JP2005300077A - 循環流動炉 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ライザ11と、サイクロン16と、ダウンカマー18と、シールポット19と、流動媒体の戻し管20と、を備えた循環流動炉10であって、前記シールポット19が、流動媒体の流入室19aと流出室19bからなる連通する2の空間から形成され、これらの空間の下部から夫々流動化ガス33a、33bを導入する構成とし、前記流出室19bの空塔速度が前記流入室19aの空塔速度より大となるように流動化ガスを夫々制御する手段を設けるとともに、前記戻し管20と前記ライザ11との接続高さ位置の下限を流動媒体の静止層高の約1倍とし、接続高さ位置の上限を前記ライザの二次空気導入口とする。
【選択図】 図1
Description
一般的な循環流動炉の構成を図4に示す。該循環流動炉60は、被処理物を受け入れて燃焼させる縦置円筒状のライザ61と、燃焼排ガスから流動媒体を分離するサイクロン64と、該サイクロン64で捕集した飛灰を落下させるダウンカマー65と、該流動媒体を堆積させて炉内未燃ガスのサイクロン64への吹き抜けを防止するシールポット66と、該シールポット66の飛灰を前記ライザ61に返送する戻し管67とから構成される。
このような循環流動炉は例えば特許文献1(特開2004−3757号公報)、特許文献2(特開2001−235128号公報)等に記載されている。かかる炉構造では飛灰、流動媒体を含む炉内ガスが高速で循環するため、燃焼速度が高く、燃焼効率が良いが、炉内の温度分布を適正に保持し、燃焼効率を高く維持するためには流動媒体の循環を円滑に行なう構造とすることが必要である。
しかし、ライザの流動層下部は圧力変動が大きいため、この圧力変動が直接シールポットの流動化に影響を与えてしまうため、流動媒体の循環を円滑に行なうことは困難であるという問題がある。
特許文献2ではこの問題を解消するため、図4に示すように連通した2の流動室66a、66bからなるシールポット構造を採用し、これらの流動室に夫々独立して流動用空気を吹き込み、炉内ガスの逆流防止、流動媒体の円滑な返送を達成している。
特許文献1及び2のように、流動媒体戻し管の高さが低く、流動媒体の流動が小さい濃厚層高さに位置する場合には、濃厚層の圧力変動を受けることとなり、シールポット内にも圧力変動が生じる。その結果、間欠的にシールポット流動空気がサイクロン側へ流れ込みサイクロンの下方から吹き上げるため、サイクロンから流動媒体が飛散し、ライザ内に循環する流動媒体が減少してしまい、適正量の流動媒体循環量を維持することが困難となる。また流動媒体を頻繁に補充しなければならないためランニングコストが増大する。
さらに、粒径の大きい粒子がライザ下部に溜まって流動しなくなった場合、シールポットから返送される流動媒体がライザに入らなくなる惧れがある。
従って、本発明は上記従来技術の問題点に鑑み、サイクロンからの流動媒体の飛散を回避し、流動媒体を円滑に循環させ、安定した燃焼処理を行うことができる循環流動炉を提供することを目的とする。
被処理物を流動媒体と混合しながら燃焼させるライザと、該ライザの排ガスからサイクロンにより分離捕集した流動媒体を導入するシールポットと、該シールポットに溜まった流動媒体を前記ライザに返送する戻し管と、を備え、前記シールポットが、流動媒体の流入室と流出室からなる連通する2の空間から形成され、これらの空間の下部から夫々流動化ガスを導入する構成とした循環流動炉において、
前記流出室の空塔速度が前記流入室の空塔速度より大となるように前記流動化ガスを夫々制御する手段を設けるとともに、前記戻し管と前記ライザの接続高さ位置を、流動媒体の静止層高の約1倍より高く、かつ前記ライザの二次空気導入口高さより低い位置としたことを特徴とする。
本発明者らは、被処理物を下水汚泥とし、ライザ高さが24mで、静止状態の流動媒体高さ(静止層高)がライザ底部の散気板(静止層底部)から1mの位置に設けられている循環流動炉を用い、一般的な循環流動炉の空塔速度である4〜7m/sの範囲内で運転して実験を行なった結果、図3のライザ内圧力分布に示すとおり、静止層高の約1倍の位置までは圧力が高く、それより上になると急激に圧力が低下することがわかった。これは、一次空気を導入すると静止砂量の約3割はライザ上部に浮遊、循環しており、残りの約7割はライザ下部で濃厚層を形成するが、一次空気による層膨張により、濃厚層表面が静止層高に近づくためと考えられる。
また、前記流動媒体の戻し位置の上限を二次空気導入口とし、これより低い位置に流動媒体を導入する構成とすることにより、ライザに返送された高温の流動媒体が直ぐに二次空気に巻かれてフリーボードへ飛ばされずに、ライザ下部に高温の流動媒体が落下し、確実に濃厚層に取り込まれるため、ライザ下部の温度を高温に維持できる。これにより、含水率の高い下水汚泥等の被処理物においても、十分に乾燥し、効率良い燃焼が行なわれる。
尚、戻し位置の定義は、戻し管下端位置とする。これは、シールポットにかかる背圧は戻し管下端の最も圧力が高い部分に左右される他、高温の流動砂は戻し管の下端を通ってライザへ供給されるため、本発明の効果を確認するために最も注意すべき部分であるためである。
従って本発明によれば、これらの組み合わせによりサイクロンからの流動媒体の飛散を確実に防ぐことができ、ランニングコストの低廉化を可能とする。また、ライザ下部の温度低下を防止し、ライザ下部温度を高く維持でき、含水率が高い汚泥等の被処理物であっても効率良く乾燥、燃焼、ガス化を行なうことができる。
本発明の被処理物としては、例えば下水汚泥、燃料ペレット(RDF)、バイオマス等が挙げられる。
また、前記流出室の空塔速度が約0.2〜0.6m/sとなり、前記流入室の空塔速度が約0.2m/s未満となるように、夫々の前記流動化ガスのガス流速を制御する手段を設けたことを特徴とする。これにより、流動媒体を円滑にライザに返送でき、かつ流動用空気のサイクロン側への流れ込みを防ぎ、サイクロンからの流動媒体の排出を防止することができる。
図1は本発明の実施例に係る循環流動炉の概略断面図、図2は図1の循環流動炉を具備した汚泥処理システムの全体構成図である。
本実施例では一例として被処理物に下水汚泥を用いているが、これに限定されるものではなく、都市ゴミ、産業廃棄物等にも適用できる。本実施例の処理対象として特に好適なものは、燃焼により流動媒体より小径の飛灰を発生する被処理物で、例えば下水汚泥、燃料ペレット(RDF)、バイオマスが挙げられる。
前記汚泥供給設備では、石灰石フィーダ41から供給される石灰石粉末を混合した汚泥50を、汚泥投入ポンプ41により所定量ずつ前記焼却設備に供給する。前記石灰石粉末の添加は、重金属類の溶出防止、HCl、SOx、ダイオキシン類等の有害ガス成分の発生抑制を目的とする。
前記熱回収・排ガス処理設備では、空気予熱器42にて高温で排出された前記排ガスと空気52とを熱交換した後、降温された排ガスをさらにガス冷却塔43にて冷却水53の噴霧により冷却し、消石灰フィーダ44にて消石灰を添加してバグフィルタ45に導入し、該バグフィルタ45にて排ガス中の飛灰を分離した後に煙突46から系外へ排出する。前記消石灰の添加は、HCl、SOx等の酸性成分の無害化を図る目的である。
一方、前記空気予熱器42で昇温された空気52は、前記循環流動炉10に導かれ、前記ライザ11の底部から導入する一次空気31、該ライザの11の炉壁から導入する二次空気32、及び前記循環流動炉10のシールポット19の底部から導入する流動用空気33a、33bに利用される。
前記ライザ11の下方には一次空気導入口22から導入される一次空気31により流動媒体が密に流動する濃厚層12が形成され、該濃厚層12の上方には流動媒体が飛散する希薄層13が形成される。前記濃厚層12には、前記汚泥投入口21より投入された汚泥が落下し、ここで汚泥の乾燥、燃焼が行なわれる。また、前記希薄層13では汚泥が飛散しながら燃焼、ガス化が行なわれ、前記ライザの中間部の二次空気導入口23から導入される二次空気により形成された上昇気流に搬送されて、飛散した流動媒体、飛灰、未燃物が希薄層13の上方のフリーボード14に運ばれる。
前記シールポット19は連通する2の空間からなり、第1の空間は前記ダウンカマー18の下方に位置し、前記サイクロン16にて捕集された流動媒体が流入する流入室19aで、第2の空間は前記流入室19aと下部で連通し、前記戻し管20を介してライザ11へ流動媒体を流出する流出室19bである。
前記流入室19a、前記流出室19bの底部には夫々流動用空気導入口24a、24bが設けられ、ここから流動用空気33a、33bが導入されてシールポット19に溜まった流動媒体を流動させる。
本実施例では、前流入室19aに導入する流動用空気33aと前記流出室19bに導入する流動用空気33bのガス流速を異ならせ、(流出室の空塔速度)>(流入室の空塔速度)となるように制御する。好適には、前記流出室19bの空塔速度が約0.2〜0.6m/sとなり、前記流入室19aの空塔速度が約0.2m/s未満となるように制御する。これらの空塔速度の制御は、図2に示したコントローラ25により行なうと良い。即ち、空気予熱器42で昇温された空気52を分岐させて、夫々一次空気31、二次空気32、流動用空気33a、33bに導入しているが、前記流動用空気33a、33bの空気導入ライン上に流量制御弁を設け、前記コントローラ25により前記流量制御弁を開閉制御して、前記空塔速度となるように制御する。
かかるシールポット19の構成とすることにより、ライザ11内の圧力を保持することができ、炉内ガスのサイクロンへの吹き抜けを確実に防止することができる。
さらに、前記接続高さ位置の上限を、前記ライザ11の二次空気導入口高さ位置Cとし、好適には(H0+H1)/2の高さ位置Dとする。このとき前記静止層高H0及び二次空気導入口高さH1は、濃厚層底部高さを基準とする。
前記静止層高Aとは、炉停止時の一次空気を導入しない静止状態の流動媒体高さである。
前記接続高さ位置の下限である流動媒体の静止層高Aの高さH0は、濃厚層12の高さとほぼ一致し、また(H0+H1)/2の高さ位置Dは、前記希薄層13の高さとほぼ一致することが実証されている。
尚、本実施例において、前記ライザ11内の空塔速度が比較的小さい場合には、前記接続高さ位置の下限を静止層高Aの高さH0の0.7倍の位置B(高さ0.7H0)としても良い。
また、前記接続高さ位置の上限を設定し、前記二次空気導入口23より低い位置に流動媒体を導入する構成とすることにより、ライザ11に返送された高温の流動媒体が直ぐに二次空気32に巻かれてフリーボード14へ飛ばされずに、ライザ11下部に高温の流動媒体が落下し、確実に濃厚層12に取り込まれるため、ライザ11下部の温度を高温に維持できる。これにより、含水率の高い下水汚泥等の被処理物においても、十分に乾燥し、効率良い燃焼を行なうことができる。
11 ライザ
12 濃厚層
13 希薄層
14 フリーボード
16 サイクロン
18 ダウンカマー
19 シールポット
19a、19b 流動室
20 戻し管
21 汚泥投入口
24a、24b 流動用空気導入口
25 コントローラ
31 一次空気
32 二次空気
33a、33b 流動用空気
Claims (4)
- 被処理物を流動媒体と混合しながら燃焼させるライザと、該ライザの排ガスからサイクロンにより分離捕集した流動媒体を導入するシールポットと、該シールポットに溜まった流動媒体を前記ライザに返送する戻し管と、を備え、前記シールポットが、流動媒体の流入室と流出室からなる連通する2の空間から形成され、これらの空間の下部から夫々流動化ガスを導入する構成とした循環流動炉において、
前記流出室の空塔速度が前記流入室の空塔速度より大となるように前記流動化ガスを夫々制御する手段を設けるとともに、前記戻し管と前記ライザの接続高さ位置を、流動媒体の静止層高より高く、かつ前記ライザの二次空気導入口高さより低い位置としたことを特徴とする循環流動炉。 - 前記静止層高をH0、前記二次空気導入口高さをH1とした時、前記戻し管と前記ライザの接続高さ位置を、(H0+H1)/2より低い位置としたことを特徴とする請求項1記載の循環流動炉。
- 前記被処理物は、該被処理物の燃焼により発生する灰の粒径が前記流動媒体の粒径より小である被処理物であることを特徴とする請求項1記載の循環流動炉。
- 前記流出室の空塔速度が約0.2〜0.6m/sとなり、かつ前記流入室の空塔速度が約0.2m/s未満となるように、夫々の前記流動化ガスのガス流速を制御する手段を設けたことを特徴とする請求項1記載の循環流動炉。
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