JP2005322873A5 - - Google Patents

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被処理基板の表面に処理液を塗布し膜を形成する塗布膜形成装置において、
並べて配置され、被処理基板を夫々載置する第一のステージおよび第二のステージと、被処理基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口を有する一つの処理液供給ノズルと、前記処理液供給ノズルを移動するノズル移動手段と、前記処理液供給ノズルに対して処理液を供給する処理液供給手段と、前記吐出口からの処理液を回転自在に形成されたローラの周面に吐出させ、前記ローラを回転させることによって前記吐出口に付着する処理液を均一化処理するプライミング処理手段とを備え、
前記処理液供給ノズルによって、第一のステージおよび第二のステージに載置された被処理基板の表面に処理液を塗布することを特徴とする塗布膜形成装置。
In a coating film forming apparatus for forming a film by applying a treatment liquid to the surface of a substrate to be processed,
A first stage and a second stage, which are arranged side by side and each place a substrate to be processed, respectively, a single processing liquid supply nozzle having a slit-like discharge port extending in the width direction of the target substrate, and the processing liquid supply A nozzle moving means for moving the nozzle, a treatment liquid supply means for supplying a treatment liquid to the treatment liquid supply nozzle, and a treatment liquid from the discharge port is discharged to a peripheral surface of a roller formed to be rotatable, Priming processing means for homogenizing the processing liquid adhering to the discharge port by rotating the roller;
An apparatus for forming a coating film, wherein the processing liquid is applied to the surface of the substrate to be processed placed on the first stage and the second stage by the processing liquid supply nozzle.
前記プライミング処理手段は、前記第一のステージと第二のステージとの間に設置されることを特徴とする請求項1に記載された塗布膜形成装置。   The coating film forming apparatus according to claim 1, wherein the priming processing unit is installed between the first stage and the second stage. 前記被処理基板に対する塗布処理の前に、前記ノズル移動手段が、前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラの周面に近接させ、前記吐出口に付着する処理液を均一化処理することを特徴とする請求項1または請求項2に記載された塗布膜形成装置。   Prior to the coating process on the substrate to be processed, the nozzle moving means makes the discharge port of the processing liquid supply nozzle close to the peripheral surface of the roller and uniformizes the processing liquid adhering to the discharge port. 3. The coating film forming apparatus according to claim 1, wherein the coating film forming apparatus is characterized in that: 前記プライミング処理手段は、前記ローラの回転を制御するローラ回転制御手段を備え、
前記吐出口に付着する処理液を均一化処理する際に、前記ローラ回転制御手段は、該均一化処理後の塗布処理が前記第一のステージまたは前記第二のステージのいずれで行われるかにより前記ローラの回転方向を決定することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載された塗布膜形成装置。
The priming processing means includes roller rotation control means for controlling the rotation of the roller,
When the treatment liquid adhering to the discharge port is homogenized, the roller rotation control unit determines whether the coating process after the homogenization process is performed in the first stage or the second stage. The coating film forming apparatus according to claim 1, wherein a rotation direction of the roller is determined.
前記プライミング処理手段には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載された塗布膜形成装置。   5. The coating film forming apparatus according to claim 1, wherein the priming processing unit is provided with a moisturizing unit that suppresses drying of a tip of the processing liquid supply nozzle. 前記プライミング手段として、第一のプライミング処理手段および第二のプライミング処理手段とを備え、
前記第一のプライミング処理手段および第二のプライミング処理手段は、それぞれ前記第一のステージおよび第二のステージの右側または左側に配置されることを特徴とする請求項1に記載された塗布膜形成装置。
The priming means includes a first priming processing means and a second priming processing means,
2. The coating film formation according to claim 1, wherein the first priming processing unit and the second priming processing unit are disposed on the right side or the left side of the first stage and the second stage, respectively. apparatus.
前記第一のステージに載置される被処理基板に対する塗布処理の前に、前記ノズル移動手段が前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラの周面に近接させ、前記第一のプライミング処理手段が前記吐出口に付着する処理液を均一化処理し、
且つ、前記第二のステージに載置される被処理基板に対する塗布処理の前に、前記ノズル移動手段が前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラの周面に近接させ、前記第二のプライミング処理手段が前記吐出口に付着する処理液を均一化処理することを特徴とする請求項6に記載された塗布膜形成装置。
Prior to the coating process on the substrate to be processed placed on the first stage, the nozzle moving unit brings the discharge port of the processing liquid supply nozzle close to the peripheral surface of the roller, and the first priming processing unit To uniformize the treatment liquid adhering to the discharge port,
In addition, before the coating process on the substrate to be processed placed on the second stage, the nozzle moving means brings the discharge port of the processing liquid supply nozzle close to the peripheral surface of the roller, and the second priming The coating film forming apparatus according to claim 6, wherein the processing unit performs a uniform processing on the processing liquid adhering to the discharge port.
前記第一および第二のプライミング手段は、前記ローラの回転を制御するローラ回転制御手段を備え、前記第一のプライミング処理手段のローラと、前記第二のプライミング処理手段のローラの回転方向が同一方向であることを特徴とする請求項6または請求項7に記載された塗布膜形成装置。   The first and second priming means include roller rotation control means for controlling rotation of the roller, and the rotation direction of the rollers of the first priming processing means and the rollers of the second priming processing means is the same. The coating film forming apparatus according to claim 6, wherein the coating film forming apparatus is a direction. 前記第一のプライミング処理手段または前記第二のプライミング処理手段には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられていることを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれかに記載された塗布膜形成装置。   9. The moisturizing means for suppressing drying of the tip of the processing liquid supply nozzle is provided in the first priming processing means or the second priming processing means. The coating film forming apparatus described in any one. 被処理基板の表面に処理液を塗布し膜を形成する塗布膜形成装置において、In a coating film forming apparatus for forming a film by applying a treatment liquid to the surface of a substrate to be processed,
並べて配置され、被処理基板を夫々載置する第一のステージおよび第二のステージと、被処理基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口を有し、被処理基板に処理液を供給する一つの処理液供給ノズルと、前記処理液供給ノズルを移動するノズル移動手段と、前記ノズル移動手段により前記処理液供給ノズルの吐出口を回転自在に形成されたローラの周面に近接させると共に、前記吐出口から前記ローラの周面に対し処理液を吐出させ、且つ前記ローラを一方向に回転させることにより、前記ノズル先端の前後方向の一方の側に前記ローラの回転方向に沿って他方よりも多くの処理液が付着した状態とするプライミング処理手段とを備え、A first stage and a second stage, which are arranged side by side and each have a substrate to be processed, and a slit-like discharge port extending in the width direction of the substrate to be processed, and for supplying a processing liquid to the substrate to be processed. Two processing liquid supply nozzles, nozzle moving means for moving the processing liquid supply nozzle, and the nozzle moving means causes the discharge port of the processing liquid supply nozzle to be close to the circumferential surface of the roller formed to be rotatable, and By discharging the processing liquid from the discharge port to the peripheral surface of the roller and rotating the roller in one direction, the nozzle tip is moved to one side of the front-rear direction of the nozzle tip along the rotation direction of the roller. Priming processing means to make a state in which a lot of processing liquid is attached,
前記プライミング処理手段による処理の後、前記ノズル移動手段により、前記ノズル先端の前後方向の処理液が少なく付着した側を進行方向として前記処理液供給ノズルを移動させ、被処理基板に対する塗布処理を行うことを特徴とする塗布膜形成装置。After the processing by the priming processing means, the nozzle moving means moves the processing liquid supply nozzle with the side where the processing liquid in the front-rear direction of the nozzle tip is attached as the traveling direction, and performs the coating process on the substrate to be processed. A coating film forming apparatus.
前記ローラは、少なくとも前記第一のステージと第二のステージとの間に設置されることを特徴とする請求項10に記載された塗布膜形成装置。The coating film forming apparatus according to claim 10, wherein the roller is disposed at least between the first stage and the second stage. 前記プライミング処理手段は、前記ローラの回転を制御するローラ回転制御手段を備え、The priming processing means includes roller rotation control means for controlling rotation of the roller,
前記ノズル先端に対する処理の際、前記ローラ回転制御手段は、被処理基板に対する塗布処理が前記第一のステージまたは前記第二のステージのいずれで行われるかにより、前記ローラの回転方向を決定することを特徴とする請求項10または請求項11に記載された塗布膜形成装置。When processing the nozzle tip, the roller rotation control means determines the rotation direction of the roller depending on whether the coating process for the substrate to be processed is performed on the first stage or the second stage. The coating film forming apparatus according to claim 10 or 11, characterized in that:
前記プライミング手段は、二つの前記ローラを備え、The priming means includes two of the rollers,
前記二つのローラは、それぞれ前記第一のステージおよび第二のステージの右側または左側に配置され、The two rollers are arranged on the right side or the left side of the first stage and the second stage, respectively.
前記二つのローラのいずれか一方の側方には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられることを特徴とする請求項10乃至請求項12のいずれかに記載された塗布膜形成装置。The moisturizing means for suppressing the drying of the tip of the treatment liquid supply nozzle is provided on either side of the two rollers, according to any one of claims 10 to 12. Coating film forming device.
前記プライミング手段は、前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラに近接させた際に、前記ノズルを挟んで前記ローラの左右に配置された二つのワイパを有し、The priming means has two wipers arranged on the left and right sides of the roller when the discharge port of the processing liquid supply nozzle is brought close to the roller.
前記ローラ回転制御手段の制御により一方向に回転する前記ローラの回転方向上流側の前記ワイパのみをローラ周面に摺接させ、該周面上の不要な処理液を除去することを特徴とする請求項12または請求項13に記載された塗布膜形成装置。Only the wiper on the upstream side in the rotation direction of the roller that rotates in one direction under the control of the roller rotation control means is brought into sliding contact with the roller peripheral surface to remove unnecessary processing liquid on the peripheral surface. The coating film forming apparatus according to claim 12 or 13.
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