JP2005310409A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 印刷版の膨潤がなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の高精細なパターニングを可能とする。
【解決手段】 有機発光材料インキを供給するインキ供給手段(10、12)と、インキ供給手段によりロール表面に供給された有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるアニロックスロール14と、アニロックスロールに近接して配置され、ガラス基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように作製された凸版16がマウントされる版胴18と、アニロックスロール及び版胴を回転駆動する駆動手段と、版胴にマウントされた凸版に転移した前記有機発光材料インキをガラス基板に転写する際に加熱・溶融させるレーザ照射装置22と、駆動手段を駆動制御し、かつレーザ照射装置による加熱タイミングを制御する制御手段とを有する。
【選択図】 図1
【解決手段】 有機発光材料インキを供給するインキ供給手段(10、12)と、インキ供給手段によりロール表面に供給された有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるアニロックスロール14と、アニロックスロールに近接して配置され、ガラス基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように作製された凸版16がマウントされる版胴18と、アニロックスロール及び版胴を回転駆動する駆動手段と、版胴にマウントされた凸版に転移した前記有機発光材料インキをガラス基板に転写する際に加熱・溶融させるレーザ照射装置22と、駆動手段を駆動制御し、かつレーザ照射装置による加熱タイミングを制御する制御手段とを有する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ガラス基板の上にインキを高精度にパターンニングして印刷することで画像を形成する技術に係り、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子(以下有機EL素子という)の作製において、インキ化した有機発光材料をガラス基板の上に印刷法でパターンニングする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置に関する。
ガラス基板の上に、高精細にパターンニングしてインキを印刷する方法としては、オフセット印刷による方法や凸版印刷による方法およびスクリーン印刷による方法等が考えられる。基板がガラスであるため、グラビア印刷のように金属版で直刷りタイプの印刷方式は用いることができず、柔らかいゴムブランケットから基板にインキを転移させるオフセット印刷や同じく柔らかいゴム版からインキを転移させる凸版印刷または非転移方式のスクリーン印刷等が印刷可能な方式である。
一方、有機EL素子の作成において、有機発光材料を高精細にパターンニングする方法としては、低分子有機材料を用いてマスク蒸着法によりパターンニングする方法が一般的であるが、この方法では基板が大型化すればするほどパターンニング精度が出難いという問題があった。
そこで、高分子有機発光材料をインキ化し、これを印刷法によりパターンニングする方法が試みられるようになり、オフセット印刷による方法(特許文献1)、凸版印刷による方法(特許文献2)、スクリーン印刷による方法(特許文献3)などが提唱されている。
特開2001−93668号公報
特開2001−155858号公報
特開平3−269995号公報
しかし、オフセット印刷では、版からブランケットへの転移時とブランケットから基板への転移時の2回、インキの取り合いが起こり、転移ムラや膜厚の不安定化が起こり易い。
その点、フレキソ印刷(凸版印刷)では、アニロックスロールから版へのインキングでは、膜厚は非常に安定しており、インキの版から基材への転移時に1回だけインキの取り合いが起こるだけであり、オフセット印刷よりも膜厚は安定する。
しかしながら、通常、フレキソ印刷では、感光性樹脂を用いて露光、現像により製版するが、感光性樹脂は、有機発光材料インキの溶剤であるトルエン、キシレン等に対する耐性が低いという問題が有った。
さらに、スクリーン印刷法では、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の膜厚として最適な100nm程度の薄膜化が困難である。
しかしながら、通常、フレキソ印刷では、感光性樹脂を用いて露光、現像により製版するが、感光性樹脂は、有機発光材料インキの溶剤であるトルエン、キシレン等に対する耐性が低いという問題が有った。
さらに、スクリーン印刷法では、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の膜厚として最適な100nm程度の薄膜化が困難である。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、印刷版の膨潤がなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の高精細なパターニングが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために請求項1に記載の発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも、有機発光層を、凸版印刷法により形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、使用する印刷版が、前記有機発光層を形成するために使用する有機発光材料インキの溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムから形成された凸版であることを特徴とする。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記耐溶剤性の高いゴムは、溶解度パラメータ(SP値)8.0未満の合成ゴムであることを特徴とする
また、請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記耐溶剤性の高いゴムは、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴムであることを特徴とする。
また、請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記耐溶剤性の高いゴムは、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴムであることを特徴とする。
また、請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記使用する印刷版は、レーザ彫刻法により製版されていることを特徴とする。
また、請求項5に記載の発明は、基板に有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも、有機発光層を凸版印刷法により形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、溶剤で希釈された有機発光材料インキを供給するインキ供給手段と、前記インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキ転移ロールと、前記インキ転移ロール近接して配置され、前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように作製された凸版がマウントされる版胴と、前記インキ転移ロール及び版胴を回転駆動する駆動手段とを有することを特徴とする。
また、請求項6に記載の発明は、基板に有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも、有機発光層を凸版印刷法により形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、溶剤で希釈された有機発光材料インキを供給するインキ供給手段と、前記インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキ転移ロールと、 前記インキ転移ロール近接して配置され、前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように作製された凸版がマウントされる版胴と、前記インキ転移ロール及び版胴を回転駆動する駆動手段と、前記版胴にマウントされた凸版に転移した前記有機発光材料インキを前記基板に転写する際に加熱・溶融させる加熱手段と、前記駆動手段を駆動制御し、かつ加熱手段の加熱タイミングを制御する制御手段とを有することを特徴とする。
また、請求項7に記載の発明は、請求項5または6のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、前記凸版は、前記有機発光層を形成するために使用する有機発光材料インキの溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムで形成されていることを特徴とする。
また、請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、前記耐溶剤性の高いゴムは、溶解度パラメータ(SP値)8.0未満の合成ゴムであることを特徴とする
また、請求項9に記載の発明は、請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセス素子の製造装置において、前記耐溶剤性の高いゴムは、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴムであることを特徴とする。
また、請求項9に記載の発明は、請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセス素子の製造装置において、前記耐溶剤性の高いゴムは、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴムであることを特徴とする。
また、請求項10に記載の発明は、請求項5乃至9のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、前記凸版は、レーザ彫刻法により製版されていることを特徴とする。
以上説明したように、本発明によれば、有機発光材料インキに使用する溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムで形成した印刷版を使用して有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも、発光層を基板上に形成するようにしたので、印刷版の膨潤がなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の高精細なパターニングが可能となるという効果が得られる。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。本発明の第1実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を図1に示す。本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、平台式フレキソ印刷機を含んで構成される。
図1において、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、インキタンク10と、インキチャンバー12と、アニロックスロール14と、凸版16がマウントされた版胴18と、レーザ照射装置20とを有している。
図1において、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、インキタンク10と、インキチャンバー12と、アニロックスロール14と、凸版16がマウントされた版胴18と、レーザ照射装置20とを有している。
平台20には、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成するガラス基板24が凸版16による印刷位置まで図示してない搬送手段により搬送されるようになっている。
インキタンク10には、溶剤で希釈された有機発光材料インキが収容されており、インキチャンバー12にはインキタンク10より有機発光材料インキが送り込まれるようになっている。インキタンク10及びインキチャンバー12は、本発明のインキ供給手段に相当する。
インキタンク10には、溶剤で希釈された有機発光材料インキが収容されており、インキチャンバー12にはインキタンク10より有機発光材料インキが送り込まれるようになっている。インキタンク10及びインキチャンバー12は、本発明のインキ供給手段に相当する。
アニロックスロール14は、インキチャンバー12のインク供給部(図示せず)に接して回転可能に支持されており、アニロックスロール14の回転に伴い、ロール表面に供給された有機発光材料インキのインキ層14aは均一な膜厚に形成されるようになっている。アニロックスロール14は、本発明のインキ転移ロールに相当する。
また、版胴16は、アニロックスロール14に近接して配置され、ガラス基板24に形成する有機発光層のパターンに対応するように作製された凸版16がマウントされている。
この凸版16は、ガラス基板24上に形成される有機発光層のパターンに対応するようにレーザ光により製版される。
凸版16は、上記有機発光層を形成するために使用する有機発光材料インキの溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムで形成される。具体的には、上記耐溶剤性の高いゴムは、溶解度パラメータ(SP値)8.0未満の合成ゴムであることが望ましい。合成ゴムの溶解度パラメータ(SP値)と耐溶剤性との関係を表1に、有機発光材料インキの溶剤の種類と各溶剤の溶解度パラメータ(SP値)との関係を表2に、それぞれ示す。
凸版16は、本実施形態では、シート状の金属薄板の上に、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴムからなる凸版が形成されているシート状の版を、シリンダー状の版胴に巻きつける方式の版を用いた。
また、凸版の形成はレーザ彫刻機を用いて行った。
この凸版16は、ガラス基板24上に形成される有機発光層のパターンに対応するようにレーザ光により製版される。
凸版16は、上記有機発光層を形成するために使用する有機発光材料インキの溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムで形成される。具体的には、上記耐溶剤性の高いゴムは、溶解度パラメータ(SP値)8.0未満の合成ゴムであることが望ましい。合成ゴムの溶解度パラメータ(SP値)と耐溶剤性との関係を表1に、有機発光材料インキの溶剤の種類と各溶剤の溶解度パラメータ(SP値)との関係を表2に、それぞれ示す。
また、凸版の形成はレーザ彫刻機を用いて行った。
アニロックスロール14及び版胴18は、図示してない歯車機構等の駆動機構及びモータ等の駆動装置を含む駆動手段により回転駆動されるようになっている。
また、レーザ照射装置22は、例えば、平台20の下部に設置されており、レーザ照射装置22のレーザ光が出力される側には、図1上、版胴の軸方向と平行な方向にレーザ光を走査するためのポリゴンミラーを含む光学系が設けられている。
また、レーザ照射装置22は、例えば、平台20の下部に設置されており、レーザ照射装置22のレーザ光が出力される側には、図1上、版胴の軸方向と平行な方向にレーザ光を走査するためのポリゴンミラーを含む光学系が設けられている。
レーザ照射装置22は、ポリゴンミラー等の光学系を介してガラス基板24の下面から、版胴18にマウントされた凸版16に転移した有機発光材料インキをガラス基板24に転写する際に加熱・溶融させる機能を有している。レーザ照射装置22は、本発明の加熱手段に相当する。
また、図示していないが、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、前記駆動手段を駆動制御し、かつ有機発光材料インキを加熱する加熱手段としてのレーザ照射装置22の加熱タイミング、すなわちレーザ光の照射タイミングを制御する制御部を有している。この制御部は、本発明の制御手段に相当する。
有機発光材料インキとしては、高分子蛍光体であるポリフェニレンビニレン誘導体をトルエンに溶かした溶液を用いた。
被印刷体であるガラス基板24としては、透明電極であるインジウム−錫酸化物(ITO)膜が有機エレクトロルミネッセンス素子の画素に合わせてパターンニングして形成されているガラス基板の上に、正孔輸送層を全面にコーティングした基板を用いた。
また、正孔輸送材料は、ポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルフォン酸からなる高分子材料を用いた。
被印刷体であるガラス基板24としては、透明電極であるインジウム−錫酸化物(ITO)膜が有機エレクトロルミネッセンス素子の画素に合わせてパターンニングして形成されているガラス基板の上に、正孔輸送層を全面にコーティングした基板を用いた。
また、正孔輸送材料は、ポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルフォン酸からなる高分子材料を用いた。
上記構成において、図示してない駆動手段により、凸版16がマウントされた版胴18が回転駆動されると、アニロックスロール14は、インキタンク10より供給された有機発光材料インキが満たされたインキチャンバー12のインキ供給部にロール表面が接触することによりロール表面に均一な膜厚のインキ層14aが形成される。
このインキ層のインキは、アニロックスロール14に近接して回転駆動される版胴18にマウントされた凸版16の凸部に転移する。
一方、被印刷体であるガラス基板24は、図示してない搬送手段により平台20上に印刷位置まで搬送され、有機発光材料インキが転移した凸版16により有機発光層のパターンが転写される際、すなわち凸版16に転移した乾燥した有機発光材料インキがガラス基板24に接触する際にレーザ照射装置22により、該有機発光材料インキに対し、レーザ光が照射されて加熱・溶融され、この状態でガラス基板24に接触するため、有機発光層のパターンがガラス基板24に転写される。
一方、被印刷体であるガラス基板24は、図示してない搬送手段により平台20上に印刷位置まで搬送され、有機発光材料インキが転移した凸版16により有機発光層のパターンが転写される際、すなわち凸版16に転移した乾燥した有機発光材料インキがガラス基板24に接触する際にレーザ照射装置22により、該有機発光材料インキに対し、レーザ光が照射されて加熱・溶融され、この状態でガラス基板24に接触するため、有機発光層のパターンがガラス基板24に転写される。
図2は、有機発光材料インキが転移した凸版16からガラス基板20に有機発光材料インキがレーザ光の照射により、加熱・溶融され、ガラス基板24上に有機発光層のパターンが転写される状態を示している。図2において、矢印Aは、図1に示した実施形態において、レーザ光がガラス基板の下方から照射されることにより凸版16に転移した有機発光材料インキが加熱・溶融される状態を示している。
また、矢印Bは、レーザ光をガラス基板24上の横方向から有機発光材料インキに照射する例を示している。この場合における、第2実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を図3に示す。
図1に示した第1実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置と構成上、異なるのは、レーザ照射装置22から出射されるレーザ光を平台20上のガラス基板24の上方かつ横方向から凸版18に転移した有機発光材料インキに対して照射するように構成した点であり、その他の構成は図1に示す製造装置と同様であるの重複する説明は省略する。
図1に示した第1実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置と構成上、異なるのは、レーザ照射装置22から出射されるレーザ光を平台20上のガラス基板24の上方かつ横方向から凸版18に転移した有機発光材料インキに対して照射するように構成した点であり、その他の構成は図1に示す製造装置と同様であるの重複する説明は省略する。
なお、レーザ照射装置22の設置位置は、レーザ照射装置22から出射されるレーザ光を平台20上のガラス基板24の上方かつ横方向から凸版18に転移した有機発光材料インキに対して照射できれば、何処に配置してもよい。
[実施例1]
厚さ3mmのブチルゴムからなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、レーザ彫刻機を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
厚さ3mmのブチルゴムからなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、レーザ彫刻機を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
[実施例2]
厚さ3mmのエチレンプロピレンゴムからなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、レーザ彫刻機を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
厚さ3mmのエチレンプロピレンゴムからなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、レーザ彫刻機を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
[比較例1]
厚さ3mmのブタジエンゴムからなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、レーザ彫刻機を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
厚さ3mmのブタジエンゴムからなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、レーザ彫刻機を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
[比較例2]
厚さ3mmのアクリル系の感光性樹脂からなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、フォトリソ法を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。フォトリソ法は、ネガフィルムを用いて感光性樹脂からなる版材を紫外線露光し、これを現像液で洗浄して未露光部の樹脂を洗い流すことで製版する方法を用いた。
厚さ3mmのアクリル系の感光性樹脂からなる版材に、線幅100μm、ピッチ150μmのストライプの印刷画像を形成するように、フォトリソ法を用いて凸版16を製版した。この版を用いて、本実施形態に係る製造装置(印刷機)で有機発光材料インキをパターンニングして印刷することで、ガラス基板24上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。フォトリソ法は、ネガフィルムを用いて感光性樹脂からなる版材を紫外線露光し、これを現像液で洗浄して未露光部の樹脂を洗い流すことで製版する方法を用いた。
上記実施例1、実施例2及び比較例1、比較例2で印刷した基板上の画素の線幅を評価したところ、実施例1、実施例2では100μm±5μm以内に収まっていたが、比較例1では100μm±5μmを超える個所が存在し、比較例2では100μm±10μmを超える個所も存在した。
さらに印刷を終えた版の膨潤率を測ったところ、実施例1、実施例2の版ではいずれも5%以下であったのに対して、比較例1の版では10〜15%、比較例2の版では約20%の膨潤率を示した。
さらに印刷を終えた版の膨潤率を測ったところ、実施例1、実施例2の版ではいずれも5%以下であったのに対して、比較例1の版では10〜15%、比較例2の版では約20%の膨潤率を示した。
以上に説明したように、本発明の実施形態によれば、有機発光材料インキに使用する溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムで形成した印刷版を使用して有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも、発光層をガラス基板上に形成するようにしたので、印刷版の膨潤がなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の高精細なパターニングが可能となる。
10…インキタンク
12…インキチャンバー
14…アニロックスロール
14a…インキ層
16…凸版
18…版胴
20…平台
22…レーザ照射装置
24…ガラス基板
12…インキチャンバー
14…アニロックスロール
14a…インキ層
16…凸版
18…版胴
20…平台
22…レーザ照射装置
24…ガラス基板
Claims (10)
- 有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、凸版印刷法により形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
使用する印刷版が、前記有機発光層を形成するために使用する有機発光材料インキの溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムから形成された凸版であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 前記耐溶剤性の高いゴムは、溶解度パラメータ(SP値)8.0未満の合成ゴムであることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記耐溶剤性の高いゴムは、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴムであることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記使用する印刷版は、レーザ彫刻法により製版されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 基板に有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも、有機発光層を凸版印刷法により形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、
溶剤で希釈された有機発光材料インキを供給するインキ供給手段と、
前記インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキ転移ロールと、
前記インキ転移ロール近接して配置され、前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように作製された凸版がマウントされる版胴と、
前記インキ転移ロール及び版胴を回転駆動する駆動手段と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 基板に有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも、有機発光層を凸版印刷法により形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、
溶剤で希釈された有機発光材料インキを供給するインキ供給手段と、
前記インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキ転移ロールと、
前記インキ転移ロール近接して配置され、前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように作製された凸版がマウントされる版胴と、
前記インキ転移ロール及び版胴を回転駆動する駆動手段と、
前記版胴にマウントされた凸版に転移した前記有機発光材料インキを前記基板に転写する際に加熱・溶融させる加熱手段と、
前記駆動手段を駆動制御し、かつ加熱手段の加熱タイミングを制御する制御手段と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 前記凸版は、前記有機発光層を形成するために使用する有機発光材料インキの溶剤に関して耐溶剤性の高いゴムで形成されていることを特徴とする請求項5または6のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
- 前記耐溶剤性の高いゴムは、溶解度パラメータ(SP値)8.0未満の合成ゴムであることを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
- 前記耐溶剤性の高いゴムは、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴムであることを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
- 前記凸版は、レーザ彫刻法により製版されていることを特徴とする請求項5乃至9のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
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JP (1) | JP2005310409A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006069120A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 電子回路あるいは光学部材の製造方法 |
JP2008006705A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 印刷装置 |
KR101238004B1 (ko) | 2006-03-20 | 2013-03-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 전계발광소자의 제조방법 및 몰드기판의 제조방법 |
CN103909758A (zh) * | 2013-01-09 | 2014-07-09 | 住友橡胶工业株式会社 | 柔性印刷板及其制造方法以及液晶面板用基板的制造方法 |
JP2019209580A (ja) * | 2018-06-04 | 2019-12-12 | 大倉工業株式会社 | フレキソ印刷機、及び該印刷機を用いた印刷フィルムの製造方法、並びに印刷フィルム |
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2004
- 2004-04-16 JP JP2004122191A patent/JP2005310409A/ja not_active Withdrawn
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