JP2005305806A - ペースト膜形成装置 - Google Patents

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Yosuke Takagi
洋介 高木
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NSK Ltd
NSK Precision Co Ltd
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Abstract

【課題】バンプ等に転写されるペーストの粘度が低い場合でも転写ステージ上に所定厚さのペースト膜を形成することのできるペースト膜形成装置を提供する。
【解決手段】転写ステージ13の上面に成膜スキージ15と均しスキージ14とを平行に配置し、これらのスキージ14,15を幅方向と直交する方向に往復運動させて転写ステージ13上にペースト膜を形成するペースト膜形成装置において、成膜スキージ15の横幅w1を転写ステージ13の横幅w2より大きくし、かつ転写ステージ13の周囲にペースト溜り溝17を形成するとともに、均しスキージ14の幅方向両端部にペースト溜り溝17に溜まったペーストを成膜スキージ15と均しスキージ14との間に形成された空間部にかき上げるペーストかき上げ部19を設ける。
【選択図】図2

Description

本発明は、電子部品のバンプ(突起電極)などに転写されるペースト膜を形成するペースト膜形成装置に関する。
フリップチップなどの電子部品を基板に実装する場合は、図6に示すように、電子部品1の下面に設けられたバンプ2にフラックス等のペースト膜3を転写して実装されるが、バンプに転写されるペースト膜の膜厚が厚過ぎたり、不均一であったりすると良好な実装品質を確保することが困難となる場合がある。そこで、バンプに転写されるペースト膜を形成する装置として、従来、図7に示すような回転型のペースト膜形成装置が知られている。このペースト膜形成装置は円形の回転ステージ4を有しており、この回転ステージ4の上面に供給されたペーストをスキージ5でスキージしてパンプに転写されるペースト膜3を形成するように構成されている。
このような回転型のペースト膜形成装置はスキージ5の前方に形成されたポケット6に余分なペーストを溜めておくことができるため、ペーストを連続的に供給する必要がないという利点を有しているが、転写面積に対して数倍の直径を有する回転ステージ4を必要とするため、装置の大型化を招くという難点がある。
そこで、かかる難点を解消するために、図8に示すように、転写ステージ13の上面に均しスキージ14と成膜スキージ15とを平行に配置し、これらのスキージ14,15を幅方向と直交する方向に往復運動させて転写ステージ13上にペースト膜3を形成するようにしたものが考案されている。
しかしながら、図8に示したペースト膜形成装置では、転写ステージ13上に供給されるペーストの粘度が著しく低い場合には、図9に示すように、均しスキージ14と成膜スキージ15との間に溜まった余分なペーストが成膜スキージ15の両端側から転写ステージ13上に流れ込むことがあるため、ペーストの粘度が著しく低い場合にはバンプに転写されるペーストの膜厚に影響を及ぼす可能性があった。
なお、これを防止するために、成膜スキージ15及び均しスキージ14の横幅を転写ステージ13の横幅より大きくすると、ペーストを回収及び再供給する機構が別途必要となるという問題があった。
本発明は、このような問題点に着目してなされたものであり、バンプ等に転写されるペーストの粘度が低い場合でも転写ステージ上に所定厚さのペースト膜を形成することのできるペースト膜形成装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明は、転写ステージの上面に成膜スキージと均しスキージとを平行に配置し、これらのスキージを幅方向と直交する方向に往復運動させて前記転写ステージ上にペースト膜を形成するペースト膜形成装置において、前記成膜スキージの横幅を前記転写ステージの横幅より大きくし、かつ前記転写ステージの周囲にペースト溜り溝を形成するとともに、前記均しスキージの幅方向両端部に前記ペースト溜り溝に溜まったペーストを前記成膜スキージと前記均しスキージとの間に形成された空間部にかき上げるためのペーストかき上げ部を設けたことを特徴とする。
本発明に係るペースト膜形成装置では、成膜スキージの横幅を転写ステージの横幅より大きくしたことで、余分なペーストが成膜スキージの両端側から転写ステージ上に流れ込むことを防止できるので、ペーストの粘度が低い場合でも転写ステージ上に所定厚さのペースト膜を形成することができる。また、前記転写ステージの周囲にペースト溜り溝を形成するとともに、前記均しスキージの幅方向両端部に前記ペースト溜り溝に溜まったペーストを前記成膜スキージと前記均しスキージとの間に形成された空間部にかき上げるペーストかき上げ部を設けたことで、ペースト溜り溝に溜まったペーストを成膜スキージと均しスキージとの間に形成された空間部に供給できるので、ペーストの回収及び再供給する機構を別途必要とせずに転写ステージ上に所定厚さのペースト膜を形成することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るペースト膜形成装置の概略構成を示す斜視図である。同図において、符号11は固定ベース、12は固定ベース11の上面に設置されたZステージを示しており、このZステージ12の上面には、電子部品のパンプにペースト膜を転写するための転写ステージ13が設置されている。
転写ステージ13はその上面が方形状に形成されており、この転写ステージ13の上面には、転写ステージ13上のペーストを一定の厚さに均すための均しスキージ14(図2参照)が配設されているとともに、均しスキージ14で一定の厚さに均されたペーストを電子部品のバンプに転写される膜厚に成膜するための成膜スキージ15が配設されている。
均しスキージ14及び成膜スキージ15は転写ステージ13上に平行に配置されており、転写ステージ13を支持する固定ベース11には、均しスキージ14及び成膜スキージ15を幅方向と直交する方向に往復駆動するエアー駆動スライダ16(図1参照)が設けられている。
成膜スキージ15はその横幅w1(図2参照)が転写ステージ13の横幅w2より大きく形成されており、転写ステージ13の周囲には、ペーストを溜めておくためのペースト溜り溝17(図2及び図3参照)が形成されている。
均しスキージ14は金属製の薄板からなり、薄板の両端部を折り曲げて形成されている。また、均しスキージ14は成膜スキージ15よりも幅広に形成されており、この均しスキージ14の幅方向両端部(薄板の折り曲げ部分)には、ペースト溜り溝17に溜まったペーストを均しスキージ14と成膜スキージ15との間に形成された空間部18にかき上げるブレード状のペーストかき上げ部19(図2〜図4参照)が設けられている。なお、図中20はZステージ12に設けられ、転写ステージ13のZ方向(高さ方向)の位置を調整し、成膜スキージ15と転写ステージ13との間隙を調節するためのマイクロメータヘッドを示している。
上述のように、成膜スキージ15の横幅w1を転写ステージ13の横幅w2より大きくしたことで、均しスキージ14と成膜スキージ15との間に溜まったペーストが成膜スキージ15の両端側から転写ステージ13上に流れ込むことを防止することができる。したがって、ペーストの粘度が低い場合でも転写ステージ13上に所定厚さのペースト膜を形成することができる。
また、転写ステージ13の周囲にペースト溜り溝17を形成するとともに、均しスキージ14の幅方向両端部にペーストかき上げ部19を設けたことで、図5に示すように、均しスキージ14及び成膜スキージ15を図中矢印A方向に移動させたときに、ペースト溜り溝17に溜まったペーストが均しスキージ14の幅方向両端部に設けられたペーストかき上げ部19により均しスキージ14と成膜スキージ15の間の空間部18にかき上げられ、空間部18にかき上げられたペーストは均しスキージ14により転写ステージ13の上面に一定の厚さで均される(図5(a))。したがって、ペースト溜り溝17に溜まったペーストを成膜スキージ15と均しスキージ14との間に形成された空間部18に供給できるので、ペーストの回収及び再供給する機構を別途必要とせずに転写ステージ13上に所定厚さのペースト膜を形成することができる。
なお、空間部18にかき上げられたペーストを転写ステージ13の上面に一定の厚さで均した後は、図5(b)に示す復路工程において均しスキージ14及び成膜スキージ15を図中矢印A方向と反対方向に移動させる。そうすると、成膜スキージ15によって転写ステージ13上のペーストが電子部品のバンプに転写される膜厚に成膜される。その際、転写ステージ13の四方がペースト溜り溝17で囲まれているため、極めて粘度の低いフラックス(ペースト)であっても成膜スキージ15によって掻き取られた余分なペーストが従来のように成膜スキージ15の両端側から転写ステージ13上に流れ込むことを防止できる。
本発明の一実施形態に係るペースト膜形成装置の概略構成を示す図である。 図1に示す転写ステージの平面図である。 図2のIII−III断面図である。 図2のIV−IV断面図である。 図1に示すペースト膜形成装置の作用を説明するための図である。 電子部品のダンプにペーストを転写する方法を示す図である。 従来の回転型のペースト膜形成装置を説明するための図である。 従来の往復型のペースト膜形成装置を説明するための図である。 図8に示すペースト膜形成装置の問題点を説明するための図である。
符号の説明
1 電子部品
2 バンプ
3 ペースト膜
11 固定ベース
12 Zステージ
13 転写ステージ
14 均しステージ
15 成膜ステージ
16 エアー駆動スライダ
17 ペースト溜り溝
18 空間部
19 ペーストかき上げ部

Claims (1)

  1. 転写ステージの上面に成膜スキージと均しスキージとを平行に配置し、これらのスキージを幅方向と直交する方向に往復運動させて前記転写ステージ上にペースト膜を形成するペースト膜形成装置において、
    前記成膜スキージの横幅を前記転写ステージの横幅より大きくし、かつ前記転写ステージの周囲にペースト溜り溝を形成するとともに、前記均しスキージの幅方向両端部に前記ペースト溜り溝に溜まったペーストを前記成膜スキージと前記均しスキージとの間に形成された空間部にかき上げるためのペーストかき上げ部を設けたことを特徴とするペースト膜形成装置。
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