JP2005308848A - 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 171
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 66
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 400
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 170
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 115
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 69
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 35
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 7
- 239000004976 Lyotropic liquid crystal Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 43
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 43
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 32
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 32
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 23
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 17
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 17
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 16
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 15
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 12
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 12
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 12
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000002535 lyotropic effect Effects 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 241000255777 Lepidoptera Species 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGRGMDZIEXDEQT-UHFFFAOYSA-N [Cl].[Xe] Chemical compound [Cl].[Xe] JGRGMDZIEXDEQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001810 electrochemical catalytic reforming Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- CUPFNGOKRMWUOO-UHFFFAOYSA-N hydron;difluoride Chemical compound F.F CUPFNGOKRMWUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】アクティブ基板11と対向基板13とを対向させ、基板間に設けたスペーサーによりアクティブ基板11と対向基板13との間隔を保って形成された空間に液晶層13が封止された液晶表示装置1の製造方法において、アクティブ基板11および対向基板13の液晶層13側に第1偏光膜14および第2偏光膜15を形成し、アクティブ基板11および対向基板13に複屈折を有する基板を用いるものである。
【選択図】図1
Description
Claims (8)
- 対向する1対の基板の少なくとも一方に液晶駆動用電極が形成され、
前記基板間に設けたスペーサーにより前記基板間の間隔を保って形成された空間に液晶が封止された液晶表示装置の製造方法において、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の前記液晶側に偏光膜を形成し、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板に複屈折を有する基板を用いる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 一対の対向する基板間に液晶が封入されてなる液晶表示装置の製造方法であって、
前記一対の対向する基板のうち、薄膜デバイス層が形成される基板は、
第1基板上に偏光膜を含む薄膜デバイス層を形成した後に前記薄膜デバイス層上に第1接着層を介してもしくは被覆層と第1接着層とを介して第2基板を接着する工程と、
化学処理および機械的研磨処理および紫外線照射処理の少なくとも一つの処理を含む工程により前記第1基板を完全または部分的に分離または除去する工程と、
前記薄膜デバイス層の第1基板が形成されていた側または部分的に残した第1基板を、第2接着層を介して第3基板に接着する工程と、
前記第2基板を分離または除去する工程と
により製造される
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記第3基板に複屈折を有する基板を用いる
ことを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記偏光膜は前記リオトロピック液晶を塗布した後に硬化させることによって形成される
ことを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置の製造方法。 - 対向する1対の基板の少なくとも一方に液晶駆動用電極が形成され、
前記基板間に設けたスペーサーにより前記基板間の間隔を保って形成された空間に液晶が封止された液晶表示装置において、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の液晶側に偏光膜が形成され、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板が複屈折を有する
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 一対の対向する基板間に液晶が封入されてなる液晶表示装置であって、
前記一対の対向する基板のうち、薄膜デバイス層が形成される基板は、
第1基板上に偏光膜を含む薄膜デバイス層を形成した後に前記薄膜デバイス層上に第1接着層を介してもしくは被覆層と第1接着層とを介して第2基板を接着する工程と、
化学処理および機械的研磨処理および紫外線照射処理の少なくとも一つの処理を含む工程により前記第1基板を完全または部分的に分離または除去する工程と、
前記薄膜デバイス層の第1基板が形成されていた側または部分的に残した第1基板を、第2接着層を介して第3基板に接着する工程と、
前記第2基板を分離または除去する工程と
により製造されるものからなる
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第3基板は複屈折を有する基板からなる
ことを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置。 - 前記偏光膜は前記リオトロピック液晶を塗布した後に硬化させることによって形成される
ことを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004122497A JP4716081B2 (ja) | 2004-04-19 | 2004-04-19 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004122497A JP4716081B2 (ja) | 2004-04-19 | 2004-04-19 | 液晶表示装置の製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005308848A true JP2005308848A (ja) | 2005-11-04 |
JP4716081B2 JP4716081B2 (ja) | 2011-07-06 |
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JP2004122497A Expired - Lifetime JP4716081B2 (ja) | 2004-04-19 | 2004-04-19 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP4716081B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008276234A (ja) * | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Samsung Electronics Co Ltd | 薄膜トランジスタ表示板と、これを用いた表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2009115865A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
JP6146489B1 (ja) * | 2016-01-06 | 2017-06-14 | 大日本印刷株式会社 | 調光フィルム及び調光フィルムの製造方法 |
JP2021082835A (ja) * | 2008-04-25 | 2021-05-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2022069697A (ja) * | 2007-03-13 | 2022-05-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61500816A (ja) * | 1983-12-22 | 1986-04-24 | ポラロイド コ−ポレ−シヨン | 液晶表示器 |
JP2001201767A (ja) * | 2000-01-20 | 2001-07-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 液晶表示パネルおよび液晶表示装置 |
JP2001305526A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Seiko Epson Corp | 液晶装置および電子機器 |
WO2002084739A1 (en) * | 2001-04-13 | 2002-10-24 | Sony Corporation | Thin film-device manufacturing method, and semiconductor device |
-
2004
- 2004-04-19 JP JP2004122497A patent/JP4716081B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61500816A (ja) * | 1983-12-22 | 1986-04-24 | ポラロイド コ−ポレ−シヨン | 液晶表示器 |
JP2001201767A (ja) * | 2000-01-20 | 2001-07-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 液晶表示パネルおよび液晶表示装置 |
JP2001305526A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Seiko Epson Corp | 液晶装置および電子機器 |
WO2002084739A1 (en) * | 2001-04-13 | 2002-10-24 | Sony Corporation | Thin film-device manufacturing method, and semiconductor device |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022069697A (ja) * | 2007-03-13 | 2022-05-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2008276234A (ja) * | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Samsung Electronics Co Ltd | 薄膜トランジスタ表示板と、これを用いた表示装置および表示装置の製造方法 |
US8884290B2 (en) | 2007-05-02 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array panel, display device including the panel, and method for manufacturing the display device |
JP2009115865A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
JP2021082835A (ja) * | 2008-04-25 | 2021-05-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP7150908B2 (ja) | 2008-04-25 | 2022-10-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP6146489B1 (ja) * | 2016-01-06 | 2017-06-14 | 大日本印刷株式会社 | 調光フィルム及び調光フィルムの製造方法 |
JP2017122808A (ja) * | 2016-01-06 | 2017-07-13 | 大日本印刷株式会社 | 調光フィルム及び調光フィルムの製造方法 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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