ5（第２結像光学系）により偏向器6（ポリゴンスキャナ）の偏向反射面6A近傍に主走査方向に長い線状に集光される。

ここで、開口絞り3A-1と3A-2とは別体であっても良く、一体に形成しても良い。
偏向反射面6Aにより偏向された光束8A-2は、被走査媒体9上に光スポット10A-2を形成し、光スポット10A-2は偏向器6の回転（図中矢印Ｐ４方向）によって被走査媒体9上を、図中矢印Ｐ３方向へ光走査する。
光源1A-1から射出した光束と、光源1A-2から射出した光束とは、偏向反射面6A近傍で交差するように構成する。光源1A-1から射出した光束に対し、光源1A-2から射出した光束は、光源1A-1、1A-2それぞれの射出光束の成す角φの半分の角度（φ/2）偏向器6をずらした状態で光走査するように構成する。そのように構成することにより、偏向反射面6Aにより反射した光源1A-1、1A-2それぞれから射出した光束8A-1、8A-2は、走査光学系である第３結像光学系における光路を同じくすることができ、それにより、被走査面上の走査光束の結像像面の倒れを低減でき、結像性能（像面湾曲、倍率誤差、等）の劣化を防ぐことができる。

ここで、換言すると、マルチビーム光源装置は、光束を主走査平面上に投影（照射）したときに、光源部12Aの各光源1A-1、1A-2からの射出光束が偏向器6の偏向反射面6A近傍で交差するように配置構成されているのである。
同様に、第2の光源部12Bにおいても、光源1B-1からの射出した光束は、開口絞り3B-1により光束幅が規制され、ビーム合成プリズム4を介し（反射して）、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ5（第２結像光学系）により偏向器6（ポリゴンスキャナ）の偏向反射面6A近傍に主走査方向に長い線状に集光される。
偏向反射面6Aにより偏向された光束8B-1は、被走査媒体9上に光スポット10B-1を形成し、光スポット10B-1は偏向器6の回転（図中矢印Ｐ４方向）によって被走査媒体9上を、図中矢印Ｐ３方向へ光走査する。光源1B-2から射出した光束も同様である。
また、光源部12Aと同様に、光源1B-1から射出した光束と、光源1B-2から射出した光束とは、偏向反射面6A近傍で交差するように構成し、被走査面上の走査光束の結像像面の倒れを低減し、結像性能（像面湾曲、倍率誤差、等）の劣化を防ぐ構成とする。

光源部12Aは、各光源1A-1、1A-2からの射出光束の光軸（射出軸）の交差点近傍を通る、各光軸の空間的な中心線14A（又は14Aと略平行な軸）を回転軸として回転可能な構成とする。
同様に、光源部12Bも、射出光束の光軸（射出軸）の交差点近傍を通る、各光軸の空間的な中心線14B（又は14Bと略平行な軸）を回転軸として回転可能な構成とする。このように構成することにより各光源部12A、12Bから射出する光束の配列を傾けることができる。

ビーム合成プリズム4（光束合成手段）は偏光分離膜4Aを有し、光源部12Aからの光束は偏光分離膜4Aを透過する。光源部12Bからの光束は1/2波長板13により、偏光方向を当初の状態から９０度旋回され、偏光分離膜4Aで反射されてビーム合成プリズム4から射出する。
光源部12Aからの射出光束と光源部12Bからの射出光束とは、1/2波長板13により偏光方向が９０度ずれているため、各光学素子に対する入射角（反射角）に対する透過特性および反射特性が異なり、被走査面上の各走査位置において光量に差が生じ、それにより光量むらが発生する。この光量むらは、特にカラー画像出力機においては、出力画像の濃度むらとして目立ち、画像品質が劣化してしまう。この光量むらを低減する方法としては、ビーム合成プリズム4の直後（出射側）に1/4波長板13を配置し、光束の偏光方向を４５度旋回することにより低減可能である。

同期検知光学系11は、偏向器6により偏向された光束を、ミラー11-3と同期検知用結像素子11-2とを経た後、フォトダイオード等により構成される同期検知センサー11-1に偏向光束を導く。そして光束が同期検知センサー11-1上を通過する際に同期信号を発し、同期回路（図示せず）により演算処理され、書込開始信号をあるタイミングの後発信する。
ここで言う「あるタイミング」とは、同期検知センサー11-1の検知位置から書込開始位置に光束が至るまでの時間である（但しこの間光源は発光していない）。
同期検知用結像素子11-2は、副走査方向にのみパワー（屈折力）を持つレンズ、主走査方向にのみパワーを持つレンズ、主副両方向にパワーを持つレンズのいずれでも良い。また、同期検知用結像素子11-2として、レンズの代わりに、パワーを持つ曲面ミラー等を用いても良い。また、同期検知用結像素子11-2を用いず、ミラー11-3に上述のようなパワーを持たせて同期検知センサー11-1に直接導くようにして、同期検知光学系11を構成しても良い。

図２(a)において、光源部12Aの光源1A-1、1A-2、それぞれからの射出光束の光軸15A-1、15A-2(鎖線で示す)の空間的な中心線14Aと、光源部12Bの光源1B-1、1B-2、それぞれからの射出光束の光軸15B-1、15B-2(鎖線で示す)の空間的な中心線14B（又は14Bと略平行な軸）とは、ビーム合成プリズム4以後は、図のように合成されて合成光軸AXとなる。
ビーム合成プリズム4からの射出光束は上記のように、主走査方向において近接してビーム合成プリズム4から射出する。各光源部12A、12Bとビーム合成プリズム4とは、共通のＬ字型の保持部材105に一体的に保持される。

図３は本発明のマルチビーム画像形成装置の光源部から射出する光束の副走査方向の詳細を説明するための説明図であり、副走査方向から見た状態を模式的に示す。
光源部12Aの光源1A-1、1A-2から射出する光束の射出方向は、副走査方向において略平行で、それぞれ対応するカップリングレンズ2A-1、2A-2の光軸に対して副走査方向に(互いに逆向きに)ずれており、このためビーム合成プリズム4から射出する各光束は、副走査方向において互いに角をなして射出される。光源部12Bの光源1B-1、1B-2から射出する光束も同様である。なお、図３において、副走査方向から見て、各光源1B-1、1B-2およびカップリングレンズ2A-1、2A-2、は重なるため、奥側の光源1B-2およびカップリングレンズ、2A-2は省略している。
各光源部12A、12Bは、近接して共通の保持部材105に保持することにより、温度変動等による環境変動の影響が略等しくなり、光学特性（走査ピッチや結像位置変動）に対する影響を小さくすることができる。

さらに、光源部12A、12Bを構成しているホルダ101A-1、101A-2、101B-1、101B-2と、保持部材102A、102B、光源部12A、12Bを共通に保持する保持部材105の線膨張係数が近い材質、もしくは同一の材質を用いることにより、温度変動による各部材の伸縮の比率を略等しくし、温度変動が生じたときに歪みによる変形や、ネジ締結部で発生する応力による歪みによる変形を低減し、各光源1A-1、1A-2、1B-1、1B-2からの射出光束の被走査面上における相対的な位置関係を維持できるようになる。
副走査方向において、光源である半導体レーザの各発光点どうしの位置関係と、被走査媒体９上の各走査スポットとの相対的な位置関係は、光源1A-1、1A-2、1B-1、1B-2と被走査媒体９との間にある結像系（図１の例ではカップリングレンズ、シリンドリカルレンズ5、第３結像光学系7の副走査方向の合成横倍率（β）に応じて決定され、被走査媒体上における各走査線の走査間隔（走査ピッチ）が所望の値になるように配置設定される。

図４（ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の保持部材の他の実施の形態を示し、主走査方向から見た状態を示す図であり、図４（ｂ）はその保持部材の外観斜視図である。
保持部材111は略三角柱形状を有し、その中にビーム合成プリズム4を収めるスペースを有し、ベース部112上にビーム合成プリズム4ごと配置される。この保持部材111は、図２（ａ）に示したＬ字型の保持部材105と比べて体積が大きい分だけ、光源部12Aと光源部12Bとの温度差を小さくすることができ、各光源部12A、12Bに対する温度変動による影響（膨張収縮）を等しくすることが可能になる。
なお、図２（ａ）〜（ｃ）および図３に示したように、ビーム合成プリズム4の偏光分離膜4Aに対し、光源部12A、12Bからの距離が等しくなるように配置する場合には光源部12A、12Bと全く同じ構成（同一材料）とすることができる。これより部品の共通化や、部品組み立て工程の共通化等が図れ、管理作業の低減も図れるようになる。

図５は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の保持部材および合成プリズムの他の実施の形態を示す図であり、主走査方向から見た状態を示す図である。
光源部12A、12Bは板状の保持部材112に並列して保持される。光源部12A、12Bから射出した光束15A-1、15A-2と光束15B-1、15B-2とは、ビーム合成プリズム（光束合成手段）16によりビーム合成される。
ビーム合成プリズム16は、平行四辺形断面形状の六面体部16-1と直角二等辺三角形状の五面体部16-2とを接合した台形断面形状に形成されており、六面体部16-1と五面体部16-2との間に偏光分離膜16Bを有し、光源12Aからの射出光束が偏光分離膜16Bを透過する様になっている。光源12Bからの射出光束は、1/2波長板16Cにより、偏光面を当初の状態から90度旋回され、プリズム面16Aと偏光分離膜16Bとで順次反射されてビーム合成プリズム16から射出する様に構成される。
図５に示す構成にする事により、光源部12Aと光源部12Bとを同一平面上に配置することができるため、光源である半導体レーザを駆動させるための駆動ボードを１枚構成にすることができ、構成を簡素化することが可能になる。

しかし、光源部12Bから射出した光束の光路長が、光源部12Aから射出した光束に対し、ビーム合成プリズム16のプリズム面16Aと偏光分離膜16Bとの間隔分（図５におけるＬ）だけ長くなる。よって、光源部12Aと光源部12Bとを同じ構成にし、射出する光束の交差角φを、光源部12Aと光源部12Bとにおいて同じ角度にした場合、光源部12Aから射出する光束の交差する位置と、光源部12Bから射出する光束の交差する位置との間にズレが生じてしまう。このズレにより、偏向反射面近傍でどちらか一方の光源部12A（12B）から射出した光束が交差しなくなり、結像像面の倒れが発生し、性能劣化につながるという問題がある。

上記問題を図６により説明する。
図６は本発明のマルチビーム画像形成装置のマルチビーム光走査装置に用いられるビーム合成プリズムにおける光束のズレについての説明図である。
すなわち、同図は光源装置を主走査方向から見ると共に、光路を平面上に展開した図であり、関係をわかりやすくするため、ビーム合成プリズム16の射出面16Dを基準とした模式図である。
ビーム合成プリズム16を透過する光束を射出する光源1A-1、1A-2は、射出光束が交差角φを持つように配置され、ビーム合成プリズム16E（図中波線で表示）を透過した後２つの光束は位置19にて交差する。ビーム合成プリズム16にて反射偏向する光束を射出する光源1B-1、1B-2は、射出光束が交差角φを持つように配置され、ビーム合成プリズム16Fにより反射偏向した後２つの光束は位置20にて交差する。AXは、光源1A-1、光源1A-2、光源1B-1、および光源1B-2の空間的な中心線の合成光軸である（光源1A-1、1A-2からの光束の二等分線であり、光源1B-1、1B-2からの光束の二等分線でもある。）。
ビーム合成プリズム16の実際の光路長は、光源部12Aからの距離と光源部12Bからの距離とで異なるため、実質の光路長はビーム合成プリズム16E、16Fを透過する光束の交差部間の差の様になる。反射偏向される光束は、ビーム合成プリズム16Fによる光束の浮き上がりが発生し、交差位置が伸び位置19に近づくが、ビーム合成プリズム16E、16Fによる光路長の差Ｌを埋めるほどは伸びないため、位置19と位置20とにズレが生じてしまう。
このような位置ズレに対しては、光源部12A、12Bから射出される光束の交差角φを異ならせ、交差角θ1、θ2（θ1≠θ2）とし、偏向反射面6A近傍で各光源部からの射出光束が交差するように設定することで対応できる。

図７は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の被走査面上における、各光源から射出された光束による光スポットの配置を模式的に示す図である。
各光スポットは副走査方向に走査間隔Piで配列されている。この走査間隔Piは書込密度により決定される値で、600dpiの場合は42.3μｍ、1200dpiの場合は21.2μｍである。光源部12Aからの射出光束15A-1、15A-2の光スポットを17A-1、17A-2とし、光源部12Bからの射出光束15B-1、15B-2の光スポットを17B-1、17B-2とする。このとき、17A-3、17B-3は各光源部の光スポットの中心点を示す。この中心点は、各光源部の各射出光束の光軸（射出軸）の空間的な中心線14A、14Bが、各光学系を介し被走査媒体に到達する位置である。
光源部12A、12Bは上記空間的な中心線14A、14Bを回転軸として回転可能に構成されている。つまり、中心線14Aを回転軸として光源部12Aを回転した場合、光源1A-1、1A-2の副走査方向の間隔を変えることができる。光源部12Bも同様に、光源1B-1、1B-2の副走査方向の間隔を変えることができる。

また、17A-3、17B-3は、中心線14A、14Bが、各光学系を介し被走査媒体に到達する位置であることから、光源1A-1、1A-2、1B-1、1B-2から射出した光束の光スポットは、位置17A-3および位置17B-3を中心にそれぞれ変位する事が可能であることを示す。これより副走査方向の走査間隔を変えることができる。
前述のように、副走査方向において、光源の発光点間隔と被走査媒体上での相対的な位置との関係は、間に配置された結像系の合成横倍率βにより決定される。発光点間隔の副走査方向の変化量に合成横倍率βを掛けた量、被走査媒体上の光スポット17A-1と光スポット17A-2とは中心点17A-3を中心として変位し、光スポット17B-1と光スポット17B-2とは中心点17B-3を中心として変位し、その結果走査間隔Pi1、Pi2が変化する。

さらに、合成光軸AXを中心に光源装置を回転することにより、被走査面上の光スポットの中心点17A-3、17B-3の、さらに中心点18を中心に変位させることができる。これにより、走査間隔Pi1、Pi2、Pi3すべてが変位する。よって、光源装置を回転させることと、光源部を回転させることを組み合わせることにより、走査間隔Pi1、Pi2、Pi3すべてを調整することができる。これにより、被走査媒体上の走査間隔は調整可能になる。また、空間的な中心線を回転軸とすることにより、各光源の発光点の相対的な位置を、略同じ変化量で調整する事が可能であるため、位置関係の調整を容易に行える。
光源部からの射出光束の空間的な中心線（又は略平行な軸）を回転軸として回転調整することの効果として、以下が挙げられる。
Ａ）光学素子の加工精度及び組み付け誤差等が発生すると、被走査媒体9上の走査間隔Piは狙いの間隔からずれてしまう。
そこで、光源部を射出光束の空間的な中心線を回転軸として回転可能とすることにより、光源装置構成部品の加工誤差や書込光学系を構成する各構成部品の加工誤差等を原因とする、被走査媒体上の光束の走査間隔が所望の値からずれた場合に正しい走査間隔に調整することができる。

ここで、上述した実施の形態は、1つの光源部（サブユニット）に光源である半導体レーザとカップリングレンズ（第１結像光学系）からなる集合体を2個組み合わせた場合で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、さらに多くの集合体を用いても良い。
また、上記実施の形態は光源装置として2つの光源部（サブユニット）を組み合わせた場合で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなくさらに多くの光源部を組み合わせて光源装置を構成しても良い。
Ｂ）このように複数の光源（LD）を用いて光源部を構成し、さらに光源部を複数個組み合わせることにより、被走査媒体9上を走査する光束の数を増やすことができる。光束の数を増やすことにより、本書込光学系を搭載する画像形成装置の出力速度の向上を図ることができる。また、これとは逆に出力速度を変えない場合には、偏向器の回転速度の低減を図ることができ、消費電力の低減、発熱量の低減、等環境に対し配慮した書込光学系を構成することが可能になる。

次に、出力速度の向上を図る手段として、光源や光源部を増やす以外の方法を示す。
光源に関して、上記実施の形態では半導体レーザ（LD）により説明を行ったが、「複数の発光点をモノリシックにアレイ配列した半導体レーザアレイ」（LDA）を光源として用いる事により、同等の効果を得ることができる。複数の発光点から射出する発散光束を共通のカップリングレンズによりカップリングし、その集合体を複数組合せて光源部を構成すればよい。
また、別の光源としては、「複数の発光点を２次元的にアレイ配列した面発光レーザアレイ」を用いカップリングレンズと組合せ、光源部を構成しても良い。

図８は本発明のマルチビーム画像形成装置の説明図である。
原稿31がコンタクトガラス32上に置かれ、ランプ33で照らされると、ランプ33で照射された原稿31による画像がミラーでスキャナレンズブロック34へ導かれ、ＣＣＤにより画像データとして処理される。ＣＣＤにより処理された画像データ35は、本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置36にデータ転送される。画像信号に基づいてＬＤがＯＮ／ＯＦＦを繰り返し、感光体ドラム20上を光スポットが軸方向に走査する。帯電器40により帯電された感光体ドラム20上を光スポットが走査（光走査）すると露光されて静電潜像が形成され、現像器37によりその静電潜像がトナー像として現像される。給紙トレイ38から被走査媒体としての紙が給紙ローラー39により感光体ドラム20へ導かれ、感光体ドラム20からトナー像が転写ローラー40により紙に転写される。トナー像が転写された紙は定着器41により定着され、排紙ローラー44により排紙トレイ42に排出される。感光体ドラム20は、除電・クリーナー43により除電およびクリーニングがなされ、再び帯電から露光、現像、転写、定着、および排出の工程を繰り返す。

上記マルチビーム画像形成装置によれば、光利用効率に無駄のないマルチビーム書き込みが可能な画像形成装置を形成することができる。
さらに本発明のマルチビーム画像形成装置と、電子演算装置（コンピュータ等）や画像情報通信システム（ファクシミリ等）等とをネットワークを介し接続することにより、1台の画像形成装置で複数の機器からの出力を処理する情報処理システムを形成することができる。また、ネットワーク上に複数のマルチビーム画像形成装置を接続すれば、各出力要求から各画像形成装置の状態（ジョブの混み具合、電源が入っているかどうか、故障しているかどうか等）を知ることができ、一番状態の良い（使用者の希望に一番適した）画像出力装置を選択し、出力を行うことができるようになる。

（本発明の効果・作用）
本発明は、複数の光束を被走査媒体上に光走査するマルチビーム書込光学系に関するものである。
各光源部から射出する複数の光束が主走査方向において略等しい位置で交差するように配置され、光束合成手段により、各光源部から射出する複数の光束の空間的な中心線が、主走査方向において近接して光束を合成するように配置されているので、各光源部の高さを低く押さえることができる。また、複数の光束を用いることより、1つの発光点からの光束により被走査媒体上を光走査する場合に比べ、偏向器の回転速度を下げる事ができる。偏向器の回転速度を下げることにより、偏向器による消費電力を低減でき、発熱量も下げることができる。また、偏向器を構成するモータを小さくすることができ、材料消費の削減が図れる（環境対応）。

（構成・動作II）
図９（ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の全体構成の他の実施の形態を示す模式図であり、主走査方向から見た状態を示す。図９（ｂ）は図９（ａ）に示したマルチビーム光走査装置の拡大断面図である。なお、前述した実施の形態と同様の部材には共通の符号を用いた。
半導体レーザ（LD）からなる光源1Aと、光源1Aからの発散光束を集光するカップリングレンズ2A（第１結像光学系）との集合体と、同じく半導体レーザからなる光源1Bと、光源1Bからの発散光束を集光するカップリングレンズ2Bとの集合体が一体的に支持部材102Aにより支持され、光源部12を構成する。なお光源1A及び光源1Bは、複数の発光点を有する半導体レーザアレイ（LDA）や、二次元的に配設された複数の発光点を有する垂直キャビティ面発光レーザアレイ（VCSEL）を用いて構成しても良い。

次に光源部12およびその周辺部の構造の詳細について説明する。
光源部12は、光源1Aおよび光源1Bを例えばアルミダイキャスト製のホルダ101A、101Bに各々固定され、各ホルダ101A、101Bは裏側（図では上側）よりネジ200A-1、200A-2、200A-3、200A-4をとおして共通の支持部材102Aに固定される。ホルダ101A、101Bは図では支持部材102Aに個別に設けられているが、２つの穴の形成された１枚の板状部材を裏側よりネジをとおして間に光源1A、1Bを挟み込み保持する構成としても良く、板状部材に嵌合穴を形成し各嵌合穴に各々圧入する構成としても良い。
カップリングレンズ2A、2Bは、対応する光源1A、1Bの発散光束をカップリングし、平行光束、収束光束、発散光束の任意の状態となるようにレンズ光軸方向の位置を合わせて、光源1A、1Bと対に支持部材102A上に形成した突起部103AのＶ溝形状またはＵ溝形状の支持部103A-1、103A-2との隙間（又は接触面）にＵＶ硬化接着剤を塗布し固定される。

ここで、上記ホルダ101A、101Bと支持部材102Aは、図では個別に形成されているが、１つの部品として一体的に形成しても良い。
光源部12Aは、支持部材102A上に形成された円筒部104Aを保持部材105Aの裏側より嵌合穴106Aに円筒部104Aを係合させ、支持部材102A上に形成した位置決め部を基準に当接し、保持部材105Aの表側よりネジ201A-1、201A-2をとおして固定する。

支持部材102Aは円筒部104Aの中心を回転中心として回転可能とし、任意の位置にて固定する構造とする。これにより光源部12Aから射出する光束の配列を傾けることができる。
上記のように構成した保持部材105Aは、走査光学手段を収納する光学ハウジング（図示せず）に組み付けられ走査光学手段に複数のビームを入射せしめる。保持部材105Aは、直接光学ハウジングに組み付けても良いし、ブラケットを介して組み付けても良い。
一方、光源である半導体レーザの駆動回路が形成される基板（図示せず）が支柱（図示せず）に固定され、半導体レーザのリードをハンダづけして回路接続がなされる。
以上が光源装置の説明である。

次に図９（ａ）、（ｂ）に示したマルチビーム光走査装置の動作について説明する。
光源部12において、光源1Aから射出した光束は、開口絞り3Aにより光束幅が規制され、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ5（第２結像光学系）により偏向器6（ポリゴンスキャナ）の偏向反射面6A近傍に主走査方向に長い線状に集光される。
偏向器6は回転軸6Bを軸として等角速度で矢印Ｐ４方向に回転しており、入射光束を等角速度的に偏向する。偏向器6と被走査媒体9との間に第３結像光学系7（走査光学系：図中では2枚レンズ構成であるが、枚数は問わず、また反射光学系で構成しても、組み合わせて構成しても良い）が配置されている。偏向反射面6Aにより偏向された光束8Aは、被走査媒体9上に光スポット10Aを形成する。光スポット10Aは、偏向器6の回転（図中矢印Ｐ４方向）によって被走査媒体9上を、図中矢印Ｐ３方向へ光走査する。

同様に、光源1Bから射出した光束は、開口絞り3Bにより光束幅が規制され、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ5（第２結像光学系）により偏向器6（ポリゴンスキャナ）の偏向反射面6A近傍に主走査方向に長い線状に集光される。開口絞り3Aと3Bとを一体的に形成する場合には部品点数を低減することができる。
偏向反射面6Aにより偏向された光束8Bは、被走査媒体9上に光スポット10Bを形成する。光スポット10Bは、偏向器6の回転（図中矢印Ｐ４方向）によって被走査媒体9上を、図中矢印Ｐ３方向に光走査する。
光源である半導体レーザの各発光点の相対的な位置関係は、光源と被走査面との間にある結像系（図９（ａ）、（ｂ））に示す例ではカップリングレンズ2、シリンドリカルレンズ5、第３結像光学系7の副走査方向の合成横倍率βに応じ、被走査媒体9上における各走査線の走査間隔（走査ピッチ）が所望の値になるように決定される。
光源1Aから射出した光束と、光源1Bから射出した光束とは、偏向反射面6A近傍で交差するように構成されている。光源1Aから射出した光束に対し、光源1Bから射出した光束は、光源1A、1Bそれぞれの射出光束の成す角φの半分の角度（φ/2）だけ偏向器6をずらした状態で光走査するように構成する。
偏向器6をずらした状態で光走査するように構成することにより、偏向反射面6Aにより反射した、光源1A、1Bそれぞれから射出した光束8A、8Bは、走査光学系である第３結像光学系における光路と略同じくすることができる。これにより、被走査面上の走査光束の結像像面の倒れを低減でき、各光スポットの結像性能（像面湾曲、倍率誤差、等）の劣化を防ぐことができる。

言い換えると、図９（ａ）、（ｂ）に示したマルチビーム光走査装置は、光源1A、1Bからそれぞれから射出した光束8A、8Bを主走査平面上に投影したときに、光源部12の各光源からの複数の射出光束の中心線が偏向器6の偏向反射面6A近傍で交差するように構成されている。
光源部12は、光源1A、1Bそれぞれからの射出光束の中心線（射出軸）の交差点近傍を通る、各射出軸の空間的な中心線14（又は中心線14と略平行な軸）を回転軸として回転調整後、保持部材105Aに固定する。これは各光源1A、1Bから射出する光束の配列を傾けて調整した後固定することを意味する。
同期検知光学系11は、偏向器6により偏向された光束を、ミラー11-3と同期検知用結像素子11-2とを経た後、フォトダイオード等により構成される同期検知センサー11-1に偏向光束を導く。そして光束が同期検知センサー11-1上を通過する際に同期信号を発し、同期回路（図示せず）により演算処理され、書込開始信号をあるタイミングの後発信する。

ここで言う「あるタイミング」とは、同期検知センサー11-1の検知位置から書込開始位置に光束が至るまでの時間である（但しこの間光源は発光していない）。
同期検知用結像素子11-2は、副走査方向にのみパワー（屈折力）を持つレンズ、主走査方向にのみパワーを持つレンズ、主副両方向にパワーを持つレンズのいずれを用いても良い。また、同期検知用結像素子11-2として、レンズを用いる代わりに、パワーを持つ曲面ミラー等を用いても良い。また、同期検知用結像素子11-2を用いず、ミラー11-3に上述のようなパワーを持たせて同期検知センサー11-1に直接導くようにして、同期検知光学系11を構成しても良い。
以上がマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の説明である。

ところで、図９（ａ）、（ｂ）に示したようなマルチビーム光走査装置により被走査媒体9は光走査されるが、光源1と被走査媒体9との間に配置される光学素子の影響（光学系の持つ収差、光学素子の配置誤差、等）により、各光源から射出した光束による走査線の間隔は均一にはならず、走査位置によってばらつきを持つ。このばらつき量が大きくなると、走査位置によって出力画像に濃度むらを発生させ、画像品質の低下を引き起こす。そのため、各走査位置における走査間隔のばらつき（偏差）を小さくする必要がある。

そこで本発明では、光源からの射出光束と開口絞りの中心をずらし、開口絞りにより規制される光束の重心をずらすことにより、走査位置による走査間隔のばらつきの低減を図る。
その具体的な方法としては、図１０（ａ）に示すように、開口絞り3を回転中心20として（位置3-1から位置3-2に）回転させ、光束22及び回転前の開口絞り3の中心21-1から開口絞り3をずらし、開口絞り3の中心を21-2の位置にずらす事により達成する。回転軸としては、図９に示す軸14に平行な軸を回転軸とする。
別な方法としては、図１０（ｂ）に示すように、開口絞り3を副走査方向にシフトさせて位置3-3にずらすことにより達成する方法がある。尚、図１０（ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りの説明図であり、図１０（ｂ）は変形例を説明するための説明図である。

開口絞りをずらす事による効果を図１４に示す。
図１４は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りによる効果を説明するための説明図であり、横軸が走査位置を示し、縦軸が走査間隔ばらつきを示す。
開口絞り3を移動させる前は被走査面上における走査線間隔の偏差量として最大2.2μｍ発生していたが、開口絞りを回転させることにより、最大1.3μｍまで低減できることを確認した。その際のL＝8.6mm、D＝1.0mm、θ＝13°、画像形成時の走査範囲は±150mmである。これらの数値の確認は開口絞りを回転させる方法で行ったが、その作用要因は開口絞りを副走査方向に移動させ、光束の光軸と開口絞りの中心を副走査方向にずらすことにあるため、開口絞りを副走査方向にシフトさせる方法でも同様の効果がある。
開口絞りを回転させる構成を図１１に示す。

図１１は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りの一実施の形態を示す概念図である。
同図に示すように、開口絞り21Aと開口絞り21Bとを一体的に構成し、開口絞り21Aと開口絞り21Bとの中心20を回転中心として回転調整すれば、開口絞り21Aと開口絞り21Bとにより幅規制される光束に対し、略同等の作用を与えることができる。
上記実施の形態は、光源とカップリングレンズとの組合せを２組用いた光源部の場合で説明したが、本発明はこれに限定されず光源部を複数組み組合せ、光束合成部材により合成する光源装置に対しても適用できる。

図１６は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の他の実施の形態を示す説明図である。
図１６に示すマルチビーム光走査装置と図１に示したマルチビーム光走査装置との相違点は、図１に示したマルチビーム光走査装置の開口絞り3A-1、3A-2、3B-1、3B-2を回転するように構成した点である。
第1の光源部12において、光源1A-1から射出した複数の光束は、開口絞り3A-1により光束幅が規制され、光束合成手段であるビーム合成プリズム4を介し（透過し）、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ5（第２結像光学系）により偏向器6（ポリゴンスキャナ）の偏向反射面6A近傍に主走査方向に長い線状に集光される。光源1B-1からの射出した光束も同様である。

光源1A-1から射出した複数の射出光束の中心線と、光源1B-1から射出した複数の射出光束の中心線とは、被走査面上における各光スポットの結像性能の劣化を防ぐため、偏向反射面6A近傍で交差するように構成する。同様に、第2の光源部13においても、
光源1A-2からの射出した光束は、開口絞り3A-2により光束幅が規制され、ビーム合成プリズム4を介し（反射し）、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ5（第２結像光学系）により偏向器6（ポリゴンスキャナ）の偏向反射面6A近傍に主走査方向に長い線状に集光される。光源1B-2からの射出した光束も同様である。
また、光源部12と同様に、被走査面上における各光スポットの結像性能の劣化を防ぐため、光源1A-2から射出した複数の射出光束の中心線と、光源1B-2から射出した複数の射出光束の中心線とは、偏向反射面6A近傍で交差するように構成する。

ここで、開口絞り3A-1と3B-1とを一体的に構成し、開口絞り3A-2と開口絞り3B-2とを一体的に構成し、それぞれ独立に回転調整する。このように構成することにより、個々の光源部で最適な状態に調整することができるようになる。

図１７は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の他の実施の形態を示す説明図である。
図１７に示した実施の形態の基本的な構成は図１６に示した実施の形態と同じであるが、本実施の形態はビーム合成プリズムの形態を変えて構成している。
ビーム合成プリズム16-1（光束合成手段）は偏光分離膜16Bを有し、光源部12Aからの射出光束は偏光分離膜16Bを透過する。光源部12Bからの射出光束は1/2波長板13により、偏光方向を当初の状態から90度旋回され、プリズム面16Aと偏光分離膜16Bで順次反射されてビーム合成プリズム16から射出する。図１７に示した実施の形態は、図１６に示した実施の形態と同様に、開口絞り3A-1と開口絞り3B-1とを一体的に構成し、開口絞り3A-2と開口絞り3B-2とを一体的に構成し、それぞれ独立に回転調整することにより、個々の光源部で最適な状態に調整することができる

さらに図１７に示した構成にする事により、光源部12Aと光源部12Bとは平面上に配置することができるため、光源である半導体レーザを駆動させるための駆動ボードを１枚構成にすることができ、構成を簡素化することが可能になる。
光源部12Aからの射出光束と光源部12Bからの射出光束とは、1/2波長板13により偏光方向が９０度ずれているため、各光学素子の入射角（反射角）に対する透過および反射特性が異なり、被走査面上の各走査位置において光量に差が生じ、それにより光量むらが発生する。この光量むらは、特にカラー画像出力機においては、出力画像の濃度むらとして目立ち、画像品質は劣化してしまう。
そこで、このような光量むらを低減する方法としては、ビーム合成プリズム16の直後に1/4波長板を配置し、光束の偏光方向を45度旋回することにより低減可能である。

次に、走査線間隔を検知し、検知結果から開口絞りの回転角を決定する、フィードバック方式を説明する。
検知センサーの一例として、図１２（ａ）に示す様な三角形のセンサーPDを考える。走査ビーム24Aと走査ビーム24Bとは走査間隔を有するため、センサーPD23上の通過位置が異なる。通過位置を異ならせることより、センサーPD23からの信号の長さが、走査ビーム24Aと走査ビーム24Bとで異なり、図１２（ｂ）に示すような検知信号を得る。
図１２（ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるセンサーの一実施の形態を示す概念図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）に示したセンサーの動作説明図である。図１２（ｂ）において、横軸は時間軸であり、縦軸は電圧軸である。
ここで、ta＝t2-t1を走査ビーム24AがセンサーPD23上を横切るのに掛かった時間とし、tb＝t4-t3を走査ビーム24BがセンサーPD23上を横切るのに掛かった時間とすると、それらの差分、tp＝ta-tbと、センサーPD23の三角形の頂角ψとにより、走査間隔Pを導出することが可能であり、この演算結果より開口絞りの回転角を決定することができる。

図１３は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるセンサーからの検知信号の流れを示す説明図である。
走査ビーム24A、24BをセンサーPD23（図１２参照）により検知（ビーム検知処理１３００）し、信号が出力される。出力された信号は演算回路に入力され（信号入力処理１３０１）、演算処理１３０２が行われ、走査線間隔Pが演算される。この走査線間隔Pが、所望の状態であるか否かを判定し（判定処理１３０３）、判定処理１３０３でＯＫであると判定した場合はそのままの状態で画像形成を行う。判定処理１３０３でＮＧであると判定した場合は、検知した走査線間隔Pに基付き開口絞り３（図１０（ａ）参照）を回転させ（開口絞り回転制御処理１３０５）、再度ビーム検知処理１３００からのルーチン作業が行われる。その際に、走査線間隔Pが狙いの方向に変化しているか否かを、開口絞り回転前の走査線間隔Pと比較する事により回転の方向性も決定される。
センサーPD23は、同期検知センサー11-1と兼用してもかまわない。また、走査開始側と走査終了側の両方向に配置することにより、走査線間隔のばらつき量のバランスを取ることができる。

また、偏向器６（図９（ａ）参照）以降の光路の途中に光路分割手段を配置し、複数のポイントで走査線間隔Pを検知する事により、より細かく精度良く走査線ばらつきの補正を掛けても良い。
なお、開口絞りの回転には、ステッピングモータ等の回転アクチュエータを用いることにより、任意のステップで所望の位置に開口絞りを止めることができ、精度の良い調整が可能になる。
また、図１５に示すように、開口絞り3A及び開口絞り3Bの回転中心20と、回転アクチュエータＦの支持ポイント26を支持部25により離すことにより、回転アクチュエータＦの変位量に対する感度を鈍くすることができ、開口絞り3A、3Bの回転量を小さくすることが可能になる。よって、調整の際の変位量の分解能を上げることが可能になり、より精度良い調整が可能になる。
尚、図１５は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りの説明図である。

開口絞り3A、3Bの回転量としては、走査線間隔のばらつきが小さくなればいくら傾いても良いというものではない。図１０（ａ）に示すように、開口絞りを回転させることにより、光源からの射出光束の射出軸と開口絞りの中心がずれるため、光量の減少が発生する。光量低下に伴う、濃度の階調性の低下が画像では問題となる。
そこで本発明では、数式（１）を満足することにより上記問題を解決する（各記号に関しては図１１参照）。
０．１Ｄ ＞ Ｌ・Ｓｉｎθ …（１）
Ｄ：開口絞りの副走査方向の開口幅
Ｌ：回転中心と開口絞りの中心の距離
θ：開口絞りの回転角
これは、開口絞りの中心の副走査方向への移動量を開口径の10％以下とするものである。このように規定することにより、開口絞りにより規制される光束の光量を、移動前のピーク強度比の75％以上に確保することが可能になり、光量低下による濃度の階調性低下を防ぐことが可能になる
上述した実施の形態では、1つの光源部（サブユニット）に光源である半導体レーザとカップリングレンズ（第１結像光学系）とを有する集合体を2個組み合わせた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなくさらに多くを組み合わせても良い。
同様に、マルチビーム光源装置の実施の形態として2つの光源部（サブユニット）を組み合わせた場合の例を提示したが、さらに多くの光源部を組み合わせて光源装置を構成しても良い。

このように複数の光源（LD）を用いて光源部を構成し、さらに光源部を複数個組み合わせることにより、被走査媒体9上を走査する光束の数を増やすことができる。光束の数を増やすことにより、本マルチビーム光走査装置を搭載する画像形成装置の出力速度の向上を図ることができる。また、逆に出力速度を変えない場合は、偏向器の回転速度の低減を図ることができ、消費電力の低減、発熱量の低減、等環境に対し配慮した書込光学系を構成することが可能になる。
また、光源は半導体レーザに限らず、公知の適宜のものを用いることができる。例えば、「複数の発光点をモノリシックにアレイ配列した半導体レーザアレイ」を用い、発光点から射出する複数の発散光束を共通のカップリングレンズによりカップリングするように構成してもよいし、二次元的に配設された複数の発光点を有する垂直キャビティ面発光レーザアレイ（VCSEL）を用いて構成しても良い。
さらに本発明のマルチビーム画像形成装置と電子演算装置（コンピュータ等）、画像情報通信システム（ファクシミリ等）等とをネットワークを介し接続することにより、画像形成装置の有する制御コントローラによりデータを画像信号に変換し、マルチビーム光走査装置に入力する事ができるようになる。
また、ネットワークを介して接続することにより、1台の画像形成装置で複数の機器からの出力を処理する情報処理システムを形成することができる。また、ネットワーク上に複数の画像形成装置を接続すれば、各出力要求から各画像形成装置の状態（ジョブの混み具合、電源が入っているかどうか、故障しているかどうか等）を知ることができ、一番状態の良い（使用者の希望に一番適した）画像出力装置を選択し、出力を行うことができるようになる。
尚、図９、１６、１７に示したマルチビーム光走査装置を用いてマルチビーム画像形成装置構成してもよいが、図８に示したマルチビーム画像形成装置と同様の構成となるので、説明は省略する。

（発明の効果・作用）
本発明は、複数の光束により被走査媒体上を光走査するマルチビーム書込光学系に関する。
光源部を、筐体内に固定し、開口絞りは各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能、もしくは主走査方向と直交する副走査方向に移動可能としたことにより、走査光束の間隔のばらつきの調整を簡単にすることができる。
また、このことにより、1つの発光点からの光束により被走査媒体上を光走査する場合に比べ、偏向器の回転速度を下げる事ができる。これにより、偏向器による消費電力を低減できる。また、発熱量も下げることができる（環境対応）。

本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の全体構成の一実施の形態を示す模式図である。 （ａ）は図１に示したマルチビーム光走査装置の光源部周辺の拡大断面図であり、（ｂ）は（ａ）の矢印Ｐ１方向の矢視図であり、（ｃ）は（ａ）の矢印Ｐ２方向の矢視図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置の光源部から射出する光束の副走査方向の詳細を説明するための説明図である。 （ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の保持部材の他の実施の形態を示し、主走査方向から見た状態を示す図であり、（ｂ）はその保持部材の外観斜視図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の保持部材および合成プリズムの他の実施の形態を示す図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置のマルチビーム光走査装置に用いられるビーム合成プリズムにおける光束のズレについての説明図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の被走査面上における、各光源から射出された光束による光スポットの配置を模式的に示す図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置の説明図である。 （ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の全体構成の他の実施の形態を示す模式図であり、（ｂ）は（ａ）に示したマルチビーム光走査装置の拡大断面図である。 （ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りの説明図であり、（ｂ）は変形例を説明するための説明図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りの一実施の形態を示す概念図である。 （ａ）は本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるセンサーの一実施の形態を示す概念図であり、（ｂ）は（ａ）に示したセンサーの動作説明図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるセンサーからの検知信号の流れを示す説明図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りによる効果を説明するための説明図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられる開口絞りの説明図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の他の実施の形態を示す説明図である。 本発明のマルチビーム画像形成装置に用いられるマルチビーム光走査装置の他の実施の形態を示す説明図である。

符号の説明

1A-1、1A-2、1B-1、B-2 光源
2A-1、2A-2、2B-1、2B-2 カップリングレンズ
3A-1、3A-2、3B-1、3B-2 開口絞り
4 ビーム合成プリズム（光束合成手段）
5 シリンドリカルレンズ（第２結像光学系）
6 偏向器（ポリゴンミラー）
7 第３結像光学系
9 被走査媒体
10A、10B 光スポット
11 同期検知光学系
12A、12B 光源部
101A-1、101A-2 ホルダ
102A、102B 支持部材
105 保持部材
104A、104B 円筒部104A、104B
106A、106B 嵌合穴
200A-1、200A-2、200A-3、200A-4、201A-1、201A-2 ネジ

Claims (21)

1. 光源と、該光源からの発散光束を集光しカップリングする結像光学系との集合体を保持部材に複数組み並べて一体的に保持した複数個の光源部と、
   各光源部より射出される光束を近接させて射出する光束合成手段とを備えた光源装置において、
   各光源部は、各光源部から射出する複数の光束が主走査方向において略等しい位置で交差するように配置され、
   前記光束合成手段により、各光源部から射出する複数の光束の空間的な中心線が、主走査方向において近接して光束を合成するようにしたことを特徴とする光源装置。
2. 請求項１記載の発明において、
   前記各光源部は前記保持部材により共通に保持されていることを特徴とする光源装置。
3. 請求項２記載の発明において、
   前記保持部材は、前記光束合成手段も保持することを特徴とする光源装置。
4. 請求項２記載の発明において、
   前記各光源部を構成する部材と、前記保持部材とは略同じ線膨張係数の材質、もしくは同一の材質からなることを特徴とする光源装置。
5. 請求項１から４のいずれか１項記載の光源装置において、
   前記各光源部は同一の構成内容であることを特徴とする光源装置。
6. 請求項１記載の発明において、
   前記各光源部の前記各光源は、前記各光源からの射出光束の交差点近傍を通る軸を回転軸として回転調整可能なことを特徴とする光源装置。
7. 請求項６記載の発明において、
   前記回転軸は、前記光源部からの各射出光束の空間的中心線に対し略平行な軸であることを特徴とする光源装置。
8. 請求項１記載の発明において、
   前記光源は、複数の発光点を直線上に配列した半導体レーザアレイ、もしくは複数の発光点を２次元状に配列した面発光レーザアレイであることを特徴とする光源装置。
9. マルチビーム光走査装置において、請求項１から８のいずれか１項記載の光源装置を用いたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。
10. 光源と、該光源からの発散光束を集光しカップリングする結像光学系との集合体を複数組み並べて保持部材に一体的に保持した複数個の光源部と、
    前記光源部からの光束を偏向する偏向器と、
    前記光源部と前記偏向器の間に配置されそれぞれの光源に対応して前記光源部からの光束の幅を規制する開口絞りと、
    前記偏向器で偏向された光束を被走査面上に光スポットとして形成する走査結像光学系とを備えたマルチビーム光走査装置において、
    前記光源部は、筐体内に固定され、開口絞りは各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能、もしくは主走査方向と直交する副走査方向に移動可能としたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。
11. 光源と、該光源からの発散光束を集光しカップリングする結像光学系との集合体を保持部材に複数組み並べて一体的に保持した複数個の光源部と、
    該光源部からの光束を偏向する偏向器と、
    前記光源部と前記偏向器の間に配置され、それぞれの光源に対応して前記光源部からの光束の幅を規制する開口絞りと、
    前記偏向器で偏向された光束を被走査面上に光スポットとして形成する走査結像光学系とを備えたマルチビーム光走査装置において、
    前記光源部は、筐体内に固定され、
    前記各光源部における開口絞りは、一体的に構成され、各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能であり、前記被走査面上における各走査位置における走査間隔の偏差が小さくなるようにしたことを特徴とする光走査装置。
12. 請求項１１記載の発明において、
    前記開口絞りの回転軸は、一体的に構成された複数の開口絞りの中心を通るように構成されていることを特徴とするマルチビーム光走査装置。
13. 請求項１０記載の発明において、
    前記光源部は、複数の光源を有し、前記開口絞りはそれぞれの光源部毎に配置され、それぞれ独立に回転可能であることを特徴とするマルチビーム光走査装置。
14. 請求項１１から１３のいずれか１項記載の発明において、
    複数の光束の走査間隔を検知手段により検出し、その検出結果に基づき前記開口絞りの回転角を調整するようにしたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。
15. 請求項１４記載の発明において、
    前記開口絞りは回転アクチュエータにより回転するようにしたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。
16. 請求項１４記載の発明において、
    前記開口絞りの中心と前記開口絞りの回転中心との間の距離をＬとし、前記開口絞りの副走査方向の開口幅をＤとし、前記開口絞りの主走査方向からの回転角をθとしたとき、数式（１）
    ０．１Ｄ＞Ｌ・Sinθ …（１）
    を満足するように構成したことを特徴とするマルチビーム光走査装置。
17. 請求項１から１６のいずれか１項記載のマルチビーム光走査装置を用いたことを特徴とするマルチビーム画像形成装置。
18. 請求項１７記載のマルチビーム画像形成装置において、
    コンピュータ等からのデータを画像信号に変換し、マルチビーム画像形成装置本体に入力する制御コントローラを搭載したことを特徴とするマルチビーム画像形成装置。
19. 光源からの発散光束を集光しカップリングする複数個の光源部より射出される光束を近接させて射出するマルチビーム画像形成方法において、
    各光源部から射出する複数の光束を主走査走査方向において交差させ、
    光束合成手段により、各光源部から射出する複数の光束の空間的な中心線が、主走査方向において近接するように光束を合成することを特徴とするマルチビーム画像形成方法。
20. 光源からの発散光束を集光しカップリングし、偏向器で偏向し、偏向された光束の幅を開口絞りで規制し、偏向された光束を走査結像光学系で被走査面上に光スポットとして形成するマルチビーム画像形成方法において、
    前記開口絞りを、各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能とするか、もしくは主走査方向と直交する副走査方向に移動可能とすることを特徴とするマルチビーム画像形成方法。
21. 光源からの発散光束を集光しカップリングし、偏向器で光束を偏向し、偏向された光束の幅を開口絞りで規制し、偏向された光束を走査結像光学系で被走査面上に光スポットとして形成するマルチビーム画像形成方法において、
    前記各光源部における開口絞りを、各光源から射出する光束の空間的な中心線と平行な軸を回転軸として回転可能とし、前記被走査面上における各走査位置における走査間隔の偏差が小さくなるようにすることを特徴とするマルチビーム画像形成方法。

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