JP2005324406A - ガスバリア性フィルム、ならびにこれを用いて構成された液晶表示素子およびel表示素子 - Google Patents
ガスバリア性フィルム、ならびにこれを用いて構成された液晶表示素子およびel表示素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005324406A JP2005324406A JP2004143708A JP2004143708A JP2005324406A JP 2005324406 A JP2005324406 A JP 2005324406A JP 2004143708 A JP2004143708 A JP 2004143708A JP 2004143708 A JP2004143708 A JP 2004143708A JP 2005324406 A JP2005324406 A JP 2005324406A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- gas barrier
- inorganic compound
- compound layer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 157
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 16
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 169
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 168
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 97
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 97
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 69
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 43
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 31
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 24
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 24
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 15
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 384
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 142
- 239000010408 film Substances 0.000 description 131
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- -1 isocyanate compound Chemical class 0.000 description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 18
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 15
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 10
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 5
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOOMLFKONHCLCJ-UHFFFAOYSA-N N-(trimethylsilyl)diethylamine Chemical compound CCN(CC)[Si](C)(C)C JOOMLFKONHCLCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C=C GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N propylsilane Chemical compound CCC[SiH3] UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYTXKAABSCYYEU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-4-[9-(3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)fluoren-9-yl]phenol Chemical compound C1=C(Br)C(O)=C(Br)C=C1C1(C=2C=C(Br)C(O)=C(Br)C=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 VYTXKAABSCYYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFQFFNWLTHFJOZ-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzodioxol-5-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=C3OCOC3=CC=2)=N1 BFQFFNWLTHFJOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKTNABJAOZQJCM-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-4-[9-(3-bromo-4-hydroxyphenyl)fluoren-9-yl]phenol Chemical compound C1=C(Br)C(O)=CC=C1C1(C=2C=C(Br)C(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 ZKTNABJAOZQJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USYCYUZCESSCGY-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-[9-(3-chloro-4-hydroxyphenyl)fluoren-9-yl]phenol Chemical compound C1=C(Cl)C(O)=CC=C1C1(C=2C=C(Cl)C(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 USYCYUZCESSCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVIHLQXGBMZNN-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methyl-4-trimethoxysilylbut-3-en-2-yl)oxypropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=CC(C)(C)OCCCN BMVIHLQXGBMZNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUPGCAGBHBJUJC-UHFFFAOYSA-N 3-(3-trimethoxysilylpropoxy)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC1=CC=CC(N)=C1 HUPGCAGBHBJUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPHRTSFRLFDOHZ-UHFFFAOYSA-N 3-[[4-[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]phenyl]-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)C1=CC=C([Si](C)(C)CCCN)C=C1 FPHRTSFRLFDOHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWFSPEQGWSIPLB-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCN QWFSPEQGWSIPLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLISOBUNKGBQCL-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCN GLISOBUNKGBQCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSMHYZUFHYGNHS-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy-di(propan-2-yl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C(C)C)(C(C)C)CCCN FSMHYZUFHYGNHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWQQHTNSJIJFBO-UHFFFAOYSA-N 3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCN KWQQHTNSJIJFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXZASCQIGGLWCS-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-1-enylsilyloxy)aniline Chemical compound NC1=CC=C(O[SiH2]C=C(C)C)C=C1 LXZASCQIGGLWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFEQSERZJMLTHK-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2,3,5,6-tetramethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=C(C)C(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1C ZFEQSERZJMLTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAABNODEAACFII-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxyphenyl)-dimethylsilyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1[Si](C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 AAABNODEAACFII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNPPMOSOWNHABX-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)fluoren-9-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 SNPPMOSOWNHABX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMMYPOBNFBLJS-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-hydroxy-3-methoxyphenyl)fluoren-9-yl]-2-methoxyphenol Chemical compound C1=C(O)C(OC)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(OC)C(O)=CC=2)=C1 TVMMYPOBNFBLJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWDDLRSGGCWDPH-UHFFFAOYSA-N 4-triethoxysilylbutan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCN SWDDLRSGGCWDPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBWHBPMCIGBGTA-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-oxaspiro[3.5]non-5-ene-1,3-dione Chemical compound CC1=CCCCC11C(=O)OC1=O XBWHBPMCIGBGTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001391944 Commicarpus scandens Species 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CIPGSWQJBXYIBK-UHFFFAOYSA-N NC=1C=C(O[SiH2]C=C(C)C)C=CC1 Chemical compound NC=1C=C(O[SiH2]C=C(C)C)C=CC1 CIPGSWQJBXYIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 1
- QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N Tetrabromophthalic anhydride Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Br QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006127 amorphous resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)OC=C)=C1 FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol AF Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C=C1 ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N butoxy(dimethyl)silane Chemical compound CCCCO[SiH](C)C SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- QZYRMODBFHTNHF-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OOC(C)(C)C QZYRMODBFHTNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIKFOOMAUXPBJM-UHFFFAOYSA-N hepta-2,5-dienediamide Chemical compound NC(=O)C=CCC=CC(N)=O FIKFOOMAUXPBJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N het anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1(Cl)C(Cl)=C(Cl)C2(Cl)C1(Cl)Cl FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMVXVPUHCLLJRE-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)hexane-1,6-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCCCCCN AMVXVPUHCLLJRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDMXWXYZHDHLS-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]-2-methylpropyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC(C)CNCCN HXDMXWXYZHDHLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBELKEREKFGFNM-UHFFFAOYSA-N n'-[[4-(2-trimethoxysilylethyl)phenyl]methyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=C(CNCCN)C=C1 HBELKEREKFGFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCBREPNPWKGQJH-UHFFFAOYSA-N n'-[[dimethyl(phenylmethoxy)silyl]methyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNC[Si](C)(C)OCC1=CC=CC=C1 ZCBREPNPWKGQJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIHWAKEVGKFOA-UHFFFAOYSA-N n-dimethylsilyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)[SiH](C)C KYIHWAKEVGKFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTAJIYKRQQZJJH-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-triethylsilylmethanamine Chemical compound CC[Si](CC)(CC)N(C)C ZTAJIYKRQQZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEZQRKBBRMOCSP-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-yl-n-trimethylsilylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)[Si](C)(C)C GEZQRKBBRMOCSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPNDBYAAEZBF-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylmethanamine Chemical compound C[Si](C)(C)CN YVWPNDBYAAEZBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】基材シート2、酸化炭化珪素もしくは酸化窒化炭化珪素からなる密着性無機化合物層3a、有機樹脂層31、無機化合物層32が順に積層された積層構造、もしくは密着性無機化合物層3a以降を無機化合物層32a、有機樹脂層31、無機化合物層32bが順に積層された積層構造として課題を解決することができた。
【選択図】 図2
Description
ソシアネート基を有するイソシアネート化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなる被膜層を第2層として積層してなるガスバリア性積層フィルムも提案されている。(特許文献2。)。
(1)陽極/発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
(3)陽極/発光層/電子注入層/陰極
(4)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
(5)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
(密着層の形成)
ポリカーボネート樹脂フィルム(バイエル社製、品名;「マクロホール」、厚み;200μm、30cm×21cm)を準備し、このポリカーボネート樹脂フィルムをプラズマCVD装置のチャンバー内に配置し、以下の成膜条件で、膜厚が50nmになるまで成膜を行ない、酸化炭化珪素からなる密着層を形成した。なお、以降において、単位のsccmはstandard cubic centimeter minuteの略であって、毎分当たりのガスの供給量(体積)を示す。
成膜圧力:30Pa
ヘキサメチルジシロキサンガス流量;4sccm
酸素ガス流量;12sccm
ヘリウムガス流量;30sccm
周波数;90kHz
電力;150W
上記で得られたポリカーボネート樹脂フィルム/密着層の積層構造のフィルムをマグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内に配置し、ターゲットとして窒化珪素を使用し、以下の成膜条件で、酸化窒化珪素の膜圧が100nmになるまで成膜を行ない、透明無機化合物層を形成した。
アルゴンガス流量;20sccm
酸素ガス流量;9sccm
周波数;13.56kHz
電力;1.2kW
上記で得られたポリカーボネート樹脂フィルム/密着層/透明無機化合物層の積層構造のフィルムの透明無機化合物層上に、フルオレンを骨格とするカルドポリマーを有する樹脂の溶剤溶液(新日鐵化学(株)製、商品名;「V259REH」)をスピンコート法にて塗布し、160℃で1時間加熱し、有機樹脂層を形成した。有機樹脂層の膜厚は、1μmであった。有機樹脂層を形成することによる、透明無機化合物層の変形は生じてなく、かつ、有機樹脂層の露出面の表面粗さは0.8nmであり、最大高低差P−Vは8nmであった。
さらに有機樹脂層上に、透明無機化合物層を形成してガスバリア性フィルムを得た。この透明無機化合物層の形成については、使用素材、形成条件、および層の厚みは、密着層上に透明無機化合物層を形成したときと同じである。また、形成された透明無機化合物層の表面の表面粗さは1.5nmであり、最大高低差P−Vは20nmであった。
上記で得られたポリカーボネート樹脂フィルム/密着層/透明無機化合物層/有機樹脂層/透明無機化合物層の積層構造のバリアフィルムの最表面の透明無機化合物層上に、以降に説明するようにして透明導電層がパターン化された透明電極層を形成し、その上に、以下に示すようにして、さらに正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層、および陰極の順に形成することにより、透明電極層(陽極)/正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層/陰極の6層構成の有機EL発光素子を形成する。
まず、ポリカーボネート樹脂フィルム/密着層/透明無機化合物層/有機樹脂層/透明無機化合物層の積層構造のフィルムの透明無機化合物層上に、スパッタリング法によりITO薄膜からなる透明導電層を形成した。続いて、表面のITO薄膜からなる透明導層上に、レジスト剤(東京応化工業(株)製、商品名;「OFRP−800」)を塗布し、フォトリソグラフ法にて透明導電層のパターニングを行ない、幅が0.094mm、間隔が0.016mm、および膜厚が100nmのストライプパターン上の透明電極層(陽極)を得た。
透明無機化合物層の形成を、イオンプレーティング装置のチャンバー内にて、以下の成膜条件で、膜厚が100nmになるよう行なった以外は、実施例1におけるのと同様にしてバリアフィルムを製造した。有機樹脂層を形成することによる、透明無機化合物層の変形は生じてなく、かつ、有機樹脂層まで形成した時点での有機樹脂層の露出面の表面粗さRaは0.8nmであり、最大高低差P−Vは8nmであり、実施例1におけるものと同様であった。
成膜圧力;1.5×10-1Pa
アルゴンガス流量;12sccm
窒素ガス流量;20sccm
成膜電流値;100A
実施例1で用いたのと同様なポリカーボネート樹脂フィルムをプラズマCVD装置のチャンバー内に配置し、以下の成膜条件で、膜厚が100nmになるまで成膜を行ない、密着層を兼ねた酸化炭化珪素からなる透明無機化合物層を形成した。
成膜圧力:30Pa
ヘキサメチルジシロキサンガス流量;4sccm
酸素ガス流量;12sccm
ヘリウムガス流量;30sccm
周波数;90kHz
電力;150W
実施例1〜4における密着層(密着層を兼ねた透明無機化合物層の場合には、その密着層を兼ねた透明無機化合物層)の形成をしなかった以外は、対応する各々の実施例におけるのと同様にした。
成膜圧力:30Pa
ヘキサメチルジシラザンガス流量;4sccm
酸素ガス流量;12sccm
ヘリウムガス流量;30sccm
周波数;90kHz
電力;150W
上記の実施例1〜6、および比較例1〜4で作製した積層体および各ディスプレイ用基板について、下記に示すようにして下記評価項目についての試験を行なった。
(1)水蒸気透過率の測定
測定温度;37.8℃、湿度;100%RHの条件下で、水蒸気透過率測定装置(MOCON社製、商品名;「PERMATRAN−W 3/31」)を用いて測定した。
(2)酸素透過率の測定
測定温度;23℃、湿度;90%RHの条件下で、酸素ガス透過率測定装置(MOCON社製、商品名;「OXTRAN−W 2/20」)を用いて測定した。
(3)表面粗さ(Ra)および最大高低差(P−V)の測定
スキャン範囲;100μm、スキャン速度;90sec/frameの条件下で、卓上プローブ顕微鏡(セイコーインスツルメント(株)製、商品名;Nanopics)を用いて測定した。
(4)全光線透過率の測定
日本電色工業社製の濁度計(JIS K 7361−1)を使用して測定した。
(5)密着性
セロハンテープ剥離試験によって行ない、セロハンテープ(ニチバン(株)製)を用いて、10本×10本(各々1mm間隔)のクロスカットを施した状態で剥離試験を行なった。
2……基材シート
3……ガスバリア性層
3a……密着性無機化合物層
31……有機樹脂層
32……無機化合物層
Claims (8)
- 基材シートの片面もしくは両面に、複数の層からなる積層構造を有するガスバリア性層が積層されており、前記ガスバリア性層を構成する複数の層のうち、少なくとも前記基材シートに接する側の層が、酸化炭化珪素もしくは酸化窒化炭化珪素からなる無機化合物層であることを特徴とするガスバリア性フィルム。
- 前記ガスバリア性層が、前記基材シートに接する側より、前記の酸化炭化珪素もしくは酸化窒化炭化珪素からなる無機化合物層、有機樹脂層、および無機化合物層が順に積層した積層構造を有するものであることを特徴とする請求項1記載のガスバリア性フィルム。
- 前記ガスバリア性層が、前記基材シートに接する側より、前記の酸化炭化珪素もしくは酸化窒化炭化珪素からなる無機化合物層、無機化合物層、有機樹脂層、および無機化合物層が順に積層した積層構造を有するものであることを特徴とする請求項1記載のガスバリア性フィルム。
- 前記無機化合物層が、無機酸化物、無機酸化窒化物、無機窒化物、無機酸化炭化物、無機酸化炭化窒化物、もしくは金属のいずれかからなるものであることを特徴とする請求項1〜請求項3いずれか記載のガスバリア性フィルム。
- 前記ガスバリア性層の最表面の表面粗さRaが6nm以下であり、最大高低差P−Vが60nm以下であることを特徴とする請求項1〜請求項4いずれか記載のガスバリア性フィルム。
- 前記有機樹脂層がカルド樹脂からなることを特徴とする請求項1〜請求項5いずれか記載のガスバリア性フィルム。
- いずれも内側に電極層および配向膜が順次積層された背面用基板および前面用基板の両基板間に液晶層がはさまれて密封されており、前記背面用基板または/および前記前面用基板が、請求項1〜請求項6いずれか記載のガスバリア性フィルムであることを特徴とする液晶表示素子。
- 基板、電極層、発光層、対抗電極層、および封止層が順に積層されており、前記基板または/および前記封止層が、請求項1〜請求項6いずれか記載のガスバリア性フィルムであることを特徴とするEL表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004143708A JP4373270B2 (ja) | 2004-05-13 | 2004-05-13 | ガスバリア性フィルム、ならびにこれを用いて構成された液晶表示素子およびel表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004143708A JP4373270B2 (ja) | 2004-05-13 | 2004-05-13 | ガスバリア性フィルム、ならびにこれを用いて構成された液晶表示素子およびel表示素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005324406A true JP2005324406A (ja) | 2005-11-24 |
JP4373270B2 JP4373270B2 (ja) | 2009-11-25 |
Family
ID=35471142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004143708A Expired - Fee Related JP4373270B2 (ja) | 2004-05-13 | 2004-05-13 | ガスバリア性フィルム、ならびにこれを用いて構成された液晶表示素子およびel表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4373270B2 (ja) |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
JP2008218143A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2008216541A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明電極付複合材料基板 |
WO2009017031A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 発光素子およびその製造方法 |
JP2009038003A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ |
JP2009123690A (ja) * | 2007-10-22 | 2009-06-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 塗布層形成後或いは対電極層形成後に乾燥剤フィルムを貼合して巻き取る有機エレクトロニクス素子とその製造方法 |
WO2009139391A1 (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-19 | 三菱樹脂株式会社 | 有機デバイス用ガスバリア性積層フィルム |
JP2011113936A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Fujifilm Corp | 光熱変換シート及び有機電界発光装置の製造方法 |
JP2012083491A (ja) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 液晶表示素子 |
JP2013006340A (ja) * | 2011-06-24 | 2013-01-10 | Lintec Corp | ガスバリア性シート、積層シートおよび素子封止体 |
JP2013501341A (ja) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | ネーデルランドセ・オルガニサティ・フォール・トゥーヘパスト−ナトゥールウェテンスハッペライク・オンデルズーク・テーエヌオー | 光電気装置及びその製造方法 |
CN103633248A (zh) * | 2012-08-24 | 2014-03-12 | 财团法人工业技术研究院 | 非连续复合阻挡层、其形成方法及包含其的封装结构 |
WO2014163009A1 (ja) | 2013-04-04 | 2014-10-09 | 東レ株式会社 | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 |
KR20160080722A (ko) * | 2014-12-30 | 2016-07-08 | 코오롱글로텍주식회사 | 고유연성 배리어 섬유기판 및 그의 제조방법 |
JP2017504174A (ja) * | 2014-01-16 | 2017-02-02 | ヒューネット プラスHunet Plus | 有機電子素子及びその製造方法 |
JPWO2014126063A1 (ja) * | 2013-02-15 | 2017-02-02 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2019116098A (ja) * | 2012-11-30 | 2019-07-18 | リンテック株式会社 | 接着シート、電子デバイス及びその製造方法 |
WO2019186824A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
WO2019186825A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
WO2021017239A1 (zh) * | 2019-08-01 | 2021-02-04 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 缓冲结构、显示面板及缓冲结构的制作方法 |
KR20210078443A (ko) | 2018-10-18 | 2021-06-28 | 도레이 카부시키가이샤 | 적층체 |
-
2004
- 2004-05-13 JP JP2004143708A patent/JP4373270B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
JP2008218143A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2008216541A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明電極付複合材料基板 |
JP2009038003A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ |
WO2009017031A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 発光素子およびその製造方法 |
JP2009123690A (ja) * | 2007-10-22 | 2009-06-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 塗布層形成後或いは対電極層形成後に乾燥剤フィルムを貼合して巻き取る有機エレクトロニクス素子とその製造方法 |
CN102026805A (zh) * | 2008-05-16 | 2011-04-20 | 三菱树脂株式会社 | 有机器件用阻气性叠层膜 |
JP2009274395A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Mitsubishi Plastics Inc | 有機デバイス用ガスバリア性積層フィルム |
WO2009139391A1 (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-19 | 三菱樹脂株式会社 | 有機デバイス用ガスバリア性積層フィルム |
JP2013501341A (ja) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | ネーデルランドセ・オルガニサティ・フォール・トゥーヘパスト−ナトゥールウェテンスハッペライク・オンデルズーク・テーエヌオー | 光電気装置及びその製造方法 |
US9333531B2 (en) | 2009-08-06 | 2016-05-10 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Opto-electric device and method for manufacturing the same |
JP2011113936A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Fujifilm Corp | 光熱変換シート及び有機電界発光装置の製造方法 |
JP2012083491A (ja) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 液晶表示素子 |
JP2013006340A (ja) * | 2011-06-24 | 2013-01-10 | Lintec Corp | ガスバリア性シート、積層シートおよび素子封止体 |
CN103633248A (zh) * | 2012-08-24 | 2014-03-12 | 财团法人工业技术研究院 | 非连续复合阻挡层、其形成方法及包含其的封装结构 |
JP2019116098A (ja) * | 2012-11-30 | 2019-07-18 | リンテック株式会社 | 接着シート、電子デバイス及びその製造方法 |
JPWO2014126063A1 (ja) * | 2013-02-15 | 2017-02-02 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
WO2014163009A1 (ja) | 2013-04-04 | 2014-10-09 | 東レ株式会社 | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 |
JP2017504174A (ja) * | 2014-01-16 | 2017-02-02 | ヒューネット プラスHunet Plus | 有機電子素子及びその製造方法 |
US10411221B2 (en) | 2014-01-16 | 2019-09-10 | Hunet Plus | Organic electronic device and fabrication method thereof |
KR20160080722A (ko) * | 2014-12-30 | 2016-07-08 | 코오롱글로텍주식회사 | 고유연성 배리어 섬유기판 및 그의 제조방법 |
KR102182521B1 (ko) * | 2014-12-30 | 2020-11-24 | 코오롱글로텍주식회사 | 고유연성 배리어 섬유기판 및 그의 제조방법 |
WO2019186824A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
WO2019186825A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
JPWO2019186825A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2020-04-30 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
JPWO2019186824A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2020-04-30 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
KR20210078443A (ko) | 2018-10-18 | 2021-06-28 | 도레이 카부시키가이샤 | 적층체 |
WO2021017239A1 (zh) * | 2019-08-01 | 2021-02-04 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 缓冲结构、显示面板及缓冲结构的制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4373270B2 (ja) | 2009-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4373270B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、ならびにこれを用いて構成された液晶表示素子およびel表示素子 | |
JP4383077B2 (ja) | ガスバリア性基板 | |
US7229703B2 (en) | Gas barrier substrate | |
JP4295588B2 (ja) | 反射防止ガスバリア性基板 | |
JP4589128B2 (ja) | 湾曲を防止したガスバリアフィルム | |
JP5135726B2 (ja) | 透明導電膜付きフィルムおよびその製造方法、この透明導電膜付きフィルムからなるディスプレイ用基板、ディスプレイならびに有機el素子 | |
JP2005111702A (ja) | ガスバリア性基材とディスプレイ用基板および有機elディスプレイ | |
WO2008007770A1 (en) | Transparent conducting layer coated film and its use | |
JP4498949B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイ | |
JPWO2016043141A1 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
TW201806773A (zh) | 阻氣膜、有機電子裝置、有機電場發光裝置用基板及有機電場發光裝置 | |
JP2010055894A (ja) | 発光素子用封止フィルム | |
JP5217571B2 (ja) | ガスバリアフィルム | |
JP2004082598A (ja) | ガスバリア性積層材及びその製造方法 | |
JP2009190216A (ja) | ガスバリア性シート | |
JP2006123289A (ja) | ガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたカラーフィルタ及びディスプレイ | |
JP2012076403A (ja) | バリア性フィルム及び有機電子デバイス | |
JP5543818B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、ガスバリア層、装置及びガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP2004303562A (ja) | 有機エレクトロルミネッセント素子用基板 | |
JP2014141055A (ja) | ガスバリア性フィルム | |
WO2015190572A1 (ja) | ガスバリアフィルム積層体とそれを用いた電子部品 | |
JP5114961B2 (ja) | 透明導電膜付きフィルムおよびこの透明導電膜付きフィルムからなるディスプレイ用基板、ディスプレイ、液晶表示装置ならびに有機el素子 | |
JP2016097500A (ja) | ガスバリアーフィルム、その製造方法及びプラズマ化学気相蒸着法用基材 | |
JP2013067110A (ja) | ガスバリア性フィルム、ガスバリア層、装置及びガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP2004114617A (ja) | フィラー分散系樹脂シート、画像表示装置用基板、画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090618 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090825 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090903 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |