JP2013167802A - Wet processing unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はガラス基板等を処理する枚葉処理工程や、帯状フィルム等を処理するウェブ処理工程を有する製造ラインにおいて用いられる、処理液を使用する装置（以下、ＷＥＴ処理装置）に関するものである。 The present invention relates to an apparatus using a processing liquid (hereinafter referred to as a WET processing apparatus) used in a production line having a single wafer processing process for processing a glass substrate or the like and a web processing process for processing a strip-shaped film or the like.
ガラス基板等を処理する枚葉処理工程や、帯状フィルム等を処理するウェブ処理工程を有する製造ラインでは、処理液を使用する工程が多く存在する。 In a production line having a single wafer processing step for processing a glass substrate or the like and a web processing step for processing a strip-shaped film or the like, there are many steps using a processing liquid.
図１に枚葉処理工程で製造されるガラス基板の一例としてカラー液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタの断面を示す。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。 FIG. 1 shows a cross section of a color filter used in a color liquid crystal display as an example of a glass substrate manufactured in a single wafer processing step. The color filter 1 includes a black matrix (hereinafter referred to as BM) 3, a red R colored pixel (hereinafter referred to as R pixel) 4-1, a green G colored pixel (hereinafter referred to as G pixel) 4-2, blue on a glass substrate 2. B colored pixels (hereinafter referred to as B pixels) 4-3, a transparent electrode 5, a photo spacer (hereinafter referred to as PS) 6, and a vertical alignment (hereinafter referred to as VA) 7 were sequentially formed. Is.
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法を用いることが知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｃ１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ４）、露光処理する工程（Ｃ５）、現像処理する工程（Ｃ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ７）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ９）がこの順に行われ製造される。 The manufacturing method of the color filter having the above structure is known to use a photolithography method, a printing method, and an ink jet method, and FIG. 2 is a flowchart showing steps of a commonly used photolithography method. . The color filter includes a step of forming BM on a glass substrate (C1), a step of cleaning the glass substrate (C2), a step of applying and pre-drying a colored photoresist (C3), and a colored photoresist. A pre-baking step (C4) for drying and curing, a step (C5) for exposing, a step (C6) for developing, a step (C7) for curing a colored photoresist, and a step (C8) for depositing a transparent electrode. , PS and VA are formed and processed in this order (C9).
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色フォトレジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。 For example, when the pixels are formed in the order of R pixel, G pixel, and B pixel, red is performed between the process of cleaning the color filter glass substrate (C2) and the process of curing the colored photoresist (C7). The colored photoresist is changed in the order of R, green G, and blue B, and the process is repeated three times to form R pixels, G pixels, and B pixels.
上記図２に示すカラーフィルタ製造工程においてもガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）、現像処理する工程（Ｃ６）といった、ＷＥＴ処理工程や装置が存在する。この傾向は、液晶テレビや半導体製造工程においても顕著である。ＷＥＴ処理工程として洗浄処理工程（Ｃ２）、現像処理工程（Ｃ６）のほかに図示しないエッチング処理工程、剥離処理工程、等が挙げられる。 Also in the color filter manufacturing process shown in FIG. 2, there are WET processing steps and apparatuses, such as a step (C2) for cleaning the glass substrate and a step (C6) for developing. This tendency is remarkable also in the liquid crystal television and the semiconductor manufacturing process. Examples of the WET process include an etching process, a peeling process, etc. (not shown) in addition to the cleaning process (C2) and the development process (C6).
これらの処理工程で用いられる装置は、ガラス基板に対して処理液を連続供給する必要がある。供給方式としては、スプレーノズルによる処理液の塗布と噴霧方式が最も一般的である。そのほかに従来では、処理液を用いる工程ではバッチ処理としてガラス基板を処理液に浸漬する方式も採用されていたが、製造ラインの生産能力の観点からガラス基板を連続的に搬送するために、ワークを処理液に浸漬する方式は採用されず、最近ではＷＥＴ装置の殆どが塗布または噴霧方式を採用している。 The apparatus used in these processing steps needs to continuously supply the processing liquid to the glass substrate. As the supply method, the application of the treatment liquid by a spray nozzle and the spray method are the most common. In addition, in the past, a method of immersing a glass substrate in the processing liquid as a batch process was also adopted in the process using the processing liquid. Is not adopted, and most of the WET devices have recently adopted a coating or spraying method.
しかしながら上記塗布や噴霧方式の場合には、ガラス基板に一度付着した処理液が、後から噴霧されるフレッシュな処理液とガラス基板との化学的反応を阻害し、結果として以下に示す問題が発生する。
即ち、（１）処理時間が延び、結果として処理装置の生産能力が落ちる。（２）ガラス基板面内での処理液が不均一となるためプロセス進行度合いに差が生じ、結果として製品の品質にバラツキが生ずる。（３）ガラス基板を傾斜させる処置により、古い処理液の排除スピードを向上することは可能であるが、ワーク面内のプロセス進行度合いの不均一性は解決されない。
However, in the case of the above application or spraying method, the treatment liquid once adhered to the glass substrate inhibits the chemical reaction between the fresh treatment liquid sprayed later and the glass substrate, resulting in the following problems. To do.
That is, (1) the processing time is extended, and as a result, the production capacity of the processing apparatus is reduced. (2) Since the processing liquid in the glass substrate surface is not uniform, a difference occurs in the degree of progress of the process, resulting in variations in product quality. (3) Although it is possible to improve the removal speed of the old processing liquid by the treatment of inclining the glass substrate, the non-uniformity of the progress of the process in the work surface is not solved.
上記課題は、ガラス基板のような枚葉基板に限らず、帯状フィルムを処理するウェブ処理工程においても解決が望まれていた。 The problem has been desired to be solved not only in a single-wafer substrate such as a glass substrate but also in a web processing step for processing a strip film.
本発明は上記事情に鑑み、枚葉基板や帯状フィルム上の処理液を均一に保つことが可能なＷＥＴ処理装置を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a WET processing apparatus capable of keeping a processing solution on a single wafer substrate or a strip-shaped film uniform.
本発明の請求項１に係る発明は、基板や帯状フィルムを処理する製造ラインにおいて用いられるＷＥＴ処理装置であって、
スクリューノズルと、処理液供給部と、エアー供給部と、カバーと、バックサポートロールと、で構成され、
スクリューノズルは、ねじ状の形状を有し、全幅に中空構造を備え、ねじ山部にスリット状の開口を有し、基板や帯状フィルム上に近接して設置され、
処理液供給部によって前記スクリューノズルの端部のねじの谷部に処理液が供給され、
エアー供給部によって前記スクリューノズルの中空構造の端から供給されたエアーが、前記スリット状の開口から噴出し、
カバーによってスクリューノズルは上方から覆われ、
バックサポートロールは基板や帯状フィルムに対して前記スクリューノズルと対向する位置に設けられ、
カバーと、スクリューノズルのねじ谷部と、基板や帯状フィルムと、で形成された閉塞部に前記スリット状の開口からエアーを噴出し、閉塞部に処理液を保持しながらスクリューノズルを回転することによって処理液を掻きとりながらこの処理液を移動させ、同時に基板や帯状フィルムを搬送することによって全面をＷＥＴ処理することを特徴とするＷＥＴ処理装置である。
The invention according to claim 1 of the present invention is a WET processing apparatus used in a production line for processing a substrate or a belt-like film,
It is composed of a screw nozzle, a processing liquid supply unit, an air supply unit, a cover, and a back support roll.
The screw nozzle has a screw-like shape, has a hollow structure in the entire width, has a slit-like opening in the thread portion, and is installed close to a substrate or a belt-like film,
The processing liquid is supplied to the valley of the screw at the end of the screw nozzle by the processing liquid supply unit,
The air supplied from the end of the hollow structure of the screw nozzle by the air supply unit is ejected from the slit-shaped opening,
The screw nozzle is covered from above by the cover,
The back support roll is provided at a position facing the screw nozzle with respect to the substrate and the belt-like film,
Air is blown from the slit-shaped opening to the closed portion formed by the cover, the screw valley portion of the screw nozzle, the substrate and the belt-like film, and the screw nozzle is rotated while holding the processing liquid in the closed portion. The WET processing apparatus is characterized in that the entire surface is WET processed by moving the processing liquid while scraping the processing liquid and simultaneously transporting the substrate and the belt-like film.
本発明の請求項２に係る発明は、前記スクリューノズルと基板や帯状フィルムとの間隔は調整可能であることを特徴とする請求項１に記載のＷＥＴ処理装置である。 The invention according to claim 2 of the present invention is the WET processing apparatus according to claim 1, wherein a distance between the screw nozzle and the substrate or the belt-like film is adjustable.
本発明の請求項３に係る発明は、前記スクリューノズルは時計方向に回転するスクリューノズルと反時計方向に回転するスクリューノズルからなることを特徴とする請求項１または２に記載のＷＥＴ処理装置である。 The invention according to claim 3 of the present invention is the WET processing device according to claim 1 or 2, wherein the screw nozzle comprises a screw nozzle that rotates clockwise and a screw nozzle that rotates counterclockwise. is there.
本発明の請求項４に係る発明は、前記スクリューノズルの回転方向は可変であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置である。 The invention according to claim 4 of the present invention is the WET processing device according to any one of claims 1 to 3, wherein the rotation direction of the screw nozzle is variable.
本発明の請求項５に係る発明は、前記スクリューノズルはガラス基板やフィルム基材の搬送方向に対して角度Θの位置に設けられることを特徴とする請求項１から４のいずれか
に記載のＷＥＴ処理装置である。
The invention according to claim 5 of the present invention is characterized in that the screw nozzle is provided at a position of an angle Θ with respect to the conveying direction of the glass substrate or the film base material. A WET processing device.
本発明の請求項６に係る発明は、前記スクリューノズルの回転速度は可変であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置である。 The invention according to claim 6 of the present invention is the WET processing device according to any one of claims 1 to 5, wherein the rotational speed of the screw nozzle is variable.
本発明の請求項７に係る発明は、更にノズル洗浄ユニットを有し、このノズル洗浄ユニットは前記スクリューノズルのねじにかみ合って設けられており、スクリューノズルの回転によってスクリューノズルの幅方向に移動してスクリューノズルを洗浄し、一方、処理液によって処理されている際には移動しない構造を有することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置である。 The invention according to claim 7 of the present invention further includes a nozzle cleaning unit, and this nozzle cleaning unit is provided so as to mesh with the screw of the screw nozzle, and moves in the width direction of the screw nozzle by the rotation of the screw nozzle. The WET processing device according to claim 1, wherein the WET processing device has a structure in which the screw nozzle is washed and, on the other hand, does not move when being processed by the processing liquid.
本発明のＷＥＴ処理装置によれば、処理によって劣化した液をワーク上を確実に掻きとりながら移動することが出来るため、処理液供給側の閉領域内に存在するより新しい処理液による化学的反応を効率的に推進できる。 According to the WET processing apparatus of the present invention, since the liquid deteriorated by the processing can be moved while reliably scraping the workpiece, the chemical reaction by the newer processing liquid existing in the closed region on the processing liquid supply side. Can be promoted efficiently.
また本発明に係るスクリューノズルの山部に設けられたスリットからエアーを噴射させることで、閉領域の現像液をより確実に移動させることが可能となり、更に現像液の劣化度合いとワーク接触座標の関係を制御することが可能となるため、化学的反応の進行度合いを面内で均一となるようコントロールすることが出来る。その結果、ワーク面内の化学的反応度合いの均一性をより向上させることが出来る。 In addition, it is possible to move the developer in the closed region more reliably by ejecting air from the slit provided in the peak portion of the screw nozzle according to the present invention, and further, the degree of deterioration of the developer and the workpiece contact coordinates Since the relationship can be controlled, the progress of the chemical reaction can be controlled to be uniform in the plane. As a result, the uniformity of the degree of chemical reaction within the work surface can be further improved.
ワークの一例としてガラス基板を、またＷＥＴ処理の一例としてワーク上に形成された塗膜の現像処理を行う場合に用いられる現像処理装置を図面を用いて説明する。 A development processing apparatus used when developing a glass substrate as an example of a work and developing a coating film formed on the work as an example of a WET process will be described with reference to the drawings.
図３は本発明の現像処理装置の構成を模式的に示す図である。図３（ａ）は上面から見た図、図３（ｂ）は側面から見た面を示す。現像処理装置は、矢印１０１で示す方向に搬送されるガラス基板１００（以下、ワーク１００）を現像処理するための装置であって、ねじ状の形状を有したスクリューノズル１０−１、１０−２と、スクリューノズルに上方から処理液を供給する処理液供給部（この場合は現像液供給部）１１−１、１１−２と、スクリューノズル１０−１、１０−２の中空構造の端部からエアーを供給するエアー供給部１２−１、１２−２と、スクリューノズル１０−１、１０−２を覆うカバー１３−１，１３−２と、ワーク１００に対してスクリューノズル１０−１、１０−２と対向する位置に設けられたバックサポートロール１４−１、１４−２と、スクリューノズル１０−１、１０−２のねじにかみ合って設けられた図示しないノズル洗浄ユニットと、を備えている。上記スクリューノズルと現像液供給部とエアー供給部とカバーとは、それぞれ２個の場合を示しているが、これに限定されず適宜その数を選択すれば良い。また、バックサポートロールは、スクリューノズルと同数でなくても良く、ワークの種類（ガラス基板かフィルム）や大きさによって適宜設ければ良い。 FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of the development processing apparatus of the present invention. FIG. 3A shows a view from the top, and FIG. 3B shows a view from the side. The development processing apparatus is an apparatus for developing a glass substrate 100 (hereinafter referred to as a workpiece 100) conveyed in a direction indicated by an arrow 101, and screw nozzles 10-1 and 10-2 having a screw shape. From the ends of the hollow structures of the processing liquid supply units (in this case, the developing solution supply units) 11-1 and 11-2 that supply the processing liquid to the screw nozzle from above, and the screw nozzles 10-1 and 10-2 Air supply units 12-1 and 12-2 that supply air, covers 13-1 and 13-2 that cover the screw nozzles 10-1 and 10-2, and screw nozzles 10-1 and 10-for the workpiece 100 Back support rolls 14-1 and 14-2 provided at positions opposed to the nozzles 2, and a nozzle cleaning unit (not shown) provided in mesh with the screws of the screw nozzles 10-1 and 10-2. It is equipped with a. The number of the screw nozzles, the developer supply unit, the air supply unit, and the cover is two, but the number is not limited to this and may be selected as appropriate. Further, the number of back support rolls may not be the same as the number of screw nozzles, and may be appropriately provided depending on the type of workpiece (glass substrate or film) and size.
図４（ａ）は例えばスクリューノズル１０−１の断面を詳細に示し側面から見た図である。スクリューノズル１０−１は、ねじの山部１０−１ａとねじの谷部１０−１ｂを備えたねじ状の形状を有し、全幅にわたってねじ山部１０−１ａにスリット状の開口１０−１ｃを有している。スクリューノズル１０−１は中空構造１０−１ｄをなしており、その端部にはエアー供給部１２−１が繋がれエアーが供給される。図４（ａ）ではエアー供給はスクリューノズル１０−１の左の端部１０−１ｅからエアーを供給する場合を示しているが、左右の両端部から供給しても良い。エアー供給部１２−１からエアーが供給されることによってスリット状の開口１０−１ｃからエアーを噴出することが出来る。 FIG. 4A shows, for example, the cross-section of the screw nozzle 10-1 in detail and viewed from the side. The screw nozzle 10-1 has a screw-like shape including a thread crest 10-1a and a screw trough 10-1b, and has a slit-like opening 10-1c in the thread crest 10-1a over the entire width. Have. The screw nozzle 10-1 has a hollow structure 10-1d, and an air supply unit 12-1 is connected to the end of the screw nozzle 10-1 to supply air. Although FIG. 4A shows the case where air is supplied from the left end 10-1e of the screw nozzle 10-1, it may be supplied from both left and right ends. By supplying air from the air supply unit 12-1, air can be ejected from the slit-shaped opening 10-1c.
図４（ｂ）はスクリューノズル１０−１の設置状態を説明するための図で、スクリューノズル１０−１の断面を正面から見た図を示す。スクリューノズル１０−１は矢印１０１の方向に搬送されるワーク１００に近接して設置される。スクリューノズル１０−１はカバー１３−１で覆われている。カバー１３−１の天面には開口１３−１ａが設けられており、その開口を介してスクリューノズル１０−１の端部のねじの谷部には、処理液供給部（この場合は現像液供給部を指す）１１−１から現像液が供給される。また、ワーク１００に対してスクリューノズル１０−１と対向する位置（ワークに現像液が供給される裏側）にバックサポートロール１４−１が設けられておりワーク１００の撓みが補正される。 FIG. 4B is a diagram for explaining an installation state of the screw nozzle 10-1, and shows a cross section of the screw nozzle 10-1 as viewed from the front. The screw nozzle 10-1 is installed in the vicinity of the workpiece 100 conveyed in the direction of the arrow 101. The screw nozzle 10-1 is covered with a cover 13-1. An opening 13-1a is provided on the top surface of the cover 13-1, and a processing liquid supply unit (in this case, a developing solution) is provided through the opening at the thread valley of the end of the screw nozzle 10-1. The developer is supplied from 11-1 (referring to a supply unit). Further, a back support roll 14-1 is provided at a position facing the work 100 with respect to the screw nozzle 10-1 (the back side where the developer is supplied to the work), and the bending of the work 100 is corrected.
図５は現像液供給部１１−１ａ、１１−１ｂを説明するための図である。スクリューノズル１０−１にはその左端部のねじの谷部に現像液２０−１ａを供給する現像液供給部１１−１ａと、その右端部のねじの谷部に現像液２０−１ｂを供給する現像液供給部１１−１ｂを備えている、左端部あるいは右端部の現像供給部のどちらかが選択されて現像液は供給される。図５ではスクリューノズル１０−１を例示したが、スクリューノズルの全てにその左端部のねじの谷部、更に右端部のねじの谷部に現像液を供給する現像供給部が備えられている。 FIG. 5 is a diagram for explaining the developer supply units 11-1a and 11-1b. The screw nozzle 10-1 is supplied with a developer supply unit 11-1a for supplying the developer 20-1a to the screw valley at the left end, and is supplied with the developer 20-1b at the screw valley at the right end. Either the left end portion or the right end development supply portion, which includes the developer supply portion 11-1b, is selected and the developer is supplied. Although the screw nozzle 10-1 is illustrated in FIG. 5, all the screw nozzles are provided with a developing supply section for supplying a developer to the screw valley portion at the left end portion and further to the screw valley portion at the right end portion.
図６はワーク１００が現像される際の様子を示す図であって、例えばスクリューノズル１０−１の場合で、現像液供給部１１−１ａから現像液２０−１ａが左端部のねじの谷部に供給される場合を示す図である。現像液供給部１１−１ａから現像液２０−１ａは左端部のねじの谷部に供給され、スクリューノズル１０−１は矢印１０２で示す方向に回転する。一方、ワーク１００は紙面の手前から奥に向かって搬送される。破線４０の部分を拡大した図はワークが現像される際の様子を詳しく説明するための図である。スクリューノズル１０−１はガラス基板１００に近接して設置され、ねじの谷部１０−１ｂと、ワーク１００とで閉塞部２１が形成される。また、図示しないカバーでスクリューノズル１０−１は覆われているため閉塞部２１には現像液１１０が保持され、更にスリット状の開口１
０−１ｃからエアー２３を噴出しているため、スクリューノズル１０−１のねじの谷部１０−１ｂに保持された現像液１１０は、閉塞部２１に保持された状態でスクリューノズル１０−１を矢印１０２の方向に回転することによって、掻き取られるようにして矢印２４で示す方向に移動し、隣接したねじの谷部１０−２ｂ、更にねじの谷部１０−３ｂに移動する。この場合、現像液供給部１１−１ａから現像液２０−１ａは連続して供給される。拡大した図ではワーク１００は紙面の奥の方向に搬送される。
FIG. 6 is a diagram showing a state when the workpiece 100 is developed. For example, in the case of the screw nozzle 10-1, the developer 20-1a from the developer supply unit 11-1a is a screw valley at the left end. It is a figure which shows the case where it supplies to. The developer 20-1a is supplied from the developer supply unit 11-1a to the screw valley at the left end, and the screw nozzle 10-1 rotates in the direction indicated by the arrow 102. On the other hand, the workpiece 100 is transported from the front of the sheet to the back. The enlarged view of the broken line 40 is a diagram for explaining in detail the state when the workpiece is developed. The screw nozzle 10-1 is installed in the vicinity of the glass substrate 100, and the closed portion 21 is formed by the screw valley 10-1 b and the work 100. Further, since the screw nozzle 10-1 is covered with a cover (not shown), the developer 110 is held in the closing portion 21, and the slit-shaped opening 1 is further retained.
Since the air 23 is ejected from 0-1c, the developer 110 held in the screw trough 10-1b of the screw nozzle 10-1 moves the screw nozzle 10-1 in a state where it is held in the closed portion 21. By rotating in the direction of the arrow 102, it moves in the direction shown by the arrow 24 so as to be scraped off, and moves to the adjacent screw valley 10-2b and further to the screw valley 10-3b. In this case, the developer 20-1a is continuously supplied from the developer supply unit 11-1a. In the enlarged view, the workpiece 100 is conveyed in the direction toward the back of the page.
図７はスクリューノズル１０−２の場合を示す図である。現像液供給部１１−２から現像液２０−２は右端部のねじの谷部に供給される。スクリューノズル１０−２は矢印１０３で示される方向に回転する。その結果、スクリューノズル１０−２のねじの谷部に供給され閉塞部に保持された現像液１１１は、上記スクリューノズル１０−１の場合とは逆方向の矢印１０５で示す方向に掻き取られるようにして隣接したねじの谷部に移動する。この場合、現像液供給部１１−２から現像液２０−２は連続して供給される。 FIG. 7 is a diagram showing the case of the screw nozzle 10-2. The developing solution 20-2 is supplied from the developing solution supply unit 11-2 to the screw valley at the right end. Screw nozzle 10-2 rotates in the direction indicated by arrow 103. As a result, the developer 111 supplied to the screw valley of the screw nozzle 10-2 and held in the closed portion is scraped off in the direction indicated by the arrow 105 in the direction opposite to that of the screw nozzle 10-1. To the adjacent thread valley. In this case, the developer 20-2 is continuously supplied from the developer supply unit 11-2.
図６、図７で示されるようにエアーによってワーク１００とねじの山部で形成された閉塞部に保持された現像液を掻きとるように移動する必要があるため、スクリューノズル１０−１、及びスクリューノズル１０−２は上記したようにワーク１００と近接した位置に設置されることが望ましい。 As shown in FIG. 6 and FIG. 7, it is necessary to move the developer held by the closed portion formed by the workpiece 100 and the thread crest by air, so that the screw nozzle 10-1, and It is desirable that the screw nozzle 10-2 be installed at a position close to the workpiece 100 as described above.
また、スクリューノズル１０−１及びスクリューノズル１０−２と、ワークとの間隔は近接した位置で調整可能であることが望ましく、それによって閉塞部の体積を調整することが出来、現像液の量をコントロールすることが可能となり、処理時間を短縮することが出来る。 Further, it is desirable that the distance between the screw nozzle 10-1 and the screw nozzle 10-2 and the workpiece can be adjusted at a close position, whereby the volume of the closed portion can be adjusted, and the amount of the developer can be reduced. It becomes possible to control and processing time can be shortened.
図６、図７で示される符号１４はバックサポートロールであって、ワーク１００に対してスクリューノズル１０−１、１０−２と対向する位置に置かれ、ワーク１００の撓みを抑制するためのものであり、ワークの種類や大きさや撓みの大きさによって、その本数は適宜設けられる。 Reference numeral 14 shown in FIG. 6 and FIG. 7 denotes a back support roll, which is placed at a position facing the screw nozzles 10-1 and 10-2 with respect to the workpiece 100 to suppress the deflection of the workpiece 100. The number is appropriately set depending on the type and size of the work and the size of the deflection.
図８はワークに対するスクリューノズルの設置位置を説明するための図である。スクリューノズル１０−１と１０−２はワーク１００の搬送方向１０１に対して直交ではなく、角度Θをもって設けられる。 FIG. 8 is a view for explaining the installation position of the screw nozzle with respect to the workpiece. The screw nozzles 10-1 and 10-2 are not orthogonal to the conveyance direction 101 of the workpiece 100 but are provided with an angle Θ.
そしてワーク１００を矢印１０１の方向へ搬送し、スクリューノズル１０−１を矢印１０２の方向に、またスクリューノズル１０−２を矢印１０３の方向に回転すると、図９に示すようにスクリューノズル１０−１によって矢印１２１の方向に現像液が掻きとられ、またスクリューノズル１０−２によって矢印１２２の方向に現像液が掻きとられ、その結果、ワーク１００の全面が現像される。 Then, when the workpiece 100 is conveyed in the direction of the arrow 101 and the screw nozzle 10-1 is rotated in the direction of the arrow 102 and the screw nozzle 10-2 is rotated in the direction of the arrow 103, the screw nozzle 10-1 as shown in FIG. As a result, the developer is scraped off in the direction of the arrow 121, and the developer is scraped off in the direction of the arrow 122 by the screw nozzle 10-2. As a result, the entire surface of the workpiece 100 is developed.
図９に示されるようにワーク１００の全面を現像するためには、矢印１２１、矢印１２２のようにワーク１００の搬送方向に対して直交するように現像液を掻きれば良く、その為には、スクリューノズル１０−１とスクリューノズル１０−２が設けられる上記角度Θは、スクリューノズルのねじ山の間隔（ねじ山ピッチ）と回転速度とワークの搬送速度によって決定することが望ましい。 As shown in FIG. 9, in order to develop the entire surface of the workpiece 100, the developer may be scraped so as to be orthogonal to the conveying direction of the workpiece 100 as indicated by arrows 121 and 122. The angle Θ at which the screw nozzle 10-1 and the screw nozzle 10-2 are provided is preferably determined according to the screw thread interval (screw pitch), the rotational speed, and the workpiece conveying speed.
更に、図８ではスクリューノズルは回転方向がそれぞれ異なる２本の場合を例示したが、ワーク１００の全面を均一に現像するにはこれに限定されるものではなく、その本数を適宜選択することが望ましい。 Further, FIG. 8 illustrates the case where two screw nozzles have different rotation directions, but the present invention is not limited to this in order to uniformly develop the entire surface of the workpiece 100, and the number of the screw nozzles can be appropriately selected. desirable.
このように、現像によって劣化した液をワーク上を確実に掻きとりながら移動すること
が出来るため、現像液供給側の閉領域内に存在するより新しい現像液による化学的反応を効率的に推進できる（即ち、古い液が新液の反応を阻害しない）。一般に現像液は、ワークと接触した状態で時間が経過すると劣化する（新液に比べ、発生する化学的反応が鈍化する）ため、ワーク上に供給された後は速やかに除去されることが望ましいが、本発明に係るスクリューノズルによればこれを達成することが可能となる。また、次に示すように現像液の劣化度合いとワーク接触座標の関係を制御することが可能となるため、化学的反応の進行度合いを面内で均一となるようコントロールすることが出来る。
As described above, since the liquid deteriorated by the development can be moved while being reliably scraped on the work, the chemical reaction by the newer developer existing in the closed region on the developer supply side can be efficiently promoted. (That is, the old liquid does not inhibit the reaction of the new liquid). In general, the developer deteriorates over time when it is in contact with the workpiece (the chemical reaction that occurs is slow compared to the new solution), so it is desirable that the developer be removed quickly after being supplied onto the workpiece. However, the screw nozzle according to the present invention can achieve this. Further, since it becomes possible to control the relationship between the deterioration degree of the developer and the workpiece contact coordinates as shown below, the progress of the chemical reaction can be controlled to be uniform in the plane.
本発明に係るスクリューノズルによってワークを現像した場合には、例えば面内の現像むら（不均一）が発生した場合には、むらの位置から上記現像液の劣化度合いとワーク接触座標の関係を知ることが出来るため、スクリューノズルの本数を変更したり、更にスクリューノズルの１本毎の回転方向や回転速度を変えることによって、均一に現像することが可能になる。 When the work is developed by the screw nozzle according to the present invention, for example, when uneven development (non-uniformity) occurs in the surface, the relationship between the degree of deterioration of the developer and the work contact coordinates is known from the uneven position. Therefore, uniform development can be achieved by changing the number of screw nozzles or changing the rotational direction and rotational speed of each screw nozzle.
また本発明に係るスクリューノズルの山部に設けられたスリットからエアーを噴射させることで、閉領域の現像液をより確実に移動させることが可能となり、その結果、ワーク面内の化学的反応度合いの均一性をより向上させることが出来る。更に、エアーを噴射させるといった非接触移動方式であるため、ワークへの異物付着やキズ発生といった問題の発生を防ぐことが出来る。 In addition, it is possible to move the developer in the closed region more reliably by injecting air from the slit provided in the peak portion of the screw nozzle according to the present invention, and as a result, the degree of chemical reaction in the workpiece surface. The uniformity can be further improved. Furthermore, since it is a non-contact moving method in which air is injected, it is possible to prevent the occurrence of problems such as adhesion of foreign matter to the work and generation of scratches.
図１０はスクリューノズルを洗浄する洗浄ユニットの概略構成を示す図である。一般的に現像液を噴射したり塗布するノズルは、定期的に洗浄することが望ましい。本発明に係るノズル洗浄ユニットは洗浄ブロック３１、ローラ３２、リニアガイド３３で構成されている。洗浄ブロック３１はスクリューノズル１０のねじにかみ合った状態で設けられている。リニアガイド３３は矢印３４で示す方向に移動する機能を有しおり、例えば板金を用いることが出来る。ローラ３２はリニアガイド３３に接しながら回転する。ノズル洗浄ユニットは、自重では回転せず現在位置を保持できる程度の保持力を有しており、これは、例えばノズル洗浄ユニットとスクリューノズル間をボールねじ構造で連結して、いわゆる与圧を高めることによって達成できる。ローラ３２がリニアガイド３３に接しながら回転する場合には、ノズル洗浄ブロック３１はスクリューノズル１０の回転方向に伴って矢印３５の方向に移動する。 FIG. 10 is a diagram showing a schematic configuration of a cleaning unit for cleaning the screw nozzle. In general, it is desirable to periodically clean a nozzle for spraying or applying a developing solution. The nozzle cleaning unit according to the present invention includes a cleaning block 31, a roller 32, and a linear guide 33. The cleaning block 31 is provided in a state of being engaged with the screw of the screw nozzle 10. The linear guide 33 has a function of moving in the direction indicated by the arrow 34, and for example, a sheet metal can be used. The roller 32 rotates while contacting the linear guide 33. The nozzle cleaning unit does not rotate under its own weight and has a holding force that can hold the current position. For example, the nozzle cleaning unit and the screw nozzle are connected by a ball screw structure to increase the so-called pressurization. Can be achieved. When the roller 32 rotates while being in contact with the linear guide 33, the nozzle cleaning block 31 moves in the direction of the arrow 35 along with the rotation direction of the screw nozzle 10.
図１１はノズル洗浄ユニットの動作を示す図である。図１１（ａ）は、スクリューノズル１０が矢印１０２の方向に回転し現像を行う場合を示しており、スクリューノズル１０が回転すると、ノズル洗浄ユニットは矢印１０４の方向に回転する。この場合ノズル洗浄ユニットは回転するが水平方向には移動しない。リニアガイド３３が矢印３６で示す方向に移動すると図１１（ｂ）に示すように洗浄開始となる。この場合、リニアガイド３３にローラ３２が接し、これによって洗浄ブロック３１の回転が解除され、洗浄ブロック３１は矢印３７で示す方向に移動する。洗浄ブロック３１が移動することによってスクリューノズル１０を洗浄（洗浄その１）することが出来る。図１１（ｃ）は洗浄終了時を示しており、ローラ３２がリニアガイド３３から外れると洗浄ブロック３１はこれ以上矢印３７で示す方向へは移動しない。また、図１１（ｄ）に示すようにリニアガイド３３をローラ３２の位置まで矢印３８で示す方向に移動し、更にスクリューノズル１０を矢印１０５で示す方向に回転することによって、洗浄ブロック３１は矢印３９で示す方向に移動して洗浄（洗浄その２）を行うことが出来る。 FIG. 11 is a diagram illustrating the operation of the nozzle cleaning unit. FIG. 11A shows a case where the screw nozzle 10 rotates in the direction of the arrow 102 to perform development. When the screw nozzle 10 rotates, the nozzle cleaning unit rotates in the direction of the arrow 104. In this case, the nozzle cleaning unit rotates but does not move in the horizontal direction. When the linear guide 33 moves in the direction indicated by the arrow 36, cleaning is started as shown in FIG. In this case, the roller 32 comes into contact with the linear guide 33, whereby the rotation of the cleaning block 31 is released, and the cleaning block 31 moves in the direction indicated by the arrow 37. As the cleaning block 31 moves, the screw nozzle 10 can be cleaned (cleaning 1). FIG. 11C shows the end of cleaning. When the roller 32 is removed from the linear guide 33, the cleaning block 31 does not move in the direction indicated by the arrow 37 any more. 11D, the linear guide 33 is moved to the position of the roller 32 in the direction indicated by the arrow 38, and the screw nozzle 10 is further rotated in the direction indicated by the arrow 105, whereby the cleaning block 31 is moved to the arrow. It can move to the direction shown by 39 and can wash | clean (cleaning 2).
本発明に係る上記洗浄ユニットは、現像液を繰り返し循環して使用することによる異物やゲルの付着がある場合に用いることが可能であるが、比較的、液汚れの少ない置換（循環）水洗エリアにおいて、最も効果を発揮することができる。 The cleaning unit according to the present invention can be used in the case where foreign matter or gel adheres due to repeated use of the developer, but the replacement (circulation) washing area with relatively little liquid contamination. The most effective can be achieved.
上記本発明の実施形態では、ガラス基板の現像処理装置を例として説明したが、一般的にＷＥＴ処理と呼ばれるエッチング装置や剥離処理装置へ適用することが出来る。ガラス基板のような枚葉処理工程に限らず、帯状フィルムを処理するウェブ処理工程を有する製造ラインに広く用いることが出来る。 In the embodiment of the present invention, the glass substrate development processing apparatus has been described as an example. However, the present invention can be applied to an etching apparatus or a peeling processing apparatus generally called a WET process. Not only a single wafer processing process such as a glass substrate, but it can be widely used in a production line having a web processing process for processing a strip film.
以上のように本発明のＷＥＴ処理装置によれば、ガラス基板やフィルム基材上の処理液の劣化度合いと処理液のワーク上の所在位置を知ることが出来、スクリューノズルの回転速度や回転方向、更にワークとスクリューノズルの間隔をコンロールすることによって、処理液のワークに対する供給を適正にすることが出来、その結果、ワーク面内の処理の均一性を向上することが出来る。また、ノズルの自己洗浄機能を有するため、ノズル洗浄のための作業時間（ライン停止）が不要となり、生産性を向上することができる。 As described above, according to the WET processing apparatus of the present invention, it is possible to know the degree of deterioration of the processing liquid on the glass substrate or the film base and the position of the processing liquid on the work, and the rotational speed and direction of the screw nozzle. Further, by controlling the distance between the workpiece and the screw nozzle, it is possible to properly supply the treatment liquid to the workpiece, and as a result, the uniformity of the treatment within the workpiece surface can be improved. In addition, since the nozzle has a self-cleaning function, work time (line stop) for nozzle cleaning is not required, and productivity can be improved.
１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーテイカルアライメント
１０・・・スクリューノズル
１０−１、２・・・スクリューノズル
１０−２ｂ、３ｂ・・・隣接したねじの谷部
１０−１ａ・・・ねじの山部
１０−１ｂ・・・ねじの谷部
１０−１ｃ・・・スリット状の開口
１０−１ｄ・・・中空構造
１０−１ｅ・・・スクリューノズルの左の端部
１１−１、２・・・処理液供給部（現像液供給部）
１１−１ａ、１ｂ・・・現像液供給部
１２−１、２・・・エアー供給部
１３−１、２・・・カバー
１３−１ａ・・・カバーの天面に設けられた開口
１４−１、２・・・バックサポートロール
２０−１ａ、１ｂ・・・現像液
２０−２・・・現像液供給部１１−２から供給される現像液
２１・・・閉塞部
２３・・・エアー
２４・・・現像液が掻き取られるようにして移動する方向を示す矢印
３１・・・洗浄ブロック
３２・・・ローラ
３３・・・リニアガイド
３４・・・リニアガイドの移動する方向を示す矢印
３５・・・ノズル洗浄ユニットの移動方向を示す矢印
３６・・・リニアガイドの移動方向を示す矢印
３７・・・洗浄ブロックの移動方向を示す矢印
３８・・・リニアガイドをローラの位置まで移動する方向を示す矢印
３９・・・洗浄ブロックの移動方向を示す矢印
１００・・・ガラス基板（ワーク）
１０１・・・ワークが搬送される方向を示す矢印
１０２・・・スクリューノズル１０−１の回転方向を示す矢印
１０３・・・スクリューノズル１０−２の回転方向を示す矢印
１０４・・・ノズル洗浄ユニットの回転方向を示す矢印
１０５・・・閉塞部に保持された現像液１１１の移動方向を示す矢印
１１０・・・閉塞部に保持された現像液
１１１・・・閉塞部に保持された現像液
１２１・・・スクリューノズル１０−１によって現像液が掻きとられる方向を示す矢印
１２２・・・スクリューノズル１０−２によって現像液が掻きとられる方向を示す矢印
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color filter 2 ... Glass substrate 3 ... Black matrix (BM)
4-1 ... Red R colored pixels (R pixels)
4-2 ... Green G coloring pixel (G pixel)
4-3 ... Blue B colored pixels (B pixels)
5 ... Transparent electrode 6 ... Photospacer (PS)
7 ... Vertical alignment 10 ... Screw nozzles 10-1, 2 ... Screw nozzles 10-2b, 3b ... Adjacent screw valleys 10-1a ... Screw threads 10-1b ... Screw valley 10-1c ... Slit-like opening 10-1d ... Hollow structure 10-1e ... Left ends 11-1, 2 of screw nozzle ... Processing liquid supply part (Developer supply unit)
11-1a, 1b, developer supply units 12-1, 2 ... air supply units 13-1, 2 ... cover 13-1a ... opening 14-1 provided on the top surface of the cover 2 ... Back support rolls 20-1a, 1b ... Developer 20-2 ... Developer supplied from developer supply unit 11-2 ... Blocking unit 23 ... Air 24 ... .. Arrow 31 indicating the direction of movement so that the developer is scraped off ... Cleaning block 32 ... Roller 33 ... Linear guide 34 ... Arrow 35 indicating the direction of movement of the linear guide An arrow 36 indicating the moving direction of the nozzle cleaning unit .... An arrow 37 indicating the moving direction of the linear guide .... An arrow 38 indicating the moving direction of the cleaning block .... Shows the direction of moving the linear guide to the position of the roller. Arrow 39 ... Cleaning block Arrow 100 ... glass substrate showing the direction of movement of the (work)
101... Arrow 102 indicating the direction in which the workpiece is conveyed 102... Arrow 103 indicating the rotation direction of the screw nozzle 10-1. An arrow 105 indicating the rotation direction of the liquid crystal 110... An arrow 110 indicating a moving direction of the developer 111 held in the closed portion 110... A developer 111 held in the closed portion... A developer 121 held in the closed portion. ... Arrow 122 indicating direction in which developer is scraped by screw nozzle 10-1 ... Arrow indicating direction in which developer is scraped by screw nozzle 10-2
Claims (7)
スクリューノズルと、処理液供給部と、エアー供給部と、カバーと、バックサポートロールと、で構成され、
スクリューノズルは、ねじ状の形状を有し、全幅に中空構造を備え、ねじ山部にスリット状の開口を有し、基板や帯状フィルム上に近接して設置され、
処理液供給部によって前記スクリューノズルの端部のねじの谷部に処理液が供給され、
エアー供給部によって前記スクリューノズルの中空構造の端から供給されたエアーが、前記スリット状の開口から噴出し、
カバーによってスクリューノズルは上方から覆われ、
バックサポートロールは基板や帯状フィルムに対して前記スクリューノズルと対向する位置に設けられ、
カバーと、スクリューノズルのねじ谷部と、基板や帯状フィルムと、で形成された閉塞部に前記スリット状の開口からエアーを噴出し、閉塞部に処理液を保持しながらスクリューノズルを回転することによって処理液を掻きとりながらこの処理液を移動させ、同時に基板や帯状フィルムを搬送することによって全面をＷＥＴ処理することを特徴とするＷＥＴ処理装置。 A WET processing apparatus used in a production line for processing a substrate or a belt-shaped film,
It is composed of a screw nozzle, a processing liquid supply unit, an air supply unit, a cover, and a back support roll.
The screw nozzle has a screw-like shape, has a hollow structure in the entire width, has a slit-like opening in the thread portion, and is installed close to a substrate or a belt-like film,
The processing liquid is supplied to the valley of the screw at the end of the screw nozzle by the processing liquid supply unit,
The air supplied from the end of the hollow structure of the screw nozzle by the air supply unit is ejected from the slit-shaped opening,
The screw nozzle is covered from above by the cover,
The back support roll is provided at a position facing the screw nozzle with respect to the substrate and the belt-like film,
Air is blown from the slit-shaped opening to the closed portion formed by the cover, the screw valley portion of the screw nozzle, the substrate and the belt-like film, and the screw nozzle is rotated while holding the processing liquid in the closed portion. A WET processing apparatus that performs WET processing on the entire surface by moving the processing liquid while scraping the processing liquid and simultaneously transporting a substrate or a belt-like film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012031686A JP2013167802A (en) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | Wet processing unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012031686A JP2013167802A (en) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | Wet processing unit |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013167802A true JP2013167802A (en) | 2013-08-29 |
Family
ID=49178225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012031686A Pending JP2013167802A (en) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | Wet processing unit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2013167802A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104438158A (en) * | 2014-10-09 | 2015-03-25 | 潞安职业技术学院 | Anchor rod screw thread cleaner |
| CN105127056A (en) * | 2015-10-28 | 2015-12-09 | 安捷利电子科技（苏州）有限公司 | Small coating device |
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2012
- 2012-02-16 JP JP2012031686A patent/JP2013167802A/en active Pending
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